三唑衍生物及其用途制造技术

＊＊＊ 本发明专利技术公开了下式表示的三唑衍生物，含有所述三唑衍生物作为活性成分的杀虫剂和杀螨剂，以及防治昆虫和螨虫害虫的方法：式中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［５］、Ｘ↑［１］、Ｙ和ｎ的定义如说明书中所述。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

Three azole derivatives and uses thereof

* * * the invention discloses Formula Three triazole derivatives, containing the three triazole derivatives as active ingredient insecticide and acaricide, and methods of controlling insects and mites pests: type R = 1, R = 5, X = 1, Y and N as defined in the description.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及三唑衍生物及其用途。JP-A-1-230562和JP-A-2-91061公开了一些可用作杀虫剂活性成分的三唑衍生物。但是这些化合物作为杀虫剂的活性成分其杀虫效率并不是足够的。本专利技术做了极大的努力试图找到具备出色杀虫效率的化合物，结果发现了下式表示的三唑衍生物具有出色的杀虫效率和杀螨效率。因此，本专利技术至此完成了。也就是说本专利技术提供了下式表示的三唑衍生物(下文称之为“本化合物”)和含有所述的三唑衍生物作为活性成分的杀虫剂和杀螨剂 {其中R1表示氢原子，低级烷基(例如C1-C4烷基如甲基和乙基)，卤原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)，1-吡咯烷基，式NR2R3所示的基团，或者表示基团N＝CR4R6；R5表示被至少一个1，1，2，2-四氟乙基取代的甲基)；n表示0，1或2；Y表示氮原子或CX2表示的基团；和X1和X2相同或不同各自表示卤原子(例如氯、溴或氟原子)，硝基或氰基}。本专利技术进一步提供了含有上述三唑衍生物作为活性成分的杀虫剂和/或杀螨剂。对于NR2R3表示的可被取代的含氮饱和杂环时的取代基，可以指例如烷基(例如C1-C4烷基如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基和叔丁基)，卤原子(例如氟，氯或溴原子)，烷氧基(例如C1-C4烷氧基如甲氧基和乙氧基)，羟基，巯基，烷氧羰基(例如(C1-C4烷氧基)羧基如甲氧羰基和乙氧羰基)，氧代基团或酰氧基(例如C1-C10酰氧基如乙酰氧基、戊酰氧基和苯甲酰氧基)。对于NR2R3表示的可被取代的含氮饱和杂环，可以是指3-元或4-元饱和杂环如氮丙啶环和氮杂环丁烷环和除了氮原子外还可另外含有氧原子或硫原子的5-元或6-元饱和杂环如吡咯烷环，吗啉环，硫代吗啉环和异噻唑烷环，1，3-噁唑烷环和1，3-噻唑烷环。R2，R3或R4表示的取代苯基的取代基例如是指羟基，烷氧基(例如C1-C4烷氧基如甲氧基和乙氧基)，烷基(例如C1-C4烷基如甲基和乙基)，硝基，卤原子(例如氟，氯或溴原子)，苯基，苯氧基，烷硫基(例如C1-C4三氯甲烷如甲硫基和乙硫基)，氨基，羧基，氰基，烷氧羰基(例如(C1-C4烷氧基)羰基如甲氧羰基和乙氧羰基)，酰氧基(例如C1-C10酰氧基如乙酰氧基、戊酰氧基和苯甲酰氧基)。在本专利技术中，R1优选表示氢原子，甲基或NR2R3所示的基团，和R2和R3优选表示卤原子、烷氧羰基或烷酰基(对于R2基团)，和酰氧基(例如C1-C10酰氧基如乙酰氧基、戊酰氧基和苯甲酰氧基)。在本专利技术中R1优选表示氢原子，甲基或NR2R3所示的基团，以及R2和R3优选表示，对R2来说表示卤原子、烷氧羰基或烷酰基和对R3来说表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧羰基、烷氧羰基亚磺酰基、烷氧基烷基或下式基团 R5优选表示式CF2Z表示的基团。Y优选表示CX2所示的基团。本专利技术化合物的制备方法详述如下。例如本专利技术化合物可通过下述(方法1)-(方法10)制备。(方法1)(制备式所示的其中n是0的本专利技术化合物的方法)其中n是0的本专利技术化合物是通过下述方法制备的在还原剂存在下，使式所示二硫化物 与式所示的卤化物反应Z1-R5。卤化物的实例包括三氟甲烷、溴三氟甲烷、二溴二氟甲烷、溴氯二氟甲烷、碘五氟乙烷和碘四氟乙烷。还原剂的实例包括与多种阳离子形成的羟甲基亚磺酸盐(例如羟甲基碱金属盐如羟基亚磺酸钠)和碱金属二硫化物(例如二硫化钠)。至于反应物的用量，总的来说，对1摩尔二硫化物来说，卤化物的用量的是2-3摩尔和还原剂的用量是2-6摩尔。反应通常是在溶剂中，如果需要的话在加压容器中，在约-20℃至150温度范围内进行约1-24小时。所用的溶剂的实例包括脂族烃溶剂如己烷，庚烷，ligroin和石油醚；芳香烃溶剂如苯，甲苯和二甲苯；卤代烃溶剂如二氯乙烷，氯苯和二氯苯；酮溶剂如丙酮，甲基乙基酮，甲基异丁基酮，异佛尔酮和环己酮；酯溶剂如乙酸乙酯和乙酸丁基酯；腈溶剂如乙腈和异丁基腈；酰胺如甲酰胺，N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺；硫化合物如二甲亚砜和砜；水；以及上述溶剂的混合物。反应完成后，通过常规的后处理步骤如用有机溶剂提取和浓缩，可以分离所需的本化合物。如果必要，可通过色谱法、蒸馏、重结晶等进一步纯化产物。(方法2)(制备式所示的其中n是0的本专利技术化合物的方法)其中是n是0的本专利技术化合物是通过下述方法制备的使式所示硫醇 与式所示的卤化物反应Z2-R5或与CF2＝CF2反应。卤代物的实例包括二溴二氟甲烷、碘三氟甲烷、溴三氟甲烷、溴氯二氟甲烷、氯二氟甲烷、1-溴-2-氯四氟乙烷和1，2-二溴四氟乙烷。反应通常是在溶剂中，在脱卤化氢剂存在下，在约-5℃至150温度范围内进行约1-24小时。任选采用的脱卤化氢剂包括，例如有机碱如吡啶、三乙胺和N，N-二乙基苯胺，无机碱如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸钙和氢化钠，以及碱金属醇化物如甲醇钠、叔丁醇钾和乙醇钠。至于反应物的用量，总的来说，对1摩尔硫醇来说，卤化物或CF2＝CF2的用量的是1-5摩尔和任选采用的脱卤化氢剂的用量是1-10摩尔或以上。所用的溶剂的实例包括脂族烃溶剂如己烷，庚烷，ligroin和石油醚；芳香烃溶剂如苯；卤代烃溶剂如二氯乙烷，氯苯和二氯苯；醚溶剂如二乙醚，二异丙基醚，二噁烷，四氢呋喃和乙二醇二乙基醚；酮溶剂如丙酮，甲基乙基酮，甲基异丁基酮，异佛尔酮和环己酮；酯溶剂如乙酸乙酯和乙酸丁基酯；硝基化合物溶剂如硝基乙烷和硝基苯；腈溶剂如乙腈和异丁基腈；三级胺溶剂如吡啶，三乙胺N，N-二乙基苯胺，三丁基胺和N-甲基吗啉；酰胺如甲酰胺，N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺；硫化合物如二甲亚砜和砜；水；以及上述溶剂的混合物。反应完成后，通过常规的后处理步骤如用有机溶剂提取和浓缩，可以分离所需的本专利技术化合物。如果必要，可通过色谱法、蒸馏、重结晶等进一步纯化产物。(方法3)(制备式所示的其中n是1或2的本专利技术化合物的方法)其中n是1或2的本专利技术化合物可以通过氧化其中n是0的本专利技术化合物来制备。所用的氧化剂的实例包括有机过氧化物如过氧化氢和叔丁基过氧化氢；有机过酸如间氯过苯甲酸和过乙酸；金属化合物如铬酸酐；过氧硫酸或其盐；以及氧化硫。对每摩尔n是0的本化合物而言，所采用的氧化剂的量在制备n是1的本化合物时，通常是过量的1摩尔或更多和对每摩尔n是0的本化合物而言，所采用的氧化剂的量在制备n是2的本化合物时，通常是过量的2摩尔或更多。反应通常是在溶剂中，在约-5℃至150温度范围内进行1-24小时。所用的溶剂的实例包括脂族烃溶剂如己烷，庚烷，ligroin和石油醚；芳香烃溶剂如苯，甲苯和二甲苯；卤代烃溶剂如氯仿，四氯化碳，二氯乙烷，氯苯和二氯苯；醚溶剂如二乙醚，二异丙基醚，二噁烷，四氢呋喃和乙二醇二乙基醚；酯溶剂如乙酸乙酯和乙酸丁基酯；硝基化合物溶剂如硝基乙烷和硝基苯；酰胺如甲酰胺，N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺；硫化合物如砜；水；以及上述溶剂的混合物。反应完成后，可以采用还原剂如亚硫酸钠水溶液除去过量的氧化剂和进行常规的后处理步骤如用有机溶剂提取和浓缩，可以分离所需的本专利技术化合物。如果必要，可通过色谱法、蒸馏、重结晶等进一步纯化产物。(方法4)所示的其中R1为NR21R31(其中R21和R31相同本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式表示的三唑化合物：＊＊＊其中Ｒ↑［１］表示氢原子，低级烷基，卤原子，１－吡咯烷基，式ＮＲ↑［２］Ｒ↑［３］所示的基团（其中Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］相同或不同，各自表示氢原子，烷基，环烷基，烷氧基烷基，烷硫基烷基，烷硫基羰基，烷氧基 羰基亚磺酰基，烷硫基，烷基磺酰基，取代的苯基，烷氧羰基，未取代的或烷氧基－取代的烷酰基，饱和杂环或下式基团：＊＊＊（其中Ｒ↑［２′］和Ｒ↑［３′］相同或不同，各自表示烷基，烷氧羰基，烷氧羰基取代的烷基，或者Ｒ↑［２′］和Ｒ↑［３′］ 彼此连接形成含氧的亚烷基），或者Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］彼此连接形成式ＮＲ↑［２］Ｒ↑［３］所示的未取代或取代的含氮饱和杂环或者表示基团Ｎ＝ＣＲ↑［４］Ｒ↑［６］（其中Ｒ↑［４］表示氢原子，烷基或未取代或取代的苯基和Ｒ↑［６］表示氢原子、 烷基，烷氧基或二烷氨基））；Ｒ↑［５］表示被至少一个卤原子取代的甲基或表示至少一个卤原子取代的乙基；ｎ表示０，１或２；Ｙ表示氮原子或ＣＸ↑［２］表示的基团（这里Ｘ↑［２］如下文定义）；和Ｘ↑［１］和Ｘ↑［２］相同或不同各自表示卤原子硝基或氰基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：富冈广树，古川隆，高田容司，高野仁孝，
申请(专利权)人：住友化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]