具有冷却模块的薄膜沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭露一种薄膜沉积装置，包括：一反应腔；位于该反应腔内的一晶圆载具，该晶圆载具用以承载至少一晶圆，其中，该晶圆载具包括一实质上封闭的转动壳；一加热模块，位于该转动壳内，用以加热该晶圆；一驱动模块，位于该转动壳的底部，用以驱动该转动壳旋转；以及一冷却模块，位于该转动壳内，并于该加热模块与该驱动模块之间，其中，该冷却模块于操作时是使得该加热模块至该驱动模块之间的温度分布为不连续温度分布。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种薄膜沉积装置，尤其是一种具有冷却模块的薄膜沉积装置。
技术介绍
薄膜沉积(Thin Film Deposition)可应用于装饰品、餐具、刀具、工具、模具、半导体元件等的表面处理，泛指在各种金属材料、超硬合金、陶瓷材料及晶圆基板的表面上，成长一层同质或异质材料薄膜的工艺，以期获得美观耐磨、耐热、耐蚀等特性。薄膜沉积依据沉积过程中，是否含有化学反应的机制，可以区分为物理气相沉积 (Physical Vapor D印osition，简称PVD)通常称为物理蒸镀及化学气相沉积(Chemical Vapor D印osition，简称CVD)通常称为化学蒸镀。随着沉积技术及沉积参数差异，所沉积薄膜的结构可能是“单晶”、“多晶”、或“非结晶”的结构。单晶薄膜的沉积在集成电路工艺中特别重要，称为是“外延” (epitaxy)。相较于晶圆基板，外延成长的半导体薄膜的优点主要有可以在沉积过程中直接掺杂施体或受体，因此可以精确控制薄膜中的“掺质分布”(dopant profile)，而且不包含氧与碳等杂质。金属有机化学气相沉积(Metal-OrganicChemical Vap本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉积装置，包括一反应腔；位于该反应腔内的一晶圆载具，该晶圆载具用以承载至少一晶圆，其中，该晶圆载具包括一封闭的转动壳；一加热模块，位于该转动壳内，用以加热该晶圆； 一驱动模块，位于该转动壳的底部，用以驱动该转动壳旋转；以及一冷却模块，位于该转动壳内，并于该加热模块与该驱动模块之间，其中，该冷却模块于操作时使得该加热模块至该驱动模块之间的温度分布为不连续温度分布。2.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中该驱动模块包含 一从动内齿轮，该转动壳架设于该从动内齿轮上；至少一主动外齿轮，由该主动外齿轮啮合驱动该从动内齿轮；以及一第一马达，用以驱动该至少一主动外齿轮。3.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中该冷却模块于操作时使得该旋转壳内的温度分布为不连续温度分布。4.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中该不连续温度分布是冷却模块的邻近两侧空间的温度差异值大于或等于100°C。5.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中该冷却模块的截面积为该旋转壳的截面积的30%以上。6.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中该冷却模块为一可调整高度的冷却模块。7.如权利要求6所述的冷却模块的薄膜沉积装置，其中该冷却模块包含 一冷却主体，内部设置一槽体以容纳一冷媒；多个支撑单元，用以支撑该冷却主体，该支撑单元内部设置管路与该冷却主体的槽体连通，以便于冷媒进出该冷却主体；以及至少一个高度调整单元，与多个该支撑单元配合，可根据需要而调整该支撑单元的高度，由此调整该冷却模块于该加热模块与该驱动模块之间的相对距离。8.如权利要求7所述的薄膜沉积装置，其中该高度调整单元包含下列族群中的一者 伸缩式蛇管、至少一 0型环与其对应的锁固元件。9.如权利要求8所述的薄膜沉积装置，其中该高度调整单元为伸缩式蛇管，该薄膜沉积装置还包含一微控制器，该微控制器经由一储値表，根据一目标加热温度得到一第一高度控制信号；以及一第二马达，用以接收该第一高度控制信号而压缩或拉长该伸缩式蛇管，以调整该冷却模块到达预定高度。10.如权利要求9所述的薄膜沉积装置，还包含一第一温度侦测器，设...

【专利技术属性】
技术研发人员：方政加，杨成杰，
申请(专利权)人：绿种子能源科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：