一种万向气体支撑机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型万向气体支撑机构，包括：基板，内部加工有通气管道。基板上规则排布有万向气体支撑柱阵列；所述万向气体支撑柱包括：球体；上部设有与外部连通的球冠腔室且内部设有贯通通孔同时下部与基板通气管道联接的柱体，所述球体置于所述球冠腔室内。根据本实用新型专利技术的新型气体支撑机构，输入气体通过基板通气管道及万向气体支撑柱内通孔，输入球冠腔室，使球体浮起，起到支撑作用；同时，球体可以任意方向转动，使球体和工件之间摩擦为滚动摩擦，降低相对位移时摩擦造成的磨损；球体材质可具有弹性，进一步降低了接触工件出现位移时由摩擦造成的损伤，同时可以提供精确设定压力。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及支撑装置领域，尤其是涉及一种气体支撑机构。
技术介绍
ITOdndium Tin Oxides，铟锡氧化物)是铟锡氧化物的英文缩写，它是一种透明的导电体，通常厚度只有几千埃，在所有在透明导电体中，其具有特别优良的性能高的可见光透过率，高的红外反射率，良好的机械强度和化学稳定性，用酸溶液等湿法刻蚀工艺能很容易形成一定的电极图极，制备相对比较容易等，这使它广泛用于各种电子及光电子器件，如手机和电脑等平板显示领域。因此，对ITO薄膜玻璃的表面质量要求非常高。20世纪90年代初，随着IXD器件的飞速发展，对ITO薄膜产品的需求量也是急剧的增加，国内部分厂家纷纷开始从国外引进一系列整厂ITO镀膜生产线，但由于进口设备 的价格昂贵，技术服务不方便等因素，使许多厂商还是望而却步。80年代末，中国诞生了第一条TN-IXD用ITO连续镀膜生产线。90年代中期，随着国内LCD产业的发展，对ITO产品的需求量增大的同时，对产品的质量有了新的要求，因此出现了第二代ITO镀膜生产线。99年，有效的解决了射频磁控溅射沉积Si02薄膜的沉积速率慢影响生产线的产能和设备的利用率等一系列问题，同时出现了第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种万向气体支撑机构，其特征在于，包括:基板，内部加工有通气管道；万向气体支撑柱阵列，排布在基板上，所述万向气体支撑柱包括球体、支撑柱体。

【技术特征摘要】
1.一种万向气体支撑机构，其特征在于，包括 基板，内部加工有通气管道； 万向气体支撑柱阵列，排布在基板上，所述万向气体支撑柱包括球体、支撑柱体。2.根据权利要求I所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列规则排布于所述基板上。3.根据权利要求2所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列可以以相同规则排布于所述基板上。4.根据权利要求2所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列可以以错位排列规则排布于所述基板上。5.根据权利要求I所述的万向气体支撑机...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，宁军，高永强，
申请(专利权)人：昆山思拓机器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：