【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂布的分子筛本专利技术涉及涂布的分子筛及其制备方法。另外，本专利技术涉及涂布的分 子筛的用途以及包括该分子筛的组合物。本专利技术进一步涉及分子筛以及包 括该分子筛的组合物在制造装置如电子元件和装置中的用途，并且还涉及 包括该分子筛的装置，例如电子元件和装置。本专利技术特别涉及疏水性涂布 的分子筛及其制造方法。另外，本专利技术涉及疏水性涂布的分子筛的用途以 及包括疏水性涂布的分子筛的组合物。本专利技术进一步涉及疏水性涂布的分 子筛以及包括疏水性涂布的分子筛的组合物在制造装置，例如电子元件和 装置中的用途，并且还涉及包括该分子筛的装置，例如电子元件和装置。
技术介绍
现代电气和电子元件和装置通常包括对来自环境大气的气态分子如氧 气或水蒸气敏感的材料或物质，这是因为由于那些分子的反应使它们受到 攻击，并且，例如，由于腐蚀或水解可能使它们受到毁坏。在元件和装置 中保护这样的材料的常规方法是通过封装，其中使这些元件和装置从环境 密封起来。在该上下文中，还通常在封装的元件或装置内部中结合所谓的吸气剂(getter)，该吸气剂能够捕获那些仍然渗透内部的气体分子。常规的吸气剂材料是能够...
【技术保护点】
一种疏水性涂布的分子筛，其包括粒径为１０００ｎｍ或更小的颗粒，所述颗粒的表面涂布了具有以下通式的硅烷： ＳｉＲ↑［１］Ｒ↑［２］Ｒ↑［３］Ｒ↑［４］， Ｒ↑［１］，Ｒ↑［２］，Ｒ↑［３］或Ｒ↑［４］基中至少一个含有可水解基团，并 且其余的基Ｒ↑［１］，Ｒ↑［２］，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］相互独立的是烷基，链烯基，炔基，杂烷基，环烷基，杂芳基，烷基环烷基，杂（烷基环烷基），杂环烷基，芳基，芳基烷基或杂（芳基烷基）。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】DE 2006-6-27 102006029849.71.一种疏水性涂布的分子筛，其包括粒径为1000nm或更小的颗粒，所述颗粒的表面涂布了具有以下通式的硅烷SiR1R2R3R4，R1，R2，R3或R4基中至少一个含有可水解基团，并且其余的基R1，R2，R3和R4相互独立的是烷基，链烯基，炔基，杂烷基，环烷基，杂芳基，烷基环烷基，杂(烷基环烷基)，杂环烷基，芳基，芳基烷基或杂(芳基烷基)。2. 根据权利要求1所述的分子筛，其中所述硅垸含有一个，或两个， 或三个可水解基团。3. 根据权利要求1或2所述的分子筛，其中所述硅烷的每个可水解基 团与其他基团独立地是可水解烷氧基，并且其余的基选自不可水解的烷基， 链烯基，烷基，环烷基，烷基环烷基，芳基和芳基烷基。4. 根据上述权利要求任一项所述的分子筛，其中所述硅烷的每个可水 解基都与其他独立地是可水解烷氧基，并且其余基是不可水解烷基。5. 根据上述权利要求任一项的分子筛，其中所述烷基是具有3 — 8个碳 原子的支链烷基。6. 根据上述权利要求任一项的分子筛，其中所述颗粒包括无机颗粒。7. 根据权利要求6所述的分子筛，其中所述无机颗粒选自以下颗粒 多孔磷铝酸盐，多孔硅磷铝酸盐或沸石。8. 根据上述权利要求任一项所述的分子筛，其中所述颗粒选自沸石 Na-P1(GIS结构)，沸石F和沸石LTA，并且所述硅垸含有一个垸基和三个 可水解烷氧基。9. 制备根据权利要求1一8任一项所述的分子筛的方法，其中使粒径为 1000nm或更小的颗粒与至少一种具有以下通式的硅烷反应<formula>formula see original document page 3</formula>R1， R2， 113或114基中至少一个含有可水解基团，并且其余的基R1， R2， 113和尺4相互独立的是烷基，链烯基，炔基，杂烷基，环烷基，杂芳基，烷 基环烷基，杂(烷基环烷基)，杂环烷基，芳基，芳基烷基或杂(芳基烷基)。10. 根据权利要求9所述的方法，其中所述颗粒在与硅烷反应前被干燥。11. 根据权利要求10所述的方法，其中所述颗粒通过选自以下的方法 被干燥真空中加热和冷冻...
【专利技术属性】
技术研发人员：J绍尔，A科尔，
申请(专利权)人：纳诺斯凯普股份公司，泽斯吸气剂公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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