薄膜形成装置及薄膜形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种薄膜形成装置。该薄膜形成装置（１００）具有：真空槽（１）；设置在真空槽（１）内并向面对成膜源（２７）的规定成膜位置（４）供给长条的衬底（８）的衬底输送机构（４０）；环形带（１０），其能够与由衬底输送机构（４０）进行的衬底（８）的供给相对应地运行，并以在直线输送中的衬底（８）的表面上形成薄膜的方式沿着环形带（１０）自身的外周面限定成膜位置（４）处的衬底（８）的输送路径；形成在环形带（１０）上的贯通孔（１６）；衬底冷却单元（３０），其从运行中的环形带（１０）的内周侧通过贯通孔（１６）向环形带（１０）和衬底（８）的背面之间导入冷却气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
当前，正在广泛地开展应对设备的高性能化、小型化的薄膜技术。设备的薄膜化不 光给用户带来直接的优点，从地球资源的保护，消耗电力的降低的环境侧面观点来看也发 挥重要的作用为了提高薄膜的生产率，高堆积速度的成膜技术是必须的。在真空蒸镀法、溅射 法、离子电镀法、化学气相堆积(CVD)法等各种各样的成膜方法中，正在开展高堆积速度 化。另外，作为连续且大量地制造薄膜的方法，已知有卷取式的薄膜制造方法。所谓“卷取 式的薄膜制造方法”是指从卷出辊向卷取辊在输送中的长条衬底上形成薄膜的方法。在卷取式的薄膜制造方法中，需要留意衬底的冷却。例如在真空蒸镀时，来自蒸发 源的热辐射和蒸发粒子的热能被赋予衬底，衬底的温度上升。为了防止由于加热而使衬底 发生变形或者熔断，要对衬底进行冷却。作为冷却衬底的方式，广泛地采用具有大热容量的圆筒状的罐状容器(矢WK 具体而言，在衬底沿着配置在输送路径上的罐状容器的状态下进行成膜。由于热散失到罐 状容器，故可防止衬底的温度的过度上升。为了进行有效地冷却，优选充分地确保衬底与罐 状容器的热接触。作为在真空气氛下确保衬底与罐状容器的热接触的方法，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜形成装置，其中，具有：真空槽；衬底输送机构，其设置在所述真空槽内，并向面对成膜源的规定的成膜位置供给长条的衬底；环形带，其能够与由所述衬底输送机构进行的所述衬底的供给相对应地运行，并以在直线输送中的所述衬底表面上形成薄膜的方式沿着环形带自身的外周面限定所述成膜位置处的所述衬底的输送路径；贯通孔，其形成在所述环形带上；衬底冷却单元，其从运行中的所述环形带的内周侧通过所述贯通孔向所述环形带与所述衬底的背面之间导入冷却气体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：筱川泰治，本田和义，神山游马，山本昌裕，柳智文，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]