【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种半自动晶片后洗装置，包括超声波清洗槽，其特征在于，所述超声波清洗槽至少包括依次排列布置的初洗槽、喷淋槽、净洗槽、甩干槽和脱水槽，该初洗槽配置有初洗水存储箱，该喷淋槽配置有喷淋水存储箱，该脱水槽分别配置有脱水液体存储箱和脱水液体回收箱，清洗水分别引入净洗槽和喷淋水存储箱，该净洗槽通过其上部的溢流管道与该初洗水存储箱连接，该初洗水存储箱通过供水管路与该初洗槽连接，该喷淋水存储箱的供水管路与设置在该喷淋槽上方的喷头连接；脱水液体输入管路与该脱水液体存储箱连接，该脱水液体存储箱的供液管路与该脱水槽连接，该脱水槽与该脱水液体回收箱之间分别通过输液管路和溢流管路连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郝建军，袁永生，李军，
申请(专利权)人：唐山晶源裕丰电子股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：13[]
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