一种镀膜双修正叶的设计方法技术

技术编号:15717941 阅读:114 留言:0更新日期:2017-06-28 17:02
本发明专利技术系提供一种镀膜双修正叶的设计方法,包括以下步骤:设置镀膜机中包括第一蒸发源、第二蒸发源,第一蒸发源正上方设有第一修正叶,第二蒸发源正上方设有第二修正叶,第一修正叶与第二修正叶的上方设有基片;以第一蒸发源为顶点、α角为顶角与基片形成第一直角三角形,以第二蒸发源为顶点、β角为顶角与基片形成第二直角三角形;第一修正叶位于第二直角三角形的斜边外侧,第二修正叶位于第一直角三角形的斜边外侧,镀膜时,第一修正叶和第二修正叶始终处于开启状态。本发明专利技术在镀膜时,固定设置两修正叶的位置,能够降低修正叶气缸的活动频率、提高修正叶气缸的寿命,同时能提高镀膜的均匀性。

A design method of coated double correction vane

This invention provides a design method of double coating modified leaf, comprising the following steps: setting coating machine comprises a first evaporation source, second sources, the first amendment is equipped with the leaves above the first evaporation source, second steam rises just above the second amendment with the first amendment and second leaves, leaf modified leaves arranged above the substrate; at first, the evaporation source is the vertex angle alpha angle and the substrate to form the first right triangle, with second evaporation source vertex angle beta, apex angle and the substrate to form the second First Amendment right triangle; lateral oblique side lobe is second triangular, second modified lateral bevel leaf right triangle in the first film. The first amendment and second amendment leaves leaves are always in the opening state. When the film is coated, the position of the two correcting blades is fixed, thereby reducing the activity frequency of the modified leaf cylinder, improving the service life of the correcting leaf cylinder, and simultaneously improving the uniformity of the coating.

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜双修正叶的设计方法
本专利技术涉及薄膜制备领域,具体公开了一种镀膜双修正叶的设计方法。
技术介绍
在蒸发镀膜的过程中,修正叶通过遮挡蒸发源的一部分蒸发角来调整腔体内模料分布,从而选择性地改变蒸镀到基片上的模料数量,已达到镀膜具有均匀的膜厚,修正叶的修正过程即是确定修正叶对蒸发源的遮挡角的过程。现有技术中,镀膜过程往往涉及两种以上的模料,因而镀膜机腔内设有多个蒸发源,每个蒸发源都对应有一个修正叶,不同蒸发源在蒸镀的时候,修正叶都会进行对应的升降切换,确保镀膜厚度的均匀性,但修正叶在升降的过程中,修正叶频繁运动会提高修正叶气缸的使用,降低修正叶气缸的寿命,同时增加了加工成本。
技术实现思路
基于此,有必要针对现有技术问题,提供一种镀膜双修正叶的设计方法,能够降低修正叶气缸的活动频率,延长修正叶气缸的寿命,降低加工成本。为解决现有技术问题,本专利技术公开一种镀膜双修正叶的设计方法,包括以下步骤:设置镀膜机中包括第一蒸发源、第二蒸发源,第一蒸发源正上方设有第一修正叶,第二蒸发源正上方设有第二修正叶,第一修正叶与第二修正叶的上方设有基片;设第一蒸发源位于左侧、第二蒸发源位于右侧,第一蒸发源到基片右端的蒸发路径与基片法线成α角,以第一蒸发源为顶点、α角为顶角与基片形成第一直角三角形,第二蒸发源到基片右端的蒸发路径与基片法线成β角,以第二蒸发源为顶点、β角为顶角与基片形成第二直角三角形;第一修正叶位于第二直角三角形的斜边外侧,第二修正叶位于第一直角三角形的斜边外侧,镀膜时,第一修正叶和第二修正叶始终处于开启状态且位置都不会改变。进一步的,第一修正叶与第二修正叶的高度位置相等。进一步的,第一修正叶沿第二直角三角形的斜边设置。进一步的,第二修正叶沿第一直角三角形的斜边设置。本专利技术的有益效果为:本专利技术公开一种镀膜双修正叶的设计方法,在镀膜时,固定设置两修正叶的位置,能够降低修正叶气缸的活动频率、提高修正叶气缸的寿命、减少漏气异常,同时设置两修正叶的位置合理,能提高镀膜的均匀性。附图说明图1为本专利技术的效果示意图。附图标记为:第一蒸发源11、第二蒸发源12、第一修正叶21、第二修正叶22、基片30、第一直角三角形41、第二直角三角形42。具体实施方式为能进一步了解本专利技术的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能,下面结合附图与具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。参考图1。本专利技术公开一种镀膜双修正叶的设计方法,包括以下步骤:设置镀膜机中包括第一蒸发源11、第二蒸发源12,第一蒸发源11正上方设有第一修正叶21,第二蒸发源12正上方设有第二修正叶22,第一修正叶21与第二修正叶22的上方设有基片30;设第一蒸发源11位于左侧、第二蒸发源12位于右侧,第一蒸发源11到基片30右端的蒸发路径与基片30法线成α角,以第一蒸发源11为顶点、α角为顶角与基片30形成第一直角三角形41,第二蒸发源12到基片30右端的蒸发路径与基片30法线成β角,以第二蒸发源12为顶点、β角为顶角与基片30形成第二直角三角形42;第一修正叶21位于第二直角三角形42的斜边外侧,第二修正叶22位于第一直角三角形41的斜边外侧,优选地,第一修正叶21沿第二直角三角形42的斜边设置,第二修正叶22沿第一直角三角形41的斜边设置,一般设置第一修正叶21与第二修正叶22的高度位置相等,镀膜时,第一修正叶21和第二修正叶22始终处于开启状态且位置都不会改变。第一修正叶21设置于第二直角三角形42的斜边外侧,第一蒸发源11蒸发时,只有第一修正叶21对第一蒸发源11往基片30上蒸发镀膜进行修正,第二修正叶22不会对第一蒸发源11产生影响,第二蒸发源12蒸发时,只有第二修正叶22对第二蒸发源12往基片30上蒸发镀膜进行修正,第一修正叶21不会对第二蒸发源12产生影响,使得整体的镀膜均匀度好,第一修正叶21和第二修正叶22始终处于开启的状态,在镀膜过程中不会有升降动作,能够有效延长修正叶气缸的寿命。例如,设置37层镀膜时,传统的修正工艺中修正叶需要升降18次,而本专利技术的方法只需要升降1次,能够有效降低修正叶气缸的活动频率,延长修正叶气缸的寿命。以上所述实施例仅表达了本专利技术的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本专利技术专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本专利技术的保护范围。因此,本专利技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...
一种镀膜双修正叶的设计方法

【技术保护点】
一种镀膜双修正叶的设计方法,其特征在于,包括以下步骤:设置镀膜机中包括第一蒸发源(11)、第二蒸发源(12),第一蒸发源(11)正上方设有第一修正叶(21),第二蒸发源(12)正上方设有第二修正叶(22),第一修正叶(21)与第二修正叶(22)的上方设有基片(30);设第一蒸发源(11)位于左侧、第二蒸发源(12)位于右侧,第一蒸发源(11)到基片(30)右端的蒸发路径与基片(30)法线成α角,以第一蒸发源(11)为顶点、α角为顶角与基片(30)形成第一直角三角形(41),第二蒸发源(12)到基片(30)右端的蒸发路径与基片(30)法线成β角,以第二蒸发源(12)为顶点、β角为顶角与基片(30)形成第二直角三角形(42);第一修正叶(21)位于第二直角三角形(42)的斜边外侧,第二修正叶(22)位于第一直角三角形(41)的斜边外侧,镀膜时,第一修正叶(21)和第二修正叶(22)始终处于开启状态且位置都不会改变。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜双修正叶的设计方法,其特征在于,包括以下步骤:设置镀膜机中包括第一蒸发源(11)、第二蒸发源(12),第一蒸发源(11)正上方设有第一修正叶(21),第二蒸发源(12)正上方设有第二修正叶(22),第一修正叶(21)与第二修正叶(22)的上方设有基片(30);设第一蒸发源(11)位于左侧、第二蒸发源(12)位于右侧,第一蒸发源(11)到基片(30)右端的蒸发路径与基片(30)法线成α角,以第一蒸发源(11)为顶点、α角为顶角与基片(30)形成第一直角三角形(41),第二蒸发源(12)到基片(30)右端的蒸发路径与基片(30)法线成β角,以第二蒸发源(12)为顶点、β角为顶...

【专利技术属性】
技术研发人员:王标吴志涵
申请(专利权)人:东莞市微科光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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