一种光阻涂布用的硅片定位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种光阻涂布用的硅片定位装置，属于半导体晶圆制造领域。针对传统的将晶圆硅片放在涂布旋转机的吸头上进行光阻涂布时，人工摆放不易定位，容易造成偏心的问题，本实用新型专利技术包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板数量至少为三件，且均匀布置。本实用新型专利技术方便人工对硅片摆放的快速定位，提高了光阻涂布的外观质量和工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体晶圆制造领域，尤其涉及一种光阻涂布用的硅片定位装置。
技术介绍
在半导体晶圆光阻涂布工序中，将晶圆硅片放置在旋转涂布机的吸头上，在硅片表层涂上光阻剂。人工摆放硅片时必须保证放在吸头的中心，不能偏离中心。但是由于涂布吸头比硅片小，晶片放上去后无法保证是在中心位置，需要人工每一片放上去后再调整，大大降低了工作效率，而且调整后并不能保证硅片是在中心位置，很容易摆偏，受离心力的影响导致涂布不均匀。而且由于涂布使用的光阻剂很粘，在吸头旋转下，光阻剂会受离心力向边缘扩散，所以无法在吸头外缘设计圆盘来固定硅片，否则作业一段时间后，会有大量光阻剂粘在圆盘的边缘，致使后续的硅片无法摆放。
技术实现思路
针对现有技术中缺陷与不足的问题，本技术提出了一种光阻涂布用的硅片定位装置，方便人工对硅片摆放的快速定位，提高了光阻涂布的外观质量和工作效率。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种光阻涂布用的硅片定位装置，包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板数量至少为三件，且均匀布置。进一步的，所述托板数量为四件，呈十字形布置在涂布吸头外缘。本技术具有如下有益效果：本技术在涂布吸头边缘设计十字形定位装置，不需要人工再反复调整位置，只需要将硅片放到十字形上与之对齐即可，提高了放片工作效率。附图说明图1为本技术整体结构示意图；图2为图1的俯视图。具体实施方式下面结合具体实施例，进一步阐述本技术。应理解，这些实施例仅用于说明本技术而不用于限制本技术的范围。此外应理解，在阅读了本技术讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本技术作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。如图所示，一种光阻涂布用的硅片定位装置，包括涂布吸头1和托板2，所述涂布吸头1为圆状，托板2固定在涂布吸头1的边缘，且托板2与涂布吸头1上表面平齐，涂布吸头1中心至托板2边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板2数量至少为三件，且均匀布置。进一步的，所述托板2数量为四件，呈十字形布置在涂布吸头1外缘。本技术在涂布吸头1的外缘加置托板2，呈十字形，使其与硅片外径大小相同，作业时将硅片放到“十字形”定位装置上，由涂布吸头吸住硅片，调整硅片外缘与四周托板2对齐，即可进行光阻涂布作业，不再需要人工对每一片硅片都进行反复调整，提高了人工摆放硅片的速度及准确度，大大提高了工作效率，而且使光阻涂布的厚度均匀，保证了光阻涂布外观质量。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻涂布用的硅片定位装置，其特征在于：包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板数量至少为三件，且均匀布置。

【技术特征摘要】
1.一种光阻涂布用的硅片定位装置，其特征在于：包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪良恩，
申请(专利权)人：安徽安芯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34