一种高度定位气体压力支撑装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种高度定位气体压力支撑装置，包括：由规则排列的定位高度气体压力柱组成的定位高度气体压力柱阵列，定位高度气体压力柱包括球体和上部设有球冠腔室、内部设有贯通通孔、中部设有定位凸台、凸台下部有凹槽及下部有螺纹的柱体；内部设有规则通气管道的基座。根据本实用新型专利技术定位高度气体压力支撑机构，输入气体通过基座通气管道，经定位高度气体压力柱内设的贯通通孔输入球冠腔室内，使所述球体浮起，向外传递压力；且球体可任意方向转动，使球体和工件之间的摩擦为滚动摩擦，可降低了接触工件出现位移时由摩擦造成的损伤，同时可以提供精确设定压力；同时，由于定位凸台和凹槽的存在，使压力柱可以精确的保证在所联接平台上的高度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及压力支撑领域，尤其是涉及ー种定位气体压カ支撑装置。
技术介绍
ITOdndium Tin Oxides，铟锡氧化物)是铟锡氧化物的英文縮写，它是ー种透明的导电体，通常厚度只有几千埃，在所有在透明导电体中，其具有特别优良的性能高的可见光透过率，高的红外反射率，良好的机械强度和化学稳定性，用酸溶液等湿法刻蚀エ艺能很容易形成一定的电极图极，制备相对比较容易等，这使它广泛用于各种电子及光电子器件，如手机和电脑等平板显示领域。因此，对ITO薄膜玻璃的表面质量要求非常高。20世纪90年代初，随着IXD器件的飞速发展，对ITO薄膜产品的需求量也是急剧 的増加，国内部分厂家纷纷开始从国外引进一系列整厂ITO镀膜生产线，但由于进ロ设备的价格昂贵，技术服务不方便等因素，使许多厂商还是望而却歩。80年代末，中国诞生了第一条TN-IXD用ITO连续镀膜生产线。90年代中期，随着国内LCD产业的发展，对ITO产品的需求量増大的同时，对产品的质量有了新的要求，因此出现了第二代ITO镀膜生产线。99年，有效的解决了射频磁控溅射沉积Si02薄膜的沉积速率慢影响生产线的产能和设备的利用率等一系列问题，同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高度定位气体压力支撑装置，其特征在于，包括:由若干定位高度气体压力柱组成的定位高度气体压力柱阵列，所述定位高度气体压力柱包括球体和柱体；内部设有通气管道和联通管道的基座，所述定位高度气体压力柱阵列与所述基座内设的所述联通管道相联。

【技术特征摘要】
1.ー种高度定位气体压カ支撑装置，其特征在于，包括 由若干定位高度气体压力柱组成的定位高度气体压カ柱阵列，所述定位高度气体压力柱包括球体和柱体； 内部设有通气管道和联通管道的基座，所述定位高度气体压力柱阵列与所述基座内设的所述联通管道相联。2.根据权利要求I所述的高度定位气体压カ支撑装置，其特征在于，所述所述定位高度气体压力柱阵列可以以相同规则进行排布。3.根据权利要求I所述的高度定位气体压カ支撑装置，其特征在于，所述所述定位高度气体压力柱阵列可以以错位规则进行排布。4.根据权利要求I所述的高度定位气体压カ支撑装置，其特征在于，所述柱体上部设有球冠腔室、内部设有贯通通孔、中部设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，宁军，高永强，
申请(专利权)人：昆山思拓机器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：