本发明专利技术的目的是提供即使在水接触角较大的基材上也可在较低的温度下固化而形成高透光性、高硬度、耐擦伤性优良、具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布液及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。该低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ）和碳数９～２０的长链胺化合物（Ｂ），通过将它们溶解于有机溶剂（Ｃ）而成，所述聚硅氧烷（Ａ）具有结合有含氟有机基团的硅原子。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由该涂布液形成的低折射率被膜、以及具有该被膜的防反射材料。
技术介绍
以往，已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的低折射 率的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。于是，上述显示出 低光反射率的低折射率被膜被作为防光反射膜使用，被用于各种基材表面。例如，专利文献l揭示了一种方法，该方法是将使作为Mg源的镁盐或 垸氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应生成的MgF2微粒的醇分散液 或为了提高膜强度而向其中添加四垸氧基硅烷等而成的液体作为涂布液， 将其涂布于玻璃基材上，以100 50(TC的温度进行热处理，从而在基材上形成显示出低折射率的防反射膜。此外，专利文献2揭示了一种方法，该方法是将平均分子量不同的2 种以上的四垸氧基硅垸等的水解縮聚物与醇等溶剂混合，制成涂布液，在 由该涂布液形成被膜时，通过对上述混合时的混合比例、相对湿度加以控 制等方法来制作被膜。被膜可通过在25(TC以上的温度下加热得到，显示出 1. 21 1. 40的折射率，具有直径50 200nra的微坑或凹凸，具有60 160nm 的厚度。被膜形成于玻璃基板上，从而制成低反射玻璃。此外，专利文献3揭示了一种低反射率玻璃，该低反射率玻璃由玻璃、 下层膜和上层膜构成，所述下层膜形成于所述玻璃的表面，具有高折射率， 所述上层膜形成于所述下层膜的表面，具有低折射率。上层膜的形成通过 如下方法进行使CF3(CF2)2C2H4Si(0CH3)3等具有多氟碳链的含氟有机硅化合 物与相对于该含氟有机硅化合物为5 90质量X的Si(0CH3)4等硅垸偶联剂 在醇溶剂中、在乙酸等催化剂的存在下于室温下水解，然后过滤，将由此调制成的共縮合物的液体涂布于上述下层膜上，以120 25(TC的温度加热。此外，专利文献4揭示了一种涂布液，该涂布液是通过在不存在水的 条件下以40 18(TC的温度对以特定比率含有以Si (OR) 4表示的硅化合物、 以CF3(CF丄CH2CH2Si(OR》3表示的硅化合物、以R2CH2OH表示的醇和草酸的反 应混合物加热而生成的聚硅氧垸溶液。通过将该涂布液涂布于基材表面， 在80 45(TC的温度下使其热固化，可形成具有1.28 1.38的折射率和 90 115度的水接触角的被膜。专利文献l:日本专利特开平05—105424号公报专利文献2:日本专利特开平06—157076号公报专利文献3:日本专利特开昭61—010043号公报专利文献4:日本专利特开平09 — 208898号公报专利技术的揭示对于上述在各种显示装置等中使用的防反射膜，近年来，在液晶和等 离子体等显示装置的大型化、轻量化和薄型化的过程中，为了轻量化和高 透明化等目的，其使用的防反射基材、特别是防反射膜存在膜厚变薄的倾 向，出现因热而受到的损伤增大的问题。因此，比以前更迫切地希望开发 出能通过膜不会受到损伤的程度的低温处理得到防反射基材的在较低的温 度下固化的热固化型被膜形成用涂布液。然而，上述已有的低折射率被膜 的固化温度不够低，希望进一步降低固化温度。另外，上述在各种显示装置等中使用的防反射膜无法通过在带硬质涂 层的三乙酰基纤维素膜或带硬质涂层的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等膜基材 的表面形成折射率比该基材低的被膜而得到。此时，根据硬质涂层的材质 和亲水化处理等表面处理的有无，要形成低折射率被膜的基材膜的表面的 水接触角具有多种大小，但一直以来都难以在水接触角较大的基材膜上形 成耐擦伤性好的高硬度的低折射率被膜。因此，本专利技术的目的是提供即使在水接触角较大的基材上也可在较低 的温度下充分地固化而形成高透光性(高透明性)、高硬度、耐擦伤性优良、 具有低折射率的被膜的低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法，以及由5该低折射率被膜形成用涂布液得到的被膜及使用该被膜的防反射材料。本专利技术人为达成上述目的进行了认真研究，结果发现，由下述涂布液 得到的被膜即使在水接触角超过90度这样的水接触角较大的基材上也可在 较低的温度下固化，且具有高透光性和高硬度，耐擦伤性优良，具有低折射率；所述涂布液含有聚硅氧烷(A)、碳数9 20的长链胺化合物(B)以及 有机溶剂(C)，该聚硅氧垸(A)具有结合有含氟有机基团的硅原子。本专利技术中，虽然对于由上述涂布液形成的被膜为何具有上述优良特性 的机理尚不清楚，但在本专利技术的涂布液所含有的聚硅氧垸(A)不具有含氟有 机基团时，无法得到具有低折射率的被膜。此外，碳数9 20的长链胺化 合物(B)在较低的温度下固化，提供高硬度的耐擦伤性优良的被膜。然而， 在胺化合物(B)的碳数小于9时，有时无法在水接触角超过90度这样的水 接触角较大的表面的膜基材上获得足够的耐擦伤性，此外，在碳数超过20 时，有时无法在水接触角超过90度这样的水接触角较大的表面的膜基材上 获得足够的成膜性，均会发生无法达到本专利技术的目的的情况。因此，本专利技术具有以下面的内容为特征的
技术实现思路
。(1) 一种低折射率被膜形成用涂布液，该涂布液的特征在于，含有聚硅 氧烷(A)和碳数9 20的长链胺化合物(B)，通过将它们溶解于有机溶剂(C) 而成，所述聚硅氧烷(A)具有结合有含氟有机基团的硅原子。(2) 上述(1)中记载的涂布液，其中，聚硅氧烷(A)具有相对于其全部硅 原子为5 40摩尔％的结合有含氟有机基团的硅原子。(3) 上述(1)或(2)中记载的涂布液，其中，长链胺化合物(B)是直链状 的脂肪族伯胺或仲胺，或是具有脂环结构的脂肪族胺。(4) 上述(1) (3)中的任一项记载的涂布液，其中，有机溶剂(C)由选 自碳数1 6的醇及碳数3 10的乙二醇醚的至少1种构成。(5) 上述(1) (4)中的任一项记载的涂布液，其中，含有将聚硅氧垸(A) 所具有的硅原子的总量换算成二氧化硅为0. 1 15质量X的聚硅氧烷(A)， 以及相对于聚硅氧烷(A)的硅原子的总量1摩尔为0. 01 0. 2摩尔的长链胺 化合物(B)。(6) 上述(1) (5)中的任一项记载的涂布液，其中，还含有以式(l)表<formula>formula see original document page 7</formula>(式中，R1、 R2、 W及R4分别独立地表示氢原子或碳数1 5的饱和烃基， n表示2以上的整数)(7) 由上述(1) (6)中的任一项记载的涂布液固化而得的低折射率被膜。(8) 将上述(7)中记载的低折射率被膜形成于具有更高的折射率的基材 的表面上而成的防反射材料。(9) 一种低折射率被膜形成用涂布液的制造方法，该方法的特征在于， 包括将下述烷氧基硅垸溶液在相对于所述烷氧基硅垸的全部垸氧基1摩尔 为0.2 2摩尔的草酸的存在下縮聚，得到聚硅氧垸(A)的溶液的工序；以 及将碳数9 20的长链胺化合物(B)和有机溶剂(C)的混合溶液与所得聚硅 氧烷(A)的溶液混合的工序；所述烷氧基硅垸溶液是含有5 40摩尔％的具 有结合有含氟有机基团的硅原子的垸氧基硅烷的烷氧基硅烷的浓度以所述 烷氧基硅烷的全部硅原子换算成二氧化硅计为有机溶剂中的4 15质量％ 的溶液。利用本专利技术可提供即使在水接触角较大的基材上也可在较低的温本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ）和碳数９～２０的长链胺化合物（Ｂ），通过将它们溶解于有机溶剂（Ｃ）而成，所述聚硅氧烷（Ａ）具有结合有含氟有机基团的硅原子。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：谷好浩，元山贤一，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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