【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，其特征在于：所述进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被密封，出气管右侧外表面开有出气孔，出气管上端口和下端口均被密封。本技术结构简单，制造成本低，氩气能均匀分布在靶材附近，使镀在玻璃基板上的膜层厚度平均，使各处电阻均匀，从而提高产品质量。【专利说明】ITO镀膜工艺中的氩气传输装置
本技术涉及一种氩气传输装置，尤其涉及一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置。
技术介绍
在ITO镀膜的工艺中氩气是不可缺少的溅射气体，为了得到均匀的膜层，充气系统设计是非常重要的环节之一。以前设备配备的氩气充气系统是由质量流量控制器控制，经6_的不锈钢充气管道直接输送进设备真空系统，在正常生产中，经常会出现镀在玻璃基板上的膜层厚度不平均，电阻不均匀的现象(一般为上面电阻小，下面电阻大)，造成产品质量不稳定，特别是目前使用的2.5米高的设备，充气不均现象困扰着产品质量的提高。
技术实现思路
经过反复实验研究，对气体分散的路径改变使气体能够较均匀的分散在靶材附近，能使气体分布达到所需要求，使镀在玻璃基板上的膜层厚度平均，使各处电阻均匀。为了达到上述目的，本技术的技术方案为:一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被...
【技术保护点】
一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，其特征在于：所述进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被密封，出气管右侧外表面开有出气孔，出气管上端口和下端口均被密封。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡凡，范永生，王旭亮，
申请(专利权)人：三门峡康耀电子有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41
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