本实用新型专利技术公开了一种磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，包括设在机架上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构，所述工件设在所述自转机构上。本实用新型专利技术的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于磁流变抛光设备，具体涉及一种磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构。
技术介绍
随着现代信息电子技术、光学技术的不断进步，在IT、电子行业，超光滑元件应用越来越多，如蓝宝石衬底、单晶硅表面、手机后盖等，这类元件的加工批量大，其表面要满足超光滑，光泽度高，色泽均匀，无划伤等要求。目前，市场上的研磨抛光机都是采用平面互研原理，工件卡在游心轮中，在上下抛光盘的研磨作用下实现抛光。这种抛光方式的局限性就是只能加工平面，不能加工弧面等曲面。磁流变液是一种智能材料，是由高导磁率、低磁滞性的微小软磁性颗粒和非导磁性液体混合而成的悬浮体。它在常态下是液体，当加载磁场时，发生液一固相变，当去除磁场时，又发生固一液相变。在一定磁场强度范围内，磁流变液的表现粘度和磁场强度有关，这种现象称为磁流变效应。利用磁流变液的磁流变效应，可以将磨粒聚集于抛光区域形成柔性磨头，具有磨头硬度可调，磨粒自锐，面型贴合好等优点，用于抛光加工性能优良。现有的磁流变抛光装置抛光作业时可以通过改变磁场强度改变磨头的硬度，但整个抛光区域的材料去除模型是固定的，工件在加工过程中不能做多自由度运动，因此无法完成工件复杂曲面的抛光。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种结构合理、运动灵活的磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构。本技术提供的磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，包括设在机架上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构，所述工件设在所述自转机构上。所述摇摆机构包括设在机架上的摆动伺服电机、通过摆动主轴安装在机架上的机头，所述机头和摆动伺服电机之间通过齿轮对啮合；所述公转机构包括设在机头上的公转伺服电机、公转大盘和工件运动架，公转伺服电机通过公转主轴与公转大盘连接，工件运动架设在公转大盘的下面；所述自转机构包括设在工件运动架上的工件自转伺服电机和安装工件的一个或多个工件轴，工件轴通过齿轮机构与工件自转伺服电机连接。本技术的有益效果:本技术的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，在梯度磁场的作用下，由于液体形态的磁流变液会变成具有强粘弹性作用的液固态，其沿着磁力线方向形成的磁链将夹持着磨粒，相当于一个个磁柔性小磨头，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。本技术结构合理、运动灵活，通过试用证明:可以很有效的解决复杂形面难以抛光的难题，可减少工件加工的工序，有效提高抛光效率，同时应用工件的多自由运动结构，简化了设备结构。下面结合附图进一步说明本技术的技术方案。【附图说明】 图1是磁流变抛光装置的结构示意图。【具体实施方式】图1所示为磁流变抛光装置，包括底座12和设在底座12 —侧的机架11，底座12上设有磁场发生装置13，磁场发生装置13的上面设有用于盛装磁流变液的抛光液槽17，在机架11上设有升降机构，升降机构上设有位于所述抛光液槽17上方夹持工件14且使工件14做多个自由度运动的工件驱动机构；所述升降机构包括设在机架11上的伺服电机9和滑动座6，伺服电机9通过滚珠丝杆10与滑动座6连接，滑动座6安装在沿机架11竖向布置的导轨8上；本技术提供的磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构包括设在升降机构上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构；摇摆机构包括设在滑动座6上的摆动伺服电机5、通过摆动主轴7安装在滑动座6上的机头2，机头2和摆动伺服电机5之间通过齿轮3、4啮合；公转机构包括设在机头2上的公转伺服电机1、公转大盘16和工件运动架15，公转伺服电机I通过公转主轴18与公转大盘16连接，工件运动架15为多个设在公转大盘16的下面；自转机构包括设在工件运动架15上的工件自转伺服电机1502和安装工件14的一个或多个工件轴1501，工件轴1501通过齿轮机构1503与工件自转伺服电机1502连接。工作原理:通电后，磁流变液在梯度磁场的作用下，会沿着磁力线方向形成磁链，相当于一个个小磁性磨头。工件驱动机构驱动工件14在设有磁场的磁流变液中做多自由度运动对工件的表面进行抛光加工。伺服电机9通过滚珠丝杆10、滑动座6可驱动机头2和工件14沿导轨8上下运动，摆动伺服电机5通过齿轮3、4驱动机头2和工件14来回摆动，公转伺服电机I驱动公转大盘16、工件运动架15和工件14公转，工件运动架15上的自转伺服电机1502通过齿轮机构1503驱动工件14自转；当工件14与磁流变液相对运动时，磁流变液会对工件表面产生去除作用，从而实现抛光。【主权项】1.一种磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，其特征是包括设在机架上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构，所述工件设在所述自转机构上。2.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，其特征是所述摇摆机构包括设在机架上的摆动伺服电机、通过摆动主轴安装在机架上的机头，所述机头和摆动伺服电机之间通过齿轮对啮合；所述公转机构包括设在机头上的公转伺服电机、公转大盘和工件运动架，公转伺服电机通过公转主轴与公转大盘连接，工件运动架设在公转大盘的下面；所述自转机构包括设在工件运动架上的工件自转伺服电机和安装工件的一个或多个工件轴，工件轴通过齿轮机构与工件自转伺服电机连接。【专利摘要】本技术公开了一种磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，包括设在机架上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构，所述工件设在所述自转机构上。本技术的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。【IPC分类】B24B47/10, B24B1/00【公开号】CN204935269【申请号】CN201520615659【专利技术人】许亮, 陈永福, 杜群波, 许君 【申请人】宇环数控机床股份有限公司【公开日】2016年1月6日【申请日】2015年8月17日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁流变抛光装置的工件多自由度驱动机构，其特征是包括设在机架上的摇摆机构、设在摇摆机构上的公转机构和设在所述公转机构上的自转机构，所述工件设在所述自转机构上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许亮，陈永福，杜群波，许君，
申请(专利权)人：宇环数控机床股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43
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