【技术实现步骤摘要】
本技术涉及薄膜形成装置，特别涉及能够对形成于基板的薄膜的膜厚进行调整的薄膜形成装置。
技术介绍
在通过真空蒸镀等在基板形成薄膜的薄膜形成装置中，存在着使薄膜的膜厚在基板之间达到均匀、或者以形成预定的膜厚分布的方式调整膜厚的装置。作为所述装置的一例，已知这样的装置:在蒸镀源与基板之间配设修正板，对从蒸镀源向基板扩散的蒸镀材料的量进行控制(例如，参照专利文献I)。专利文献I记载的蒸镀装置是能够通过基板直线移动来进行蒸镀的连续蒸镀装置，在该装置中，为了得到预定的膜厚分布而配置在蒸镀源与基板之间的修正板是以基板最靠近蒸镀源的位置为中心设置的。具体地说明的话，在专利文献I记载的蒸镀装置中，将修正板设置在蒸镀源正上方并进行调整以使膜厚达到均匀。通过如上所述地在蒸镀源与基板之间设置修正板，能够对形成于基板的薄膜的膜厚进行修正。而且，通过调整修正板的尺寸和形状，能够更为主动地控制膜厚。专利文献1:日本特许公开昭62-89866号公报然而，在通过在蒸镀源与基板之间配设修正板来调整薄膜的膜厚的情况下，对于为了控制蒸镀材料的扩散量而附着于修正板的蒸镀材料，并未作为对基板的成膜材料而有...
【技术保护点】
一种薄膜形成装置，所述薄膜形成装置具备：真空槽；基板保持部件，所述基板保持部件收纳于所述真空槽内；以及蒸镀源，所述蒸镀源在所述真空槽中配置于所述基板保持部件的下方位置，其特征在于，作为所述蒸镀源，该薄膜形成装置具备蒸镀彼此相同的材料的第一蒸镀源和第二蒸镀源，所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源各自的配置位置是在竖直方向和水平方向上相互不同的位置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林达也，姜友松，盐野一郎，长江亦周，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：实用新型
国别省市：
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