低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料技术

本发明专利技术的目的是提供即使在水接触角较大的基材上也可在较低的温度下固化而形成高透光性、高硬度、耐擦伤性优良、具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布液及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。该低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ）和碳数９～２０的长链胺化合物（Ｂ），通过将它们溶解于有机溶剂（Ｃ）而成，所述聚硅氧烷（Ａ）具有结合有含氟有机基团的硅原子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由该涂布液形成的低折射率被膜、以及具有该被膜的防反射材料。
技术介绍
以往，已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的低折射 率的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。于是，上述显示出 低光反射率的低折射率被膜被作为防光反射膜使用，被用于各种基材表面。例如，专利文献l揭示了一种方法，该方法是将使作为Mg源的镁盐或 垸氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应生成的MgF2微粒的醇分散液 或为了提高膜强度而向其中添加四垸氧基硅烷等而成的液体作为涂布液， 将其涂布于玻璃基材上，以100 50(TC的温度进行热处理，从而在基材上形成显示出低折射率的防反射膜。此外，专利文献2揭示了一种方法，该方法是将平均分子量不同的2 种以上的四垸氧基硅垸等的水解縮聚物与醇等溶剂混合，制成涂布液，在 由该涂布液形成被膜时，通过对上述混合时的混合比例、相对湿度加以控 制等方法来制作被膜。被膜可通过在25(TC以上的温度下加热得到，显示出 1. 21 1. 40的折射率，具有直径50 200nra的微坑或凹凸，具有60 160nm 的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ）和碳数９～２０的长链胺化合物（Ｂ），通过将它们溶解于有机溶剂（Ｃ）而成，所述聚硅氧烷（Ａ）具有结合有含氟有机基团的硅原子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷好浩，元山贤一，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]