低折射率膜形成用组合物、低折射率膜的形成方法以及通过该形成方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜技术

本发明专利技术提供一种低折射率膜形成用组合物，其即使单层涂布也具有优异的抗反射功能，且不对环境造成影响，该低折射率膜形成用组合物的特征在于，其包含(A)无机聚硅氮烷以及(B)从含硅氮烷的有机聚合物、含硅氧硅氮烷的有机聚合物、含脲硅氮烷的有机聚合物中选出的至少一种有机聚合物，(A):(B)的重量比为40:60～17:83。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：尾崎祐树，
申请(专利权)人：AZ电子材料IP日本株式会社，
类型：
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