用于基材的磁流变抛光的系统技术方案

一种用于基材的磁流变抛光的系统。用于承载磁流变抛光流体的球形轮容纳可变磁场永磁体系统，所述可变磁场永磁体系统具有被主间隙和副间隙分开的南北铁磁极片，并在中心贯穿有一圆柱形空腔。在所述空腔中可旋转地设置有沿圆柱轴线的法线磁化的圆柱形永磁体。一致动器允许永磁体旋转至任何角度，该旋转通过磁极片改变磁通量在磁路中的分布。因此，能够通过使永磁体定位在提供所需磁场强度的任何角度，来控制间隙中的磁场强度。因为磁场还经过在轮面外部限定出杂散场的磁极片上方，可变磁场延伸穿过轮上的磁流变流体层，因此改变磁流变流体的硬化，正如抛光控制所期望的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于浆基磨蚀性抛光和磨光基材的系统，特别涉及采用磁流变流体和在球形承载轮附近的磁体以磁性地硬化轮上加工区域中的流体的系统；更具体地说，涉及硬化磁体设置在承载轮本身内的系统；再具体地说，涉及硬化磁体是可变磁场永磁体组件的改善的系统。
技术介绍
使用磁性地硬化的磁流变流体(MRF)来磨蚀性抛光和磨光基材是众所周知的。包含分散在液体载体中的软磁磨蚀性颗粒的这种流体在有磁场存在时呈现出磁致塑性行为。 磁流变流体的表观粘度能够磁性地增加多个量级，使得磁流变流体的稠密度从几乎水状改变至非常浓的膏状。当将这种膏适当地施加至待加工或磨光的基材表面例如光学元件时， 能够获得非常高水平的抛光质量、精度和控制。1999年9月14日授予Kordonski等人的美国专利No. 5，951，369公开了基材的确定性磁流变抛光的方法、流体和装置。该专利在本文称为“‘369”。在例如'369专利中所公开那样的典型磁流变抛光系统中，加工表面包括垂直地取向的非磁性轮，该轮具有绕轮毂对称地底切的沿轴向延伸的轮缘。特殊形状的磁极片在底切轮缘下方朝轮的两相反侧延伸，以在轮的表面上提供磁加工区域，优选在大致上死本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种永磁体系统，用于可控地改变磁场的强度，包括：ａ）由软磁材料形成的第一和第二磁极片，共同限定出磁体，所述第一和第二磁极片具有形成于它们的相对端部之间的主间隙和副间隙，并且在所述磁体中形成有圆柱形空腔；ｂ）圆柱形永磁体，沿其纵向轴线的法线磁化并可旋转地设置在所述圆柱形空腔中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：W考登斯基，
申请(专利权)人：QED技术国际股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US