真空成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术的真空成膜装置（100）是在真空状态下对多个基材（20）成膜的成膜装置，具备：用于支持基材的多个基材支持体（23）；支持并搬运多个基材支持体（23）的基材单元（2）；和具有用于搬入及搬出该基材单元（2）的搬入口（10）以及用于开闭该搬入口（10）的搬入口门（11），且用于形成真空状态的真空槽（1）。基材单元（2）支持多个基材支持体（23）以使其在向真空槽（1）的搬运方向上直列地配置；搬入口（10）根据基材单元（2）的尺寸而形成。借助于此，真空成膜装置（100）减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在真空状态下使多个基材成膜的真空成膜装置。
技术介绍
近年来，应用薄膜制造各种制品。作为应用薄膜的制品，例如举出使用于汽车用灯的反射器的例子。在真空成膜装置所具备的真空槽内保持基材，并且使蒸发源等的成膜单元工作以在基材上形成薄膜，以此可以制造该反射器。更具体的是，反射器是在该基材上层叠反射光的反射膜、和用于保护该反射膜的保护膜而制成的。像这样在由金属材料(例如铝)构成的反射膜上层叠保护膜，以此可以抑制反射膜随着时间的劣化。作为像这样利用于反射器的制造的真空成膜装置，公开了在真空槽的门的内表面侧具备成膜单元及基材保持件，并且形成为该门关闭时该成膜单元及基材保持件配置在真空槽的内侧空间内的结构的真空成膜装置(例如专利文献1、2)。例如，专利文献1、2中公开的真空成膜装置形成为在一个真空槽上设置左右对称的门，在该门上安装基材保持件等的结构，并且在关闭一方的门而对设置于该门上的基材实施成膜处理的期间，在另一方的门上可以执行基材的拆装等。现有技术文献: 专利文献1:国际公开第2009/084408号册； 专利文献2:日本特许第4246570号公报。专利技术内容专利技术要解决本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空成膜装置，是在真空状态下对多个基材成膜的真空成膜装置，具备: 用于支持所述基材的多个支持部； 支持并搬运所述多个支持部的搬运单元；和 具有用于搬入及搬出所述搬运単元的开ロ部以及用于开闭该开ロ部的门部，且用于形成真空状态的真空槽； 所述搬运単元支持所述多个支持部以使所述多个支持部在向所述真空槽的搬运方向上直列地配置； 所述开ロ部根据所述搬运单元的尺寸而形成。2.根据权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在干， 所述搬运単元具备加热蒸发成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的一个以上的蒸发源； 所述支持部及所述蒸发源在所述搬...

【专利技术属性】
技术研发人员：天久勇人，
申请(专利权)人：新明和工业株式会社，
类型：
国别省市：