发光二极管的衬底压印装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种发光二极管的衬底压印装置，包括一腔体、用于放置LED芯片衬底的透光承载体和至少2块下表面具有若干通孔的分立式压印模板，此透光承载体与腔体活动密封连接，至少2块所述分立式压印模板各自上表面均通过一软绳固定于所述透光承载体上方，所述至少2块所述分立式压印模板位于同一平面从而与腔体、透光承载体形成一工作腔，此工作腔或和位于所述分立式压印模板上方设置有气泵从而在使得分立式压印模板上方气压高于工作腔内气压。本实用新型专利技术衬底压印装置克服了压板的平整性缺陷导致硬模图案存在缺陷，实现了自调整保证压力均匀且通孔的形貌也得到了大大改善。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种LED芯片生产装置，具体涉及一种发光二极管的衬底压印装置。
技术介绍
纳米压印(NIL, Nano Imprint Lithography)是一种纳米微制造技术,利用该技术，可以将由电子束直写(e-Beam Lithiography)或聚焦离子束(FIB)技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到基底材质上。在GaN LED领域，由于半导体介质GaN的折射率较高，故LED芯片的光提取效率固 有地低。产生的光大多数在半导体GaN和空气或蓝宝石基板的交界面发生内部反射。折射率与反射之间影响关系)，能提取并进入空气的光只有一小部分。曾经提出过好多通过增强光提取效率来提高LED效率的主意。目前LED业界采用的两种主要方法是随机纹理和成形蓝宝石衬底(PSS)技术。纳米成形化蓝宝石衬底(NPSS)，可以认为是传统微米级PSS的延伸。一些研究论文表明NPSS的效率比微米级PSS的发光效率约高10-20%，与PSS相比将有明显优势。从制造工艺的角度看，NPSS的优势不仅仅在于提高了效率。与微米级PSS相比，它结构更小，故蓝宝石蚀刻的时间便可缩短。考虑外延生长，NPSS达到平面外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光二极管的衬底压印装置，其特征在于：包括一腔体（1）、用于放置LED芯片衬底（2）的透光承载体（3）和至少2块下表面具有若干通孔（5）的分立式压印模板（4），此透光承载体（3）与腔体（1）活动密封连接，至少2块所述分立式压印模板（4）各自上表面均通过一软绳（6）固定于所述透光承载体（3）上方，所述至少2块所述分立式压印模板（4）位于同一平面从而与腔体（1）、透光承载体（3）形成一工作腔（7），此工作腔（7）或和位于所述分立式压印模板（4）上方设置有气泵从而在使得分立式压印模板（4）上方气压高于工作腔（7）内气压。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：顾建祖，
申请(专利权)人：顾建祖，
类型：实用新型
国别省市：