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本发明提供一种薄膜形成装置。该薄膜形成装置（１００）具有：真空槽（１）；设置在真空槽（１）内并向面对成膜源（２７）的规定成膜位置（４）供给长条的衬底（８）的衬底输送机构（４０）；环形带（１０），其能够与由衬底输送机构（４０）进行的衬底（８）...
该专利属于松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。

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