真空镀膜机热屏蔽装置制造方法及图纸

真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体、加热器、镜面反射板、支撑架，所述加热器设置在所述真空镀膜箱体中并处于基片运行通道的上、下方，在所述加热器与所述真空镀膜箱体之间设有至少两层镜面朝向所述加热器的所述镜面反射板，所述镜面反射板之间及所述镜面反射板与所述真空镀膜箱体之间通过所述支撑架固定连接。本实用新型专利技术结构简单合理、节能效果显著、可有效降低真空镀膜箱体温度，使之符合工艺规范要求，资源节约，提高基片加热均匀性，适于工业化生产，可与各种型号的真空镀膜机配套使用。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空镀膜机热屏蔽装置，属于真空镀膜机械

技术介绍
真空镀膜机分为常温镀膜及高温镀膜，在高温镀膜的工况条件下，需要在真空镀 膜箱中对被镀基片加热，而真空镀膜箱体通常是采用橡胶实现密封，因此，要求箱体的温度 尽量保持在60度以下。为保持箱体温度处于工艺规范内，传统的方法是在箱体的侧板上 设置冷却水管，通过循环水对箱体进行冷却降温；这种冷却方式，虽然可以保持箱体温度符 合工艺规范，但是，加热器产生的热量仅有很小一部分被基片吸收，用于加热基片，很大部 分是通过箱体侧板上的水冷却系统把热量带走了，导致加热器工作功率很高，每组约为六 KW，水冷系统用水量及相关的驱动功率也大，造成能源损及资源的很大浪费，且冷却的均勻 性不好，常常会局部过热
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术之不足而提供一种结构简单合理、节能效果 显著、可有效降低真空镀膜箱体温度，使之符合工艺规范要求，资源节约，提高基片加热均 勻性的真空镀膜机热屏蔽装置。本技术真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体、加热器、镜面反射板、支 撑架，所述加热器设置在所述真空镀膜箱体中并处于基片运行通道的上、下方，在所述加热 器与所述真空镀膜箱体之间设有至少两层镜面朝向所述加热器的所述镜面反射板，所述镜 面反射板之间及所述镜面反射板与所述真空镀膜箱体之间通过所述支撑架固定连接。本技术中，所述相邻两层镜面反射板之间的距离为6-10mm。本技术中，所述支撑架采用绝热材料制造。本技术中，所述镜面反射板为不锈钢镜面板。本技术中，所述镜面反射板为四层。本技术由于采用上述结构，根据真空状态下热的扩散方式只能是传导与辐射 的特性，在箱体板与加热器之间均勻放置四层不锈钢镜面板做为屏蔽，每层屏蔽板之间的 间隔为6-10mm，镜面朝向加热器，屏蔽板之间用支撑架与箱体连接，由于镜面的反辐射作 用，加热器的辐射热被有效遮挡及反射回基片，经过多层反射和遮挡屏蔽，可以有效提高加 热器对基片的加热效率，同时，辐射到箱体侧板表面的热量却非常少；另外，由于屏蔽板是 通过支撑架与箱体连接的，支撑架采用绝热材料制造且截面非常小，所以热传导基本可以 忽略不计，从而，达到有效控制箱体温度的目的；采用本技术后，真空镀膜机正常加热 时箱体的温升基本接近室温，只需要使用很少量的冷却水就能实现冷却；同时，还可以大幅 减小加热器的功率，每组加热器用2KW左右即可满足要求，且加热的热量分布均勻，达到节 能降耗，节约资源，提高基片受热均勻性的目的，延长真空镀膜箱密封件的使用寿命。综上所述，本技术结构简单合理、节能效果显著、可有效降低真空镀膜箱体温度，使之符合工艺规范要求，资源节约，提高基片加热均勻性，适于工业化生产，可与各种型 号的真空镀膜机配套使用。附图说明附图为 本技术结构示意图。图中1、2、3、4—镜面反射板，5—真空镀膜箱体、6—加热器、7—支撑架。具体实施方式本技术的具体结构，以下结合附图及具体实施例详细说明。参见附图1，本技术真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体5，加热器6， 镜面反射板1、2、3、4，支撑架7，所述加热器6设置在所述真空镀膜箱体5中并处于基片8 运行通道的上、下方，在所述加热器6与所述真空镀膜箱体5之间设有四层镜面朝向所述加 热器6的所述镜面反射板1、2、3、4，所述镜面反射板1、2、3、4之间及所述镜面反射板与所述 真空镀膜箱体5之间通过所述支撑架7固定连接，所述镜面反射板1、2、3、4为不锈钢镜面 板，相邻两层镜面反射板之间的距离为6-10mm ；所述支撑架7采用绝热材料制造。权利要求真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体、加热器、镜面反射板、支撑架，其特征在于所述加热器设置在所述真空镀膜箱体中并处于基片运行通道的上、下方，在所述加热器与所述真空镀膜箱体之间设有至少两层镜面朝向所述加热器的所述镜面反射板，所述镜面反射板之间及所述镜面反射板与所述真空镀膜箱体之间通过所述支撑架固定连接。2.根据权利要求1所述的真空镀膜机热屏蔽装置，其特征在于所述相邻两层镜面反 射板之间的距离为6-10mm。3.根据权利要求2所述的真空镀膜机热屏蔽装置，其特征在于所述支撑架采用绝热 材料制造。4.根据权利要求3所述的真空镀膜机热屏蔽装置，其特征在于所述镜面反射板为不 锈钢镜面板。5.根据权利要求4所述的真空镀膜机热屏蔽装置，其特征在于所述镜面反射板为四层。专利摘要真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体、加热器、镜面反射板、支撑架，所述加热器设置在所述真空镀膜箱体中并处于基片运行通道的上、下方，在所述加热器与所述真空镀膜箱体之间设有至少两层镜面朝向所述加热器的所述镜面反射板，所述镜面反射板之间及所述镜面反射板与所述真空镀膜箱体之间通过所述支撑架固定连接。本技术结构简单合理、节能效果显著、可有效降低真空镀膜箱体温度，使之符合工艺规范要求，资源节约，提高基片加热均匀性，适于工业化生产，可与各种型号的真空镀膜机配套使用。文档编号C23C14/24GK201729869SQ201020218919公开日2011年2月2日 申请日期2010年6月8日 优先权日2010年6月8日专利技术者孙桂红, 祝海生, 郭爱云, 黄乐, 黄国兴 申请人:湘潭宏大真空设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
真空镀膜机热屏蔽装置，包括真空镀膜箱体、加热器、镜面反射板、支撑架，其特征在于：所述加热器设置在所述真空镀膜箱体中并处于基片运行通道的上、下方，在所述加热器与所述真空镀膜箱体之间设有至少两层镜面朝向所述加热器的所述镜面反射板，所述镜面反射板之间及所述镜面反射板与所述真空镀膜箱体之间通过所述支撑架固定连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄国兴，孙桂红，祝海生，郭爱云，黄乐，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：43[中国|湖南]