处理基板的设备和方法技术

提供了处理基板的设备和方法，更具体地涉及使用超临界流体处理基板的设备和方法。该处理基板的设备包括：处理室，在所述处理室中，余留在基板上的有机溶剂使用被提供为超临界流体的流体溶解以干燥所述基板；和再生单元，有机溶剂在所述再生单元中与从处理室排出的流体分离以再生所述流体。

【技术实现步骤摘要】
处理基板的设备和方法
这里揭示的本专利技术涉及处理基板的设备和方法，并且更具体地，涉及使用超临界流体（supercriticalfluid）处理基板的设备和方法。
技术介绍
半导体器件通过包括光刻工艺的各种工艺制成，光刻工艺用于在诸如硅片等的基板上形成电路图案。当制造半导体器件时，可以产生各种外来物质，诸如微粒、有机污染物、金属杂质等等。外来物质可导致基板缺陷而对半导体器件的产量直接造成不良的影响。由此，在半导体制造工艺中可能必需包括用于移除杂质的清洗工艺。一般来说，在典型的清洗工艺中，余留在基板上的外来物质用洗涤剂去除，然后使用去离子水（DI-水）清洗基板，使用异丙醇（IPA）干燥清洗后的基板。然而，在半导体器件具有精细的电路图案的情况中，干燥工艺可具有低效率。另外，由于电路图案的损伤，即在干燥工艺中经常发生的图案皱缩(collapse)，干燥工艺不适合于具有约30nm或更小的线宽的半导体器件。由此，为解决上述的局限，关于使用超临界流体来干燥基板的技术的研究正在积极地进行。
技术实现思路
本专利技术提供了使用超临界流体处理基板的设备和使用超临界流体处理基板的方法。本专利技术还提供了用于处理基板的设备，其中用来干燥基板的超临界流体被再生(recycled)，并且提供了使用超临界流体处理基板的方法。本专利技术的特征不限于前述内容，本领域技术人员根据说明书和附图将清楚理解未在这里描述的其它特征。本专利技术提供了一种处理基板的设备。本专利技术的实施方式提供了处理基板的设备，所述设备包括：处理室，在处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥基板；和再生单元(recyclingunit)，在所述再生单元中所述有机溶剂与从处理室排出的所述流体分离以再生所述流体。在一些实施方式中，再生单元可包括分离模块，所述分离模块用于冷却溶解有有机溶剂的流体以将有机溶剂从所述流体中分离。在其它的实施方式中，分离模块可以被提供多个，并且该多个分离模块可以彼此串联连接。在又一个实施方式中，分离模块可包括：分离罐，从处理室排出的液体被引入到分离罐中；冷却构件，用于冷却分离罐；放出管，所述放出管设置在分离罐的下部中用以排出液化的且从流体分离的有机溶剂；和第一排气管，所述第一排气管设置在分离罐的上部以排出与有机溶剂分离的所述流体。在另外的实施方式中，分离模块可进一步包括流入管，用于将从处理室排出的流体供应到分离罐的下部中。在又一实施方式中，分离模块可进一步包括反向压力调整器，所述反向压力调整器设置在第一排气管中以不断地保持分离罐的内部压力。在另外的实施方式中，再生单元可进一步包括柱模块，所述柱模块将用于吸收有机模块的吸收材料提供到从分离模块排出的流体中以将有机溶剂从流体分离，柱模块可以被提供多个，并且该多个柱模块可以彼此串联连接。在又一实施方式中，柱模块可以被提供多个，并且该多个柱模块可以彼此并联连接。在另外的实施方式中，柱模块可包括：吸收柱，用于将吸收材料提供到从分离模块排出的流体中；温度保持构件，用于不断地保持吸收柱的内部温度；和第二排气管，用于排出流体，所述吸收材料已将所述有机溶剂从所述流体中分离。在再一个实施方式中，柱模块可进一步包括浓度传感器，该浓度传感器设置在第二排气管中以探测从第二排气管排出的流体中包含的有机溶剂的浓度。在更进一步的实施方式中，吸收材料可包括沸石。在更进一步的实施方式中，再生单元可包括柱模块，该柱模块将用于吸收有机模块的吸收材料提供到从处理室排出的流体中以将有机溶剂从流体中分离。在本专利技术的其它实施方式中，用于处理基板的方法包括：使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥基板；和将有机溶剂从流体中分离以再生所述流体。在一些实施方式中，流体的再生可包括将溶解有有机溶剂的流体冷却以将有机溶剂从流体分离。在其它的实施方式中，流体的再生可进一步包括将用于吸收有机溶剂的吸收材料提供到流体中以将有机溶剂从流体中分离。在本专利技术的其它实施方式中，处理基板的设备包括：处理室，在处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥基板；存储罐，流体以液态储存在存储罐中；水供应罐，所述水供应罐接收来自存储罐的流体以产生超临界流体并且将超临界流体提供到处理室中；和再生单元，在再生单元中有机溶剂被从处理室排出的流体中分离以再生所述流体并且将再生的流体供应到存储罐中。在一些实施方式中，再生单元可包括分离模块，所述分离模块用于冷却溶解有有机溶剂的流体以将有机溶剂从流体中分离。在其它的实施方式中，再生单元可进一步包括柱模块，该柱模块将用于吸收有机模块的吸收材料提供到从分离模块排出的流体中以将有机溶剂从流体中分离。在其它的实施方式中，设备可进一步包括第一冷凝器，用于将从再生单元排出的气态流体转变成为液体流体以将液体流体供应到存储罐内。在其它的实施方式中，设备可进一步包括：第二冷凝器，用于将从所述存储罐排出的气态流体转变成为液体流体；和泵，所述泵从所述第二冷凝器接收所述液体流体以将所述液体流体供应到所述水供应罐内，并且其中，在所述水供应罐中，被所述泵以大于临界压力的压力压缩的所述流体以大于临界温度的温度加热以产生超临界流体。在本专利技术的其它实施方式中，处理基板的方法包括：将液体流体储存在存储罐中；将储存的流体转变成为超临界流体；使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在所述基板上的有机溶剂以干燥所述基板；从溶解有所述有机溶剂的所述流体中将所述有机溶剂分离以再生所述流体；并且将所述再生的流体转变成为液体流体以将所述液体流体供应到所述存储罐内。在一些实施方式中，流体的再生可包括将溶解有有机溶剂的流体冷却以将有机溶剂从所述流体中分离的第一再生工艺。在其它的实施方式中，流体的再生可进一步包括将用于吸收有机溶剂的吸收材料提供到流体中以将有机溶剂从流体中分离的第二再生工艺。附图说明附图被包括以提供对于本专利技术的进一步理解，并且被包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了本专利技术的示例性实施方式并且与说明书一起用以说明本专利技术的原理。在附图中：图1是根据本专利技术的一个实施方式的处理基板的设备的平面图；图2是图1的第一处理室的截面图；图3是示出二氧化碳的相变的图；图4是图1的第二处理室的截面图；图5是根据本专利技术的另一个的实施方式的图1的第二处理室的截面图；图6是示出超临界流体的流通路径的图；图7是根据本专利技术的一个实施方式的图6的再生单元的图；图8是根据本专利技术的另一个实施方式的图6的再生单元的图；图9是图7的分离模块的截面图；图10是图6的柱模块的截面图；图11是示出根据本专利技术的一个实施方式的处理基板的工艺的流程图；图12是示出根据本专利技术的一个实施方式的第一工艺的流程图；图13是示出根据本专利技术的一个实施方式的第二工艺的流程图；图14是示出超临界流体的供应和排出的图；图15是示出根据本专利技术的另一个实施方式的处理基板的工艺的流程图；图16是示出分离单元的效率的曲线图；和图17是示出分离单元的效率的表格。具体实施方式提供了本专利技术的优选实施方式，以使本公开透彻并且完整，并且充分地将本专利技术的范围传达给本领域的技术人员。然而，本专利技术可以不同的形式实施并且其构造不应局限于本文阐述的实施方式。由此，对于本领域技术人员显而易见的是，在不偏离本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理基板的设备，所述设备包括：处理室，在所述处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板；和再生单元，在所述再生单元中所述有机溶剂与从所述处理室排出的流体分离以再生所述流体。

【技术特征摘要】
2011.06.30 KR 10-2011-0064987;2011.10.13 KR 10-201.一种处理基板的设备，所述设备包括：处理室，在所述处理室中交替使用惰性气体和被提供为超临界流体的流体以溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板；和再生单元，在所述再生单元中所述有机溶剂与从所述处理室排出的流体分离以再生所述流体；其中，所述再生单元包括：分离模块，所述分离模块用于冷却溶解有所述有机溶剂的流体以将所述有机溶剂从所述流体中分离；柱模块，所述柱模块用于将用于吸收所述有机溶剂的吸收材料提供到从所述分离模块排出的所述流体中，以将所述有机溶剂从所述流体中分离。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述分离模块被提供多个，并且所述多个分离模块彼此串联连接。3.根据权利要求1所述的设备，其中所述分离模块包括：分离罐，从所述处理室排出的所述流体被引入到所述分离罐中；冷却构件，所述冷却构件用于冷却所述分离罐；放出管，所述放出管设置在所述分离罐的下部中以排出液化的并且与所述流体分离的所述有机溶剂；和第一排气管，所述第一排气管设置在所述分离罐的上部以排出与所述有机溶剂分离的所述流体。4.根据权利要求3所述的设备，其中所述分离模块进一步包括流入管，用于将从所述处理室排出的所述流体供应到所述分离罐的下部中。5.根据权利要求3所述的设备，其中所述分离模块进一步包括反向压力调整器，所述反向压力调整器设置在所述第一排气管中以不断地保持所述分离罐的内部压力。6.根据权利要求1所述的设备，其中所述柱模块被提供多个，并且所述多个柱模块彼此串联连接。7.根据权利要求1所述的设备，其中所述柱模块被提供多个，并且所述多个柱模块彼此并联连接。8.根据权利要求1所述的设备，其中所述柱模块包括：吸收柱，用于将所述吸收材料提供到从所述分离模块排出的所述流体中；温度保持构件，用于不断地保持所述吸收柱的内部温度；和第二排气管，用于排出通过所述吸收材料将所述有机溶剂分离的流体。9.根据权利要求8所述的设备，其中所述柱模块进一步包括浓...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑恩先，金禹永，许瓒宁，朴正善，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：