【技术实现步骤摘要】
一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片
本技术涉及太阳能电池生产
,尤其涉及一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片。
技术介绍
在管式PECVD实验过程中,通常会用到大量的假片作为实验的陪片,而陪片则是用于将空缺位用填满的废硅片,由于这个空缺位的硅片扩散出来的方阻不理想,所以用陪片填补,因而该位置的硅片不用于生产正常片。为了减少成本,通常这些陪片在连续使用5次后,会全部取出来进行返工处理,返工处理后进行重复使用。然而,现有技术中应用于管式PECVD实验过程中的陪片,由于其经管式PECVD沉积工艺之后,沉积的氮化硅膜层酸洗难度较大,容易造成陪片的浪费。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片,能够对管式PECVD工艺中沉积的氮化硅膜层快速去除并且去除效果好,从而利于重复利用。为达此目的,本技术采用以下技术方案:一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片,包括硅片,所述硅片的表面设置有绒面,所述绒面的表面预先沉积有二氧化硅膜层,在管式PECVD沉积工艺中,待沉积膜沉积于所述二氧化硅膜层的表面。其中,所述二氧化硅膜层的厚度为5~40nm。其中,所述硅片的厚度不小于180um。其中,所述待沉积膜为氮化硅膜层、氧化铝膜层、二氧化钛膜层或氮氧化硅膜层。本技术的有益效果为:本技术的适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片,通过在硅片表面先制作绒面,然后在绒面的表面预先沉积有二氧化硅膜层,因而在镀膜陪片进行返工清洗过程中,由于待沉积膜的底层有一层相对疏松的二氧化硅膜层,使得酸洗时就会大大提升去除待沉积膜的时间和效果,因此,其能够对 ...
【技术保护点】
一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片,包括硅片(1),其特征在于,所述硅片(1)的表面设置有绒面(2),所述绒面(2)的表面预先沉积有二氧化硅膜层(4),待沉积膜(3)沉积于所述二氧化硅膜层(4)的表面。
【技术特征摘要】
1.一种适用于管式PECVD沉积工艺的镀膜陪片,包括硅片(1),其特征在于,所述硅片(1)的表面设置有绒面(2),所述绒面(2)的表面预先沉积有二氧化硅膜层(4),待沉积膜(3)沉积于所述二氧化...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁中存,党继东,
申请(专利权)人:盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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