一种二氧化硅减反射膜的制备方法技术

本发明专利技术提供一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤：1)用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面；2）镀膜后的玻璃在100-120℃下烘烤20-30min；3）浸蚀：烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蚀；4）烧结：硫酸浸蚀后的玻璃在200-500℃下烧结。本发明专利技术提出的方法所制备的覆有二氧化硅减反射膜的玻璃，其透过率在原有基础上提高了4~5%。制备的减反射硼硅玻璃在250~2500nm范围内均具有显著的增透效果，玻璃透过率由91.4%提高到96.1%，整体提高了4.7%，具有优异的减反射效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学元件的制备领域，具体涉及一种二氧化硅减反射涂层的制备方法。
技术介绍
减反射膜又称为增透膜，是通过薄膜的相增、相减干涉减少光的反射，从而提高光在玻璃材料中的透过。玻璃表面的减反射膜可提高光学组件的光学透过率，减少表面反射损失，在计算机显示器、激光系统和太阳能电池等领域得到了广泛应用。 目前减反射膜最常见的制备方法是溶胶-凝胶法，例如专利申请CN200910109437. 8、CN98123529. 8以硅酸乙酯为前驱制备了单层二氧化硅减反射膜，专利申请 CN20101050920. I、CN20101050748. I、CN201010122123. 4 以硅酸乙酯和钛酸丁酯为前驱制备了二氧化硅-二氧化钛双层复合减反射膜。但是溶胶-凝胶法在制备减反射膜的过程中膜层孔隙率的可控性较差，致使减反射膜的折射率很难稳定，尤其是多层膜之间的相互匹配很难实现。液相浸蚀法也是一种减反射膜的制备方法，该方法采用氟硅酸的二氧化硅饱和溶液对玻璃进行浸蚀，在玻璃表面制备多孔二氧化硅减反射膜，专利CN201110059381. 7和CN201110066190. 3均采用了该方法，但是该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤：1)镀膜：用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面；2）烘烤：镀膜后的玻璃在100？120℃下烘烤20？30min；3）浸蚀：烘烤后的玻璃在95？98%重量比例的硫酸中浸蚀；4）烧结：硫酸浸蚀后的玻璃在200？500℃下烧结。

【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤 1)镀膜用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面； 2)烘烤镀膜后的玻璃在100-120°C下烘烤20-30min； 3)浸蚀烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蚀； 4)烧结硫酸浸蚀后的玻璃在200-500°C下烧结。2.如权利要求I所述的制备方法，其特征在于，所述步骤I)中的玻璃是经过清洗和干燥的玻璃。3.如权利要求I所述的制备方法，其特征在于，所述步骤I)中的硅酸盐溶液为选自硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂中的一种或几种的溶液，其浓度为O. 1-1. OmoI/LO4.如权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征在于，所述硅酸盐溶液还含有O.5-1%。重量比例的表面活性剂，所述表面活性剂选自山...

【专利技术属性】
技术研发人员：王启，谢光明，张英超，
申请(专利权)人：北京市太阳能研究所集团有限公司，
类型：发明
国别省市：