一种薄膜图案及形成方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种薄膜图案及形成方法、显示装置，涉及显示技术领域，该方法无需采用转印和刻蚀即可形成薄膜图案，工艺简单，生产成本低、时间短；还可避免因多次转印产生的误差，提高薄膜图案的精度。该形成方法包括：将具有薄膜层的衬底基板与具有图案的压印模板接触，薄膜层的材料的熔点/软化点小于衬底基板的衬底和压印模板的材料的熔点/软化点；在加热条件下，采用压印模板对薄膜层进行压印，加热温度能够使得薄膜层软化或变为液态、衬底基板的衬底和压印模板保持原有状态；对压印后的压印模板和薄膜层降温，使得液态的薄膜层固化形成薄膜图案；将压印模板和形成有薄膜图案的衬底基板分离。本发明专利技术适用于薄膜图案的制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种薄膜图案及形成方法、显示装置。
技术介绍
纳米压印技术作为下一代图形转移技术，已经得到相关领域人员的关注和研究，其在纳米图案的制备中有着不可估量的前景。目前，纳米压印技术和干刻技术相结合形成纳米图案的方法颇为流行。上述方法包括以下步骤：首先，参考图1中的(a)所示，在衬底基板1的衬底2上依次形成薄膜层3、硬掩膜板层(Hard Mask Layer)4和光阻层(Resist Layer)5；接着，参考图1中的(b)所示，在加热或UV光照的条件下，采用具有纳米图案的压印模板(Master)6对光阻层5进行压印；压印完成后，参考图1中的(c)所示，将压印模板6与衬底基板1相分离，此时，光阻层5具有与压印模板6相应的纳米图案；然后，以光阻层5为掩膜板，对衬底基板1的硬掩膜板层4进行干刻，干刻完成后，参考图1中的(d)所示，该硬掩膜板层4具有与光阻层5相同的纳米图案；最后，以硬掩膜板层4为掩膜板，对衬底基板1的薄膜层3进行干刻以形成图1中的(e)所示的纳米薄膜图案。上述方法中，需要将压印模板的纳米图案依次转印到光阻层和硬掩膜板层上，然后再通过刻蚀最终形成纳米薄膜图案。该方法工艺复杂，生产成本高、时间长；同时，多次转印容易产生误差，从而降低图案的精度。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种薄膜图案及形成方法、显示装置，该薄膜图案形成方法无需采用转印和刻蚀即可形成薄膜图案，其工艺简单，生产成本低、时间短；同时，还可以避免因多次转印产生的误差，从而提高薄膜图案的精度。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供了一种薄膜图案的形成方法，所述方法包括：将具有薄膜层的衬底基板与具有图案的压印模板接触，其中，所述薄膜层的材料的熔点/软化点小于所述衬底基板的衬底和所述压印模板的材料的熔点/软化点；在加热条件下，采用所述压印模板对所述薄膜层进行压印，其中，加热温度能够使得所述薄膜层软化或变为液态、同时所述衬底基板的衬底和所述压印模板保持原有状态；对压印后的所述压印模板和所述薄膜层进行降温，以使得液态的所述薄膜层固化形成薄膜图案；将所述压印模板和形成有薄膜图案的所述衬底基板相分离。可选的，所述加热温度大于等于所述薄膜层的材料的熔点/软化点、且小于所述衬底基板的衬底和所述压印模板的材料的熔点/软化点。可选的，所述薄膜层的材料的热膨胀系数大于所述压印模板的材料的热膨胀系数。可选的，所述压印模板的图案为纳米图案。可选的，所述衬底基板的衬底的材料为玻璃、石英或者硅片。可选的，所述压印模板的材料为硅、石英、玻璃、金属或者金属合金。可选的，所述薄膜层的材料为铝或者铝合金。可选的，所述对压印后的所述压印模板和所述薄膜层进行降温，以使得所述薄膜层形成薄膜图案具体为：以小于10℃/min的降温速度，对压印后的所述压印模板和所述薄膜层进行降温，以使得所述薄膜层形成薄膜图案。可选的，在所述将所述压印模板和形成有薄膜图案的所述衬底基板相分离之后，所述方法还包括：对所述压印模板进行清洗。可选的，所述对所述压印模板进行清洗具体为：采用所述薄膜层的刻蚀液对所述压印模板进行清洗。可选的，所述衬底基板还包括：边框，用于防止液态的所述薄膜层流出所述衬底基板，所述边框的材料的熔点高于所述加热温度。另一方面，提供了一种薄膜图案，采用上述任一项所述的薄膜图案的形成方法形成。可选的，所述薄膜图案为金属光栅图案、金属电极图案或者金属线图案。再一方面，提供了一种显示装置，包括上述薄膜图案。本专利技术的实施例提供了一种薄膜图案及形成方法、显示装置，该薄膜图案形成方法包括：将具有薄膜层的衬底基板与具有图案的压印模板接触，其中，薄膜层的材料的熔点/软化点小于衬底基板的衬底和压印模板的材料的熔点/软化点；在加热条件下，采用压印模板对薄膜层进行压印，其中，加热温度能够使得薄膜层软化或变为液态、同时衬底基板的衬底和压印模板保持原有状态；对压印后的压印模板和薄膜层进行降温，以使得液态的薄膜层固化形成薄膜图案；将压印模板和形成有薄膜图案的衬底基板相分离。相比现有技术，该薄膜图案形成方法无需采用转印和刻蚀即可形成薄膜图案，其工艺简单，生产成本低、时间短；同时，还可以避免因多次转印产生的误差，从而提高薄膜图案的精度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中提供的一种薄膜图案的形成方法的示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种薄膜图案的形成方法的示意图一；图3为本专利技术实施例提供的一种薄膜图案的形成方法的示意图二；图4为本专利技术实施例提供的一种薄膜图案的结构示意图。附图标记：1-衬底基板；2-衬底基板的衬底；3-薄膜层；4-硬掩膜板层；5-光阻层；6-压印模板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一本专利技术实施例提供了一种薄膜图案的形成方法，参考图2所示，该方法包括：S01、参考图3中的(b)所示，将具有薄膜层3的衬底基板1与具有图案的压印模板6接触，其中，薄膜层3的材料的熔点/软化点小于衬底基板1的衬底2和压印模板6的材料的熔点/软化点。需要说明的是，上述薄膜层是指在衬底基板的衬底上利用沉积或其他工艺制作出的一层薄膜，具体的，可以先清洗衬底基板的衬底，然后，在该衬底上沉积一层薄膜材料以形成图3中的(a)所示的薄膜层3；该薄膜层经过下述步骤后最终可以形成所需要的薄膜图案。该薄膜层的厚度范围可以是50nm-500nm，若该薄膜层形成的薄膜图案为金属光栅图案，而该金属光栅图案最终用于制作金属光栅偏振片(WGP，Wire Grid Polarizer)，则薄膜层的厚度范围可以是100nm-300nm，该薄膜厚度均一性小于5％，这样有利于形成精度高的金属光栅偏振片。当然，上述薄膜层的厚度范围并不限于此，具体可以根据实际情况而定。上述具有图案的压印模板是指通过构图工艺或者其他工艺制作出具有图案的压印模板；其具体制作方法可以参考现有技术，这里不再赘述。本专利技术对于薄膜层、衬底基板的衬底和压印模板的材料不作限定，其中，衬底基板的衬底和压印模板的材料可以相同，也可以不同，只要满足薄膜层的材料的熔点/软化点小于衬底基板的衬底和压印模板的材料的熔点/软化点即可。其中，若薄膜层、衬底基板的衬底和压印模板的材料属于晶体，则其具有熔点，示例的，衬底基板的衬底的材料为石英，石英属于晶体，其熔点约为1750℃；若薄膜层、衬底基板的衬底和压印模板的材料属于非晶体，则其具有软化点，软化点是指物质软化的温度，示例的，衬底基板的衬底的材料为玻璃，玻璃属于非晶体，其软化点的范围在600℃-800℃，实际中不同玻璃(比如高温玻璃，高硼硅玻璃等)的具体软化点不同，因此非晶体的软化点需要根据实际材料确本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜图案的形成方法，其特征在于，所述方法包括：将具有薄膜层的衬底基板与具有图案的压印模板接触，其中，所述薄膜层的材料的熔点/软化点小于所述衬底基板的衬底和所述压印模板的材料的熔点/软化点；在加热条件下，采用所述压印模板对所述薄膜层进行压印，其中，加热温度能够使得所述薄膜层软化或变为液态、同时所述衬底基板的衬底和所述压印模板保持原有状态；对压印后的所述压印模板和所述薄膜层进行降温，以使得液态的所述薄膜层固化形成薄膜图案；将所述压印模板和形成有薄膜图案的所述衬底基板相分离。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜图案的形成方法，其特征在于，所述方法包括：将具有薄膜层的衬底基板与具有图案的压印模板接触，其中，所述薄膜层的材料的熔点/软化点小于所述衬底基板的衬底和所述压印模板的材料的熔点/软化点；在加热条件下，采用所述压印模板对所述薄膜层进行压印，其中，加热温度能够使得所述薄膜层软化或变为液态、同时所述衬底基板的衬底和所述压印模板保持原有状态；对压印后的所述压印模板和所述薄膜层进行降温，以使得液态的所述薄膜层固化形成薄膜图案；将所述压印模板和形成有薄膜图案的所述衬底基板相分离。2.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述加热温度大于等于所述薄膜层的材料的熔点/软化点、且小于所述衬底基板的衬底和所述压印模板的材料的熔点/软化点。3.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述薄膜层的材料的热膨胀系数大于所述压印模板的材料的热膨胀系数。4.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述压印模板的图案为纳米图案。5.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述衬底基板的衬底的材料为玻璃、石英或者硅片。6.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述压印模板的材料为硅、石英、玻璃、金属或者金属合...

【专利技术属性】
技术研发人员：张斌，周婷婷，何晓龙，孙雪菲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11