光阻涂布设备及其光阻涂布方法技术

技术编号:9108547 阅读:210 留言:0更新日期:2013-09-04 22:14
本发明专利技术提供一种光阻涂布设备及光阻涂布方法。所述光阻涂布设备,包括平台及光阻涂布装置,所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板,所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴,所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器,所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。本发明专利技术的光阻涂布设备及光阻涂布方法,能够提升光阻在基板上涂布厚度的均一性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光阻涂布设备,包括平台及光阻涂布装置,所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板,所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴,其特征在于,所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器,所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡金龙郑宪鸿
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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