真空成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术的真空成膜装置（100）是在真空状态下对多个基材（20）成膜的成膜装置，具备：用于支持基材的多个基材支持体（23）；支持并搬运多个基材支持体（23）的基材单元（2）；和具有用于搬入及搬出该基材单元（2）的搬入口（10）以及用于开闭该搬入口（10）的搬入口门（11），且用于形成真空状态的真空槽（1）。基材单元（2）支持多个基材支持体（23）以使其在向真空槽（1）的搬运方向上直列地配置；搬入口（10）根据基材单元（2）的尺寸而形成。借助于此，真空成膜装置（100）减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在真空状态下使多个基材成膜的真空成膜装置。
技术介绍
近年来，应用薄膜制造各种制品。作为应用薄膜的制品，例如举出使用于汽车用灯的反射器的例子。在真空成膜装置所具备的真空槽内保持基材，并且使蒸发源等的成膜单元工作以在基材上形成薄膜，以此可以制造该反射器。更具体的是，反射器是在该基材上层叠反射光的反射膜、和用于保护该反射膜的保护膜而制成的。像这样在由金属材料(例如铝)构成的反射膜上层叠保护膜，以此可以抑制反射膜随着时间的劣化。作为像这样利用于反射器的制造的真空成膜装置，公开了在真空槽的门的内表面侧具备成膜单元及基材保持件，并且形成为该门关闭时该成膜单元及基材保持件配置在真空槽的内侧空间内的结构的真空成膜装置(例如专利文献1、2)。例如，专利文献1、2中公开的真空成膜装置形成为在一个真空槽上设置左右对称的门，在该门上安装基材保持件等的结构，并且在关闭一方的门而对设置于该门上的基材实施成膜处理的期间，在另一方的门上可以执行基材的拆装等。现有技术文献: 专利文献1:国际公开第2009/084408号册； 专利文献2:日本特许第4246570号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的问题: 但是，上述的现有技术中存在成膜处理所需的时间长的问题。更具体的是，专利文献1、2的真空成膜装置形成为在关闭一方的门(第一门)而对设置于该门上的基材实施成膜处理的期间(批量处理时间的数分钟期间)，另一方的门(第二门)处于暴露在真空槽外部的空气(外部空气)中的状态。在这里，运行真空成膜装置，例如进行如上所述的反射器的制造时，门的形成真空槽内壁的一部分的一侧的面(真空槽内壁侧面)，即设置有基材的一侧的面被成膜物质所覆盖。该门的真空槽内壁侧面被成膜物质所覆盖时变成非常容易吸附水分的状态，并且与该面暴露在外部空气中的时间相对应地水分吸附量增大。像这样门的真空槽内壁侧面吸附水分时，水分的排出需要时间，并且批量处理时间长。因此，为了抑制水分的吸附量，需要减小被成膜物质所覆盖的门的真空槽内壁侧面暴露在外部空气中的时间。但是，在专利文献1、2的真空成膜装置中，在关闭第一门进行成膜处理的期间，第二门暴露在外部空气中并且吸附水分。而 且，完成对设置于第一门上的基材的成膜处理时，打开该门并执行已成膜的基材的拆装等，同时关闭第二门，执行设置于该门上的基材的成膜处理。此时，第二门已吸附较多的水分，因此使成膜处理时间更进一步加长。又，门的表面积依赖于基材的治具尺寸、以及配置于门上的基材数量等，而表面积越大，水分的吸附量越増大。像这样，在专利文献1、2公开的真空成膜装置中，由于是在门上配置基材等的结构，因此批量处理时间的数分钟期间一方的门暴露在外部空气中，水分吸附量増大。又，为了有效地配置基材，门的表面积増大，结果是水分吸附量増大。因此，在专利文献1、2公开的真空成膜装置中，需要将吸附的水分排出的时间，从而成膜处理所需的时间加长。本专利技术是鉴于上述问题点而形成的，其目的在于提供減少水分的排出所需时间以能够抑制成膜处理所需时间的真空成膜装置。解决问题的手段: 根据本专利技术的真空成膜·装置是为了解决上述问题而在真空状态下对多个基材成膜的真空成膜装置，具备:用于支持所述基材的多个支持部；支持并搬运所述多个支持部的搬运单元；和具有用于搬入及搬出所述搬运単元的开ロ部以及用于开闭该开ロ部的门部，且用于形成真空状态的真空槽；所述搬运単元支持所述多个支持部以使所述多个支持部在向所述真空槽的搬运方向上直列地配置；所述开ロ部根据所述搬运单元的尺寸而形成。在这里，基材是指成为成膜对象的构件，例如举出以特定的形状成型的成型体等的例子。根据上述结构，由于真空槽具备开ロ部及门部，因此通过该开ロ部，支持支持部的搬运单元可以向该真空槽搬入，或者可以从真空槽搬出。又，搬运单元在搬运方向上直列地配置并支持多个支持部，因此该搬运单元的尺寸取决于所支持的各支持部的尺寸。即，将搬运单元与搬运方向垂直地切割时的截面积与ー个支持部的尺寸相对应。在这里，开ロ部的开ロ尺寸是根据搬运单元的尺寸而形成的。即，开ロ部的开ロ尺寸是能够使支持于搬运単元的ー个支持部从真空槽进出的尺寸，更具体的是，成为将搬运単元与搬运方向垂直地切割时的截面积。又，用于开闭该开ロ部的门部的尺寸也与开ロ部的开ロ尺寸一起尽可能减小。即，尽可能减小门部的表面积。但是，门部的真空槽内壁侧面由在基材成膜处理时所产生的成膜物质覆盖，从而处于非常容易吸附水分的状态。根据本专利技术的真空成膜装置中，门部的真空槽内壁侧面暴露于外部空气中的时间仅仅是搬运单元进出真空槽的期间。即，如专利文献1、2中公开的真空成膜装置那样，不在成膜处理时间的期间变成门部(门)暴露在外部空气中的状态，而能够降低水分吸附量。此外，如上所述尽可能减小门部的表面积，因此可以降低门部吸附的水分量。像这样，根据本专利技术的真空成膜装置中，可以抑制门部吸附的水分量。因此，根据本专利技术的真空成膜装置发挥減少水分排出所需的时间而抑制成膜处理所花费的时间的效果。又，根据本专利技术的真空成膜装置在上述结构中，所述搬运単元也可以形成为具备加热蒸发成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的ー个以上的蒸发源；所述支持部及所述蒸发源在所述搬运方向上直列地配置，且在该支持部之间配设该蒸发源的结构。根据上述结构，由于多个支持部在搬运方向上直列地配置，因此对于搬运单元可以在搬运方向上直列地配置支持部。又，在支持部之间具备蒸发源，因此在形成真空状态的真空槽内，通过蒸发方法可以在由夹着蒸发源的支持部所支持的基材上成膜。又，根据本专利技术的真空成膜装置在上述结构中，所述支持部也可以形成为旋转自如地支持基材的结构。根据上述结构，由于支持部旋转自如地支持基材，因此成膜处理时使基材旋转，从而在整个基材上能够均匀地实施成膜处理。又，根据本专利技术的真空成膜装置在上述结构中，也可以具备装载所述搬运单元，并且在水平面上在与所述搬运方向不同的方向上能移动该搬运单元的移动台。根据上述结构，由于具备移动台，因此可以通过该移动台将搬运单元移动至另一个地点，同时将新的搬运单元移动至真空槽的前面，而向真空槽搬运。即，可以有效地进行向真空槽搬入的搬运单元的切换。又，根据本专利技术的真空成膜装置在上述结构中，所述门部也可以形成为相对于所述开口部左右移动，从而开闭该开口部的结构。又，根据本专利技术的真空成膜装置在上述结构中，所述门部也可以形成为一边的侧部通过铰链与所述真空槽接合，并且以该铰链为轴画出弧形地开闭所述开口部的结构。专利技术效果: 本专利技术如以上所述地那样构成，从而发挥减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间的效果。附图说明图1是示出根据本实施形态的真空成膜装置的概略结构的一个示例的俯视 图2是根据本实施形态的真空成膜装置中与真空排气处理相关的结构的一个示例的框 图3是根据本实施形态的真空成膜装置中与真空排气处理相关的结构的一个示例的框 图4是示意性地示出根据本实施形态的变形例的基材单元中基材的配置的一个示例的 图5是示意性地示出根据本实施形态的变形例的基材单元中基材的配置的一个示例的图。具体实施例方式以下，参照附图说明本专利技术的优选的实施形态。另外，以下在所有附图中对于相同或者相对应的构成构件标以相同的参考符号并省略其说明。(真本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空成膜装置，是在真空状态下对多个基材成膜的真空成膜装置，具备: 用于支持所述基材的多个支持部； 支持并搬运所述多个支持部的搬运单元；和 具有用于搬入及搬出所述搬运単元的开ロ部以及用于开闭该开ロ部的门部，且用于形成真空状态的真空槽； 所述搬运単元支持所述多个支持部以使所述多个支持部在向所述真空槽的搬运方向上直列地配置； 所述开ロ部根据所述搬运单元的尺寸而形成。2.根据权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在干， 所述搬运単元具备加热蒸发成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的一个以上的蒸发源； 所述支持部及所述蒸发源在所述搬...

【专利技术属性】
技术研发人员：天久勇人，
申请(专利权)人：新明和工业株式会社，
类型：
国别省市：