镀膜件及其制备方法技术

技术编号:7933492 阅读:112 留言:0更新日期:2012-11-01 00:49
本发明专利技术提供一种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的镀层,该镀层为一光致变色层,且该镀层为M掺杂的二氧化钛层,其中M为镍、铁及铬中的一种。此外本发明专利技术还提供一种上述镀膜件的制备方法。本发明专利技术镀膜件的制备方法,采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶,在基材表面制得所述镀层。该制备方法工艺简单且绿色环保。所述镀层性能稳定,且具有良好的光致变色效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
光致变色指的是在具有一定的波长和强度的光的作用下,某些化合物的分子结构发生变化,从而导致其对光的吸收峰值的改变(即颜色的相应改变),且这种改变一般是可逆的。近年来,将光致变色材料用于光信息存储、光调控、光开关、光学器件材料、光信息基因材料、修饰基因芯片材料等领域受到全球范围内的广泛关注。目前常用的光致变色涂层多采用有机光致变色材料,有机光致变色材料种类繁、多,主要包括螺毗喃类、偶氮化合物类及二芳基乙烯类。然而,有机光致变色材料本身稳定性较差,易受外部环境(如酸碱腐蚀、盐雾腐蚀、紫外光热等)的影响,进而影响其光致变色效果,这使得有机光致变色材料的进一步广泛使用受到了制约。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种表面披覆有稳定的光致变色涂层的镀膜件的制备方法。另外,本专利技术还提供一种由上述方法所制得的镀膜件。一种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的镀层,该镀层为M掺杂的二氧化钛层,其中M为镍、铁及铬中的一种。一种镀膜件的制备方法,其包括如下步 提供基材; 米用粉末冶金法制备一合金祀,该合金祀中含有金属M和金属钛,其中金属M为镍、铁及铬中的一种; 采用溅射法,并使用上述步骤制备的合金靶,在该基材的表面形成一镀层,该镀层为M掺杂的二氧化钛层。本专利技术镀膜件的制备方法,采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶,在基材表面制得所述镀层。该制备方法工艺简单且绿色环保。所述镀层性能稳定,且具有良好的光致变色效果。附图说明图I是本专利技术一较佳实施例镀膜件的剖视 图2是本专利技术一较佳实施例真空镀膜机的示意图。主要元件符号说明权利要求1.一种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的镀层,其特征在于该镀层为M掺杂的二氧化钛层,其中M为镍、铁及铬中的一种。2.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于该基材的材质为玻璃或不锈钢。3.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于该镀层中掺杂的M与钛的原子比为 2% 8%。4.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于该镀层为光致变色层。5.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于该镀层采用溅射法形成,其厚度为200 500nmo6.一种镀膜件的制备方法,其包括如下步 提供基材; 米用粉末冶金法制备一合金祀,该合金祀中含有金属M和金属钛,其中金属M为镍、铁及铬中的一种; 采用溅射法,并使用上述步骤制备的合金靶,在该基材的表面形成一镀层,该镀层为M掺杂的二氧化钛层。7.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法,其特征在于该基材的材质为玻璃或不锈钢。8.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法,其特征在于所述制备合金靶的步骤的工艺参数为以金属M粉体及金属钛粉体为原料,将金属M粉体与金属钛粉体按原子比为5 10%的比例混合均匀获得一混合物;采用热压成型法将混合物制成一坯体,成型温度为10(T300°C,压力为3(T60MPa ;烧结该坯体,烧结温度为1300 1800 °C,烧结时间为30 60mino9.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法,其特征在于金属M粉体的纯度为99.99%,粒度为25 50Mm,金属钛粉体的纯度为99. 99%,粒度为25 50Mm。10.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法,其特征在于溅射形成所述镀层的步骤的工艺参数为基材的温度为10(T20(TC,以氩气为工作气体,氩气的流量为30(T500SCCm,以氧气为反应气体,氧气的流量为5(T200sCCm,合金靶的功率为3飞kw,施加于基材的偏压为-10(T-200V,镀膜时间为30 90min。全文摘要本专利技术提供一种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的镀层,该镀层为一光致变色层,且该镀层为M掺杂的二氧化钛层,其中M为镍、铁及铬中的一种。此外本专利技术还提供一种上述镀膜件的制备方法。本专利技术镀膜件的制备方法,采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶,在基材表面制得所述镀层。该制备方法工艺简单且绿色环保。所述镀层性能稳定,且具有良好的光致变色效果。文档编号C23C14/34GK102758184SQ20111010672公开日2012年10月31日 申请日期2011年4月27日 优先权日2011年4月27日专利技术者张新倍, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士, 黄嘉 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜件,其包括基材及形成于基材表面的镀层,其特征在于:该镀层为M掺杂的二氧化钛层,其中M为镍、铁及铬中的一种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张新倍陈文荣蒋焕梧陈正士黄嘉
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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