蒸镀坩埚及蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体及坩埚盖，所述坩埚本体用于盛放蒸发材料，所述坩埚盖设于所述坩埚本体上，并与所述坩埚本体相间隔，所述坩埚盖内设有多个相间隔设置的挡板，所述挡板一端固定于所述坩埚盖，另一端朝向所述坩埚本体延伸，所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料。本发明专利技术还提供了一种蒸镀装置。本发明专利技术提供的蒸镀坩埚和蒸镀装置可减少坩埚盖上的沉积材料脱落及防止沉积材料堵塞蒸发源。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚及蒸镀装置
本专利技术涉及OLED显示
，具体涉及一种OLED显示器件制备工艺中的一种蒸镀坩埚及蒸镀装置。
技术介绍
OLED(OrganicLightEmittingDisplay，有机电致发光显示器件)具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势，近几年在显示领域产业化速度突飞猛进。在OLED材料的蒸镀过程中，在真空环境下，将OLED材料放置于盖有坩埚盖的坩埚中，用电阻丝加热方式加热坩埚，使得坩埚中的OLED材料受热后由固态转化为熔融态进而蒸发。当OLED材料的蒸发速率达到要求并稳定后，打开坩埚盖，OLED材料便以稳定的蒸发速率进行蒸镀。其中，坩埚内的OLED材料在蒸发速率稳定前会在坩埚盖内表面集结。坩埚盖上的OLED材料累积到一定厚度后，由于重力作用，会脱离坩埚盖而落入坩埚中。现有的坩埚盖为光滑的圆弧盖面，沉积于坩埚盖上的OLED材料大多以大尺寸的薄片结构脱离并落入坩埚中，大尺寸沉积材料极易覆盖蒸发源，使得OLED材料无法蒸发，蒸镀工艺无法继续进行，这种情况下，只能开腔清理及重新进行蒸镀过程，严重影响到生产、实验进度及器件性能。因此，如何减少坩埚盖上沉积的蒸发材料脱落至坩埚中，防止堵塞蒸发源，是本领域技术人员亟需解决的技术问题之一。
技术实现思路
针对以上的问题，本专利技术的目的是提供一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，减少坩埚盖上沉积的蒸发材料脱落至坩埚中，防止堵塞蒸发源。为了解决
技术介绍
中存在的问题，本专利技术提供了一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体及坩埚盖，所述坩埚本体用于盛放蒸发材料，所述坩埚盖设于所述坩埚本体上，并与所述坩埚本体相间隔，所述坩埚盖内设有多个相间隔设置的挡板，所述挡板一端固定于所述坩埚盖，另一端朝向所述坩埚本体延伸，所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料。其中，所述坩埚盖包括盖面，所述盖面朝向所述坩埚本体，所述挡板包括安装部与承载部，所述安装部可拆卸地固定于所述盖面，以便于拆卸所述挡板，所述承载部朝向所述坩埚本体方向延伸，用于沉积所述蒸发材料。其中，所述盖面为圆弧形，包括中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，多个所述挡板设于所述周边区域，且设于所述中心区域的相对两侧。其中，所述挡板在垂直方向的投影落入所述坩埚本体内。其中，多个所述挡板沿着所述盖面的径向相对设置，且所述承载部朝向所述坩埚本体的延伸方向与所述盖面的轴向相交；沿着所述盖面的所述中心区域至所述周边区域的方向，所述承载部朝向所述坩埚本体的延伸方向与所述盖面轴向的夹角值逐渐增大。其中，沿着所述盖面的所述中心区域至所述周边区域的方向，所述挡板的所述承载部朝向所述坩埚本体的延伸长度逐渐增加。其中，所述挡板为弧形板，且所述挡板的承载部沿着所述盖面的周向延伸，所述挡板与径向相邻的所述挡板及夹设于两者之间的所述盖面形成沟道，所述沟道沿着所述盖面的周向延伸。其中，所述挡板的承载部沿着所述盖面的径向延伸，所述挡板与相邻的所述挡板及夹设于两者之间的所述盖面形成沟道，所述沟道沿着所述盖面的径向延伸。本专利技术还提供了一种蒸镀装置，包括上述任一实施方式所述的蒸镀坩埚。本申请实施方式提供的一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，通过在坩埚盖的盖面上设置多个挡板，所述挡板和所述盖面共同用于承载受热蒸发的蒸发材料，这样一方面可增加蒸发材料于盖面上的沉积面积，减轻单位面积内的沉积材料重量，从而减少盖面上的沉积材料掉落至坩埚本体中；另一方面，多个挡板可将整个盖面(大的沉积面)划分为多个小的沉积面，以减小沉积材料集结成块的尺寸，这样使得掉落至坩埚本体中的沉积材料为小尺寸的块体，从而避免沉积材料遮盖蒸发源，影响蒸镀工艺。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术提供的蒸镀坩埚的截面图。图2是图1提供的坩埚盖的局部放大图。图3-1是本专利技术第一种实施例提供的坩埚盖结构示意图。图3-2是本专利技术第二种实施例提供的坩埚盖结构示意图。图3-3是本专利技术第三种实施例提供的坩埚盖结构示意图。图3-4是本专利技术第四种实施例提供的坩埚盖结构示意图。图4-1是本专利技术第五种实施例提供的蒸镀坩埚的截面图。图4-2是图4-1提供的坩埚盖的结构示意图。图4-3是图4-2沿a方向的截面图。图5-1是本专利技术第六种实施例提供的蒸镀坩埚的截面图。图5-2是图5-1提供的坩埚盖的结构示意图。图5-3是图5-2沿b方向的截面图。图6-1是本专利技术第七种实施例提供的蒸镀坩埚结构示意图。图6-2是图6-1提供的坩埚盖的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。本专利技术实施例提供的一种蒸镀坩埚，放置于蒸镀装置中，用于盛放待蒸发材料(蒸发源)以便于蒸镀装置将待蒸发材料加热并镀在基板上。所述待蒸发材料可以为金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及有机聚合物等，所述基板可以为金属、半导体、绝缘体、塑料等。请一并参阅图1和图2，为本专利技术实施例提供的一种蒸镀坩埚的截面图，包括坩埚本体2及坩埚盖1，所述坩埚本体2用于盛放蒸发材料3，所述坩埚盖1设于所述坩埚本体2上，并与所述坩埚本体2相间隔。所述坩埚盖1与所述坩埚本体2相间隔3～5mm。所述坩埚盖1包括与所述坩埚本体2相对设置的盖面11。所述坩埚盖1内设有多个相间隔设置的挡板12，所述挡板12一端固定于所述坩埚盖1的盖面11上，另一端朝向所述坩埚本体2延伸，所述挡板12及所述坩埚盖1用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料3。具体而言，蒸发材料3受热后蒸发并向上扩散，扩散的过程中遇到坩埚盖1并在坩埚盖1内表面集结成固态，本实施例在坩埚盖1内设置挡板12，使得所述蒸发材料3可沉积于挡板12表面及坩埚盖1的内表面，从而增加了蒸发材料3的沉积面积。本申请实施方式提供的一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体2和坩埚盖1，所述坩埚盖1在蒸发材料3的蒸发速度稳定前设于所述坩埚本体2上并与所述坩埚本体2相间隔，以沉积蒸发材料3，当蒸发速度稳定后，从所述坩埚本体2移除坩埚盖3，所述蒸发材料3将蒸镀到所需蒸镀的基板上。本申请通过在坩埚盖1的盖面11上设置多个挡板12，所述挡板12和所述盖面11共同用于承载受热蒸发的蒸发材料3，一方面可增加蒸发材料3于盖面11上的沉积面积，减轻单位面积内的沉积材料重量，从而减少盖面11上的沉积材料掉落至坩埚本体2中；另一方面，挡板12将大的沉积面(整个盖面)划分为多个小的沉积面，以减小沉积材料集结成块的尺寸，这样使得掉落至坩埚本体2中的沉积材料为小尺寸的块体，从而避免沉积材料遮盖蒸发源3，影响蒸镀工艺。进一步地，所述盖面11可以为平面或弧面，优选地，为了增加所述蒸发源3在所述盖面11上的沉积面积，所述盖面11可为弧形面。所述挡板12可以为长条形、弧形、波浪形等形状，在本申请中不做限制。所述挡板12之间可以相邻并列排列于盖面11上，也可无规则排列于盖面11上，还可以盖面11的中心为对称中心环绕排列于盖面11上，在本实施例中对于挡板12之间的排列方式不做限定。所述坩埚盖1的材质可以为陶瓷或者金属或者本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括坩埚本体及坩埚盖，所述坩埚本体用于盛放蒸发材料，所述坩埚盖设于所述坩埚本体上，并与所述坩埚本体相间隔，所述坩埚盖内设有多个相间隔设置的挡板，所述挡板一端固定于所述坩埚盖，另一端朝向所述坩埚本体延伸，所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括坩埚本体及坩埚盖，所述坩埚本体用于盛放蒸发材料，所述坩埚盖设于所述坩埚本体上，并与所述坩埚本体相间隔，所述坩埚盖内设有多个相间隔设置的挡板，所述挡板一端固定于所述坩埚盖，另一端朝向所述坩埚本体延伸，所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料。2.根据权利要求1所述的一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚盖包括盖面，所述盖面朝向所述坩埚本体，所述挡板包括安装部与承载部，所述安装部可拆卸地固定于所述盖面，以便于拆卸所述挡板，所述承载部朝向所述坩埚本体方向延伸，用于沉积所述蒸发材料。3.根据权利要求2所述的一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述盖面为圆弧形，包括中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，多个所述挡板设于所述周边区域，且设于所述中心区域的相对两侧。4.根据权利要求3所述的一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述挡板在垂直方向的投影落入所述坩埚本体内。5.根据权利要求4所述的一种蒸镀坩埚...

【专利技术属性】
技术研发人员：任晓光，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42