【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有机EL器件制造装置，特别是涉及能够在成膜时等高精度地控制基板与掩模的间隙的有机EL器件制造装置。
技术介绍
作为制造有机EL器件的有效方法有真空蒸镀法。真空蒸镀法是在真空处理室内，例如在使玻璃基板等基板与掩模重合的状态下，将它们暴露于处理气体中实施蒸镀处理的方法。另外，近年来，随着处理基板的大型化，G6代的基板尺寸已达到1500mmX 1800mm。为了与这种大型基板相对应，在垂直地保持基板面的状态下将其暴露于处理气体中实施蒸镀处理。在下述的专利文献I中公开了如下技术，即、在垂直地保持基板面的状态下，使掩模靠近基板，并在使基板与掩模重合的状态下，实施蒸镀处理。如上所述，在真空处理室内垂直地保持大型基板的基板面，在重合了掩模的状态下实施蒸镀处理的场合，为了降低蒸镀的模糊，进行高精度的蒸镀，需要高精度地控制基板与掩模的间隙，例如使其达到数十Pm以下。一直以来，虽然将放置基板的基板座表面的平坦度机械加工到例如约20 μ m以下，并提高使基板座移动的移动引导机构的机械加工精度，从而控制基板与掩模的间隙，尤其是在使大型基板为垂直的情况下，不容易在整个基板面...
【技术保护点】
一种有机EL器件制造装置，其具有：荫罩，该荫罩设置在真空处理室内；基板座，该基板座设置在真空处理室内，包含用于放置基板的基板放置区域的第一面为长方形；基板密合机构，该基板密合机构使放置在上述基板座上的基板与上述荫罩之间接近或分离；以及距离计测机构，该距离计测机构在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，上述有机EL器件制造装置的特征在于，上述距离计测机构具有：距离计测用空间，该距离计测用空间在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，并设置成贯通上述基板座的第一面和与该第一面相反一侧的第二面；透明玻璃板，该透明玻璃板在上述距离计测用空间中设置于上述基板座的第一面上；以及距离计...
【技术特征摘要】
2011.10.27 JP 2011-2359581.一种有机EL器件制造装置，其具有: 荫罩，该荫罩设置在真空处理室内； 基板座，该基板座设置在真空处理室内，包含用于放置基板的基板放置区域的第一面为长方形； 基板密合机构，该基板密合机构使放置在上述基板座上的基板与上述荫罩之间接近或分离；以及 距离计测机构，该距 离计测机构在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角， 上述有机EL器件制造装置的特征在于， 上述距离计测机构具有: 距离计测用空间，该距离计测用空间在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，并设置成贯通上述基板座的第一面和与该第一面相反一侧的第二面； 透明玻璃板，该透明玻璃板在上述距离计测用空间中设置于上述基板座...
【专利技术属性】
技术研发人员：图师庵，龟山大树，福岛真，郑载勋，李相雨，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：
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