涂布液、使用涂布液形成的金属化合物薄膜及其形成方法技术

本发明专利技术提供一种涂布液，其包含选自化学式１表示的金属络合物Ａ、化学式２表示的金属络合物Ｂ和化学式３表示的金属络合物Ｃ中的一种以上金属络合物。其中，化学式１、化学式２、化学式３中的Ｍ是金属离子；化学式１、化学式２、化学式３中的Ｘ↓［１］～Ｘ↓［４］分别是Ｏ、ＮＨ、ＣＯ↓［２］和Ｓ中的任一个；化学式１中的Ｙ↓［１］～Ｙ↓［８］和化学式３中的Ｙ↓［１］～Ｙ↓［４］分别是ＣＨ或Ｎ；化学式２和化学式３中的Ｚ↓［１］～Ｚ↓［３］以及化学式２中的Ｚ↓［４］～Ｚ↓［６］中每组中的一个选自Ｏ、ＮＨ和Ｓ，另两个选自ＣＨ和Ｎ；化学式１、化学式２、化学式３中的Ｌ是轴向配位体；化学式１、化学式２、化学式３中的ｋ是金属络合物的价数，且等于Ｍ、Ｘ↓［１］－Ｘ↓［４］和Ｌ所具有的电荷总和。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于形成金属化合物薄膜的涂布液、金属化合物薄膜及其 形成方法、以及在表面形成有金属氧化物薄膜的制品。
技术介绍
作为在玻璃、金属、陶瓷等的表面形成金属氧化物薄膜的技术，有賊射、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等干法，以及以溶胶凝胶法 为代表的湿法。但是，溅射、PVD等采用物理方法的干式工艺需要高度真空，装置越 大越是难以保持高真空，因此，很难形成大面积的金属氧化物薄膜。另夕卜， 使材料气化需要大量的能量，而且为了改善成膜性还必须对形成金属氧化 物薄膜的基体进行加热，需要巨大的能量。此外，基体为复杂形状时，存 在对基体中的"阴影"部分成膜困难的问题。另外，CVD涉及到化学反应，难以使组成保持均匀，而且为了抑制副 产物，要求非常复杂的控制。此外，在溶胶凝胶法中，由于温度和湿度的不同而使缩聚反应进程产 生明显的差异，因此，在想要经常获得均匀的薄膜时，必须要严格控制成 膜条件。而且，由于涂布液的溶胶常常不稳定，在实际运用中存在很多需 要解决的问题，例如为了保持溶胶的粘度并防止固体物质的沉积需要特别 的设计等。此外，还存在一些情况，需要通过使金属氧化物薄膜中含有两本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布液，该涂布液包含选自化学式１表示的金属络合物Ａ、化学式２表示的金属络合物Ｂ和化学式３表示的金属络合物Ｃ中的一种以上金属络合物，　化学式１：　＊＊＊　化学式２：　＊＊＊　化学式３：　＊＊＊　其 中，化学式１、化学式２、化学式３中的Ｍ是金属离子；化学式１、化学式２、化学式３中的Ｘ↓［１］～Ｘ↓［４］分别是Ｏ、ＮＨ、ＣＯ↓［２］和Ｓ中的任一个；化学式１中的Ｙ↓［１］～Ｙ↓［８］和化学式３中的Ｙ↓［１］～Ｙ↓［４］分别是ＣＨ或Ｎ；化学式２和化学式３中的Ｚ↓［１］～Ｚ↓［３］以及化学式２中的Ｚ↓［４］～Ｚ↓［６］中...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯托弗科多尼尔，志知哲也，沼田贵史，胜又健一，仲村亮正，胜又靖博，小峰辉男，雨宫健一郎，藤嶋昭，山下诚，
申请(专利权)人：东海旅客铁道株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]