多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妆料技术

本发明专利技术的目的在于，提供比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子和其制造方法，以及提供配合具备此种特性的多孔二氧化硅系粒子作为触感改良材料的化妆料。本发明专利技术的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒的稀疏的填充物结构构成，平均粒径为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妆料
本专利技术涉及比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子、其制造方法以及配合其的化妆料。
技术介绍
作为制造多孔二氧化硅系粒子的方法，已知各种方法。例如，在专利文献1(日本特开昭61－174103号公报)中公开了通过使用喷雾干燥器对包含平均粒径为以下的一次粒子(二氧化硅系微粒)的胶体液进行喷雾干燥而制造平均粒径为1～20μm的多孔二氧化硅系粒子的方法。在专利文献2(日本特开2002－160907号公报)中公开了以下内容：通过对胶体液进行喷雾干燥，从而构成由平均粒径为2～250nm的无机二氧化硅微粒聚集而得的平均粒径1～100μm的无机二氧化硅微粒集合体，并以氧化物层被覆该集合体而制作球状多孔粒子。专利文献3(日本特开2010－138021号公报)中公开了对10～50nm的二氧化硅系微粒分散液进行喷雾干燥而制作平均粒径为0.5～50μm、比表面积为30～250m2/g的多孔二氧化硅系粒子，在专利文献4(日本特开2010－138022号公报)中公开对50～300nm的二氧化硅系微粒分散液进行喷雾干燥而制作平均粒径为0.5～50μm、比表面积为10～100m2/g的多孔二氧化硅系粒子。专利文献5(日本特开2005－298739号公报)中公开了对包含陶瓷粉末和会因在40℃～250℃的温度产生的化学反应或状态变化而消失的物质的浆料进行喷雾干燥而制作多孔二氧化硅系粒子。另外，一般还已知在化妆料中配合球状的多孔二氧化硅系粒子等作为触感改良材料。例如，在专利文献6(日本特开2009－137806号公报)中公开了以下方法：通过在化妆料中配合多孔二氧化硅系粒子，从而得到具备作为化妆料的触感改良材料所需要的代表性的触感特性的爽滑感、湿润感、滚动感、均匀的延展性、对肌肤的附着性、滚动感的持续性等的粉末固态化妆料。但是，上述的多孔二氧化硅系粒子具有符合以下所示的纳米材料的定义的担忧。在欧州委员会于2011年10月18日的公告中，将(1)1～100nm的范围的粒度分布超过50个数％的材料、(2)每单位体积的比表面积(SA)超过60m2/cm3的材料定义为属于纳米材料。上述的多孔二氧化硅系粒子均具有纳米尺寸的微孔和高比表面积，二氧化硅按密度2.2g/cm3换算的每单位重量的比表面积超过27m2/g。属于纳米材料的粒子虽并未确认到直接在环境、健康、安全上产生重大问题，但是要求使用者、消耗者等避免使用符合纳米材料的粒子。另外，以后将纳米材料的定义引入REACH时，有可能对该粒子的利用要求提出各种文件，存在手续耗费时间和费用、或者在产业利用上带来阻碍的风险。
技术实现思路
专利技术要解决的课题为此，本专利技术的目的在于，实现比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子。此种多孔二氧化硅系粒子既具有良好的触感特性，又不适用纳米材料的定义。因此，可以放心地使用在与以往的多孔二氧化硅系粒子同样的用途中。而且，可以提供配合此种特性的多孔二氧化硅系粒子作为触感改良材料的化妆料。用于解决课题的手段本专利技术的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒构成，多孔二氧化硅系粒子的平均粒径为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。另外，多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最频微孔径(Dm)大于100nm且不足4000nm。进而，按照使多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布中的最小微孔径(D0)为25～500nm、最大微孔径(D100)为300～8000nm、最大微孔径(D100)与最小微孔径(D0)之比(D100/D0)为4～320的范围的方式进行制备。进而，多孔二氧化硅系粒子可以以10～50重量％的范围含有无机氧化物微粒，所述无机氧化物微粒包含氧化钛、氧化铁及氧化锌的至少一者。或者多孔二氧化硅系粒子可以包含有机系微粒。进而，二氧化硅系微粒的平均粒径优选相对于多孔二氧化硅系粒子的平均粒径为0.01～0.30的范围。另外，本专利技术的多孔二氧化硅系粒子的制造方法包括：(A)在平均粒径为超过100nm且不足1000nm、固体成分浓度为10～30重量％的二氧化硅溶胶中分散固体成分浓度为1～40重量％的硅酸粘合剂而得到浆料的工序；和(B)在气流中喷雾包含浆料的喷雾液而得到多孔二氧化硅系粒子的工序。另外，本专利技术的化妆料配合有上述任一种多孔二氧化硅系粒子。专利技术效果就本专利技术的多孔二氧化硅系粒子而言，无论比表面积是否小，微孔容积都大。因此，不适用纳米材料的定义。因此，可以放心地使用在与以往的多孔二氧化硅系粒子同样的用途中。尤其，与以往的多孔二氧化硅系粒子不同，在配合到化妆料时未感觉到粗磨感而可以赋予具有高滑动感的触感特性。附图说明图1为表示实施例1的多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)的图表。图2为利用扫描型电子显微镜拍摄实施例1的多孔二氧化硅系粒子的外观得到的SEM照片(倍率10000倍)。图3为利用扫描型电子显微镜拍摄实施例1的多孔二氧化硅系粒子的截面得到的SEM照片(倍率10000倍)。图4为说明接点数的模型图。具体实施方式＜二氧化硅系微粒＞在本专利技术中，作为构成多孔二氧化硅系粒子的二氧化硅系微粒，可以使用二氧化硅、二氧化硅-氧化铝、二氧化硅-氧化锆、二氧化硅-氧化钛等。无需根据二氧化硅系微粒的组成的不同而变更多孔二氧化硅系粒子的制造条件。若考虑配合到化妆料中，则优选非晶二氧化硅作为二氧化硅系微粒。另外，二氧化硅系微粒的球度优选为0.85～1.00。球度是指：利用透射型电子显微镜拍摄照片得到的照片投影图中的任意50个粒子的各自的最大径(DL)和与其正交的短径(DS)之比(DS/DL)的平均值。若球度不足0.85，则对多孔二氧化硅系粒子的强度赋予较大影响，故不优选。二氧化硅系微粒优选平均粒径(d2)大于100nm且为1000nm以下，粒径变动系数(CV值)为5～15％。利用处于该平均粒径的范围的二氧化硅系微粒得到的多孔二氧化硅系粒子，不适用纳米材料的定义，可以放心地使用在与以往的多孔二氧化硅系粒子同样的用途中。平均粒径(d2)优选为110～600nm的范围，特别优选为120～550nm的范围。予以说明，就球度为0.85～1.00的二氧化硅系微粒而言，若粒径变动系数(CV值)超过15％，则对多孔二氧化硅系粒子的强度赋予较大影响，故不优选。在不足5％的情况下，虽然对于本专利技术而言是优选的，但是在工业上不容易得到此种粒度分布的二氧化硅系微粒。＜多孔二氧化硅系粒子＞本专利技术的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒构成。多孔二氧化硅系粒子的平均粒径(d1)为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。平均粒径利用激光衍射法求得。若多孔二氧化硅系粒子的平均粒径不足0.5μm，则与粒子粉体接触时，不仅感受不到作为球状粉体的滚动感，而且会感受到延展感差。另一方面，若超过25μm，则与粒子粉体接触时，会感受到不光滑感、粗磨(シャリシャリ感)感。多孔二氧化硅系粒子的平均粒径(d1)更优选为2～10μm的范围。若利用BET法求得的每单位体积的比表面积本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，其是由二氧化硅系微粒构成的多孔二氧化硅系粒子，其平均粒径(d

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.30 JP 2014-1341921.一种多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，其是由二氧化硅系微粒构成的多孔二氧化硅系粒子，其平均粒径(d1)为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。2.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最频微孔径(Dm)为100＜Dm＜4000[nm]。3.根据权利要求1或2所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最小微孔径(D0)为25～500nm的范围，最大微孔径(D100)为300～8000nm的范围，最大微孔径(D100)与最小微孔径(D0)之比(D100/D0)为4～320的范围。4.根据权利要求1～3中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子以10～50重量％的范围含有无机氧化物微粒，所述无机氧化物微粒包含氧化钛、氧化铁及氧化锌中的至少一者。5.根据权利要求1～4中任一项所述的多孔二氧化硅系粒...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎本直幸，渡边慧，三好康敬，
申请(专利权)人：日挥触媒化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP