一种硅片预对准装置及预对准方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种硅片预对准装置及预对准方法，所述硅片预对准装置包括机械视觉系统、旋转台及机械手，所述旋转台同时具有硅片的定心和硅片缺口的定向的功能，不需再增加其它定向结构。同时，本发明专利技术还公开了一种预对准方法，所述预对准方法将硅片的定心、硅片缺口的定向都在旋转台上进行，定心后不需对硅片进行真空交接后再定向，从而提高了预对准的精度。

Silicon wafer pre alignment device and pre alignment method

The invention discloses a wafer pre alignment device and pre alignment method and device comprises a rotary table and machine vision system, hand the wafer pre alignment, the orientation of rotary table with silicon wafer centering and gap function, do not need to add other directional structure. At the same time, the invention also discloses a method for pre alignment, the pre alignment method directed silicon wafer notch centering, the rotating platform, does not need to transfer wafers after vacuum directional centering, thus improving the pre alignment accuracy.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路制造领域，尤其涉及。
技术介绍
微电子技术的发展促进了计算机技术、通信技术和其它电子信息技术的更新换代，在信息产业革命中起着重要的先导和基础作用，光刻机是微电子器件制造业中不可或缺的工具。而硅片预对准系统是光刻机的重要组成子系统，它的功能是以机械方式或光学方式对硅片进行预对准，由于硅片被传输到预对准系统的位置是随机的，存在着X、Y和缺口 3个方向的位置误差，预对准的目的就是要调整这些偏差，完成硅片的定心、缺口的定向。定心就是要把硅片的型心移动到旋转台的型心上，使二者重合，缺口的定向就是把硅片的缺口转动到指定位置上，这样就保证硅片能以一个固定的姿态被传输到曝光台上进行曝光。预对准是将硅片运送到曝光台前的一次精确定位，该系统的运动精度直接影响硅片的曝光精度和整个系统的工作效率。2007年3月观日公开的“一种硅片预对准装置”(公开号CN1937202A)揭示了一种硅片预对准装置及方法，该预对准装置通过水平对心单元完成硅片的定心，通过承片台完成硅片缺口的定向，其预对准工作流程如图1所示。该预对准装置的机构和算法均很简单，但是整个硅片预对准的过程中，存在三次硅片的真空本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种硅片预对准装置，用于实现硅片的定心和硅片缺口的定向，包括机械视觉系统、旋转台以及机械手，其特征在于：机械视觉系统：用于对硅片圆周边缘进行扫描采样，拟合出硅片的型心，以及对硅片的缺口进行粗定位及细采样，拟合出缺口的中心位置；旋转台：用于承载硅片，且旋转台将硅片的缺口旋转到指定位置，在所述指定位置处，硅片的型心与缺口的中心位置的连线平行于Ｘ轴正方向，此时硅片的型心到旋转台的型心的偏移量分别为Δｘ，Δｙ；且进一步使旋转台沿Ｙ向移动，以补偿上述偏移量Δｙ；机械手：用于抓取硅片沿Ｘ向移动，以补偿上述偏移量Δｘ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏远，姜杰，王绍玉，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：31[]