【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及湿法处理晶片状物品的外围区域的装置和工艺。
技术介绍
US6, 435，200公开一种蚀刻碟状物品的外围区域的设备。将液体提供到该碟状物 品不面向卡盘的表面并且保持在该碟状物品和环之间的间隙中。对于具体的应用，机械力有利于适当处理该外围区域，例如为了从该外围区域去 除具体的层。有时，必须使用非常有侵蚀性的成分以适当地去除具体的层。此外这样的成 分还会损害设备。W02003/023825A2公开一种用于蚀刻晶片状物品的外围区域的设备。将液体提供 到单个点并且在那之后立即去除。一个时间只能提供一种液体。如果该液体没有适当去除， 则该驱动辊子会与该侵蚀性液体接触。本专利技术的目的是提供一种处理晶片状物品的外围区域的装置，其能够加强处理该 外围区域，并且保护与有害成分接触的机器部件，以及更加灵活。
技术实现思路
本专利技术通过提供湿法处理晶片状物品的外围区域的装置而满足这些目的。该装置 包括夹持装置，用以在该晶片状物品的边缘夹持和转动该晶片状物品；第一液体处理单 元，用以向该外围区域提供液体；以及第二液体处理单元，用以向该外围区域提供液体。该夹持装置包括在该...
【技术保护点】
处理晶片状物品（Ｗ）的外围区域的装置，包括： 夹持装置（２０、５０），用以在该晶片状物品（Ｗ）的边缘夹持和转动该物品， 第一液体处理单元（３０），用以向该外围区域提供液体，以及 第二液体处理单元（６０）用以向该外围区域提供液体，其中该夹持装置包括辊子（２３、５３），用于在该晶片状物品的边缘驱动该晶片状物品， 其中该第一液体处理单元（３０）包括： 第一液体载具（３１，３４），用以提供第一液体以润湿该外围区域的第一部分， 第一液体供应喷嘴（３３１），用以提供液体至该第一液体载具（３１，３４），以及 第一液体排出通道（３６１），用以从该第一液体载具（３１，３４）去除...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】AT 2007-11-23 ATA1906/20071.处理晶片状物品(W)的外围区域的装置，包括夹持装置00、50)，用以在该晶片状物品(W)的边缘夹持和转动该物品， 第一液体处理单元(30)，用以向该外围区域提供液体，以及第二液体处理单元(60)用以向该外围区域提供液体，其中该夹持装置包括辊子03、 53)，用于在该晶片状物品的边缘驱动该晶片状物品， 其中该第一液体处理单元(30)包括第一液体载具(31，34)，用以提供第一液体以润湿该外围区域的第一部分， 第一液体供应喷嘴(331)，用以提供液体至该第一液体载具(31，34)，以及 第一液体排出通道(361)，用以从该第一液体载具(31，34)去除液体，以及 其中该第二液体处理单元(60)包括，第二液体载具，用以提供第二液体以润湿该外围区域的第二部分， 第二液体供应喷嘴，用以提供液体至该第二液体载具， 第二液体排出通道，用以从该第二液体载具去除液体，以及具有气体提供喷嘴的气体处理部分，用于向已经利用该第二液体处理的该外围区域提 供气体以从该外围区域去除大多数该第二液体，并具有气体排出通道，用于排出气体和所 去除的液体。2.根据权利要求1所述的装置，其中该第一液体处理单元和该第二液体处理单元之间 没有布置辊子。3.根据权利要求1所述的装置，其中该第二液体处理单元构造为比该第一液体处理单 元处理更大的外围区域。4.根据权利要求1所述的装置，其中该第一液体处理单元进一步包括第一气体处理部 分，其具有第一气体提供喷嘴，用于向已经被该第一液体处理的该外围区域提供气体以从 该外围区域去除大多数该第一液体，以及具有气体排出通道，用于排出气体和所去除的液 体。5.根据权利要求1所述的装置，其中至少一个液体载具的形式为朝向该晶片状物品的 中心开口的凹槽(34)，其中该凹槽最大宽度为3mm。6.根据权利要求1所述的装置，其中对于至少一个液体处理单元，该液体载具和该液 体去除部分形式为朝向该中心开口的凹槽，其中该液体载具的凹槽宽度比该液体去除部分 的凹槽宽度小至少1mm。7.根据权利要求1所述的装置，其中至少一个气体处理部分包括至少两个关于该晶片 状物品彼此相对的气体提供喷嘴。8.根据权利要求1所述的装置，其中该用于夹持和转动该晶片状物品的夹持装置包括 至...
【专利技术属性】
技术研发人员：迪特尔弗兰克，于尔根帕则弗，亚历山大施瓦兹福尔纳，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：AT[]
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