卤素化合物、多环系化合物及使用其的有机电致发光元件制造技术

技术编号:4976287 阅读:233 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供具有用碳原子、氮原子或氧原子桥联的π共轭杂并苯骨架的多环系化合物,可以在其合成中使用的卤素化合物,以及在阴极与阳极之间具有含有发光层的一层以上的有机薄膜层、上述有机薄膜层的至少一层含有上述有机电致发光元件用材料的有机电致发光元件,提供发光效率高、寿命长的有机电致发光元件以及实现其的多环系化合物、作为其中间体的卤素化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及卤素化合物、多环系化合物以及使用其的有机电致发光元件,特别是 涉及发光效率高、寿命长的有机电致发光元件以及实现其的多环系化合物、作为其中间体 的卤素化合物。
技术介绍
有机电致发光元件(以下有时将电致发光简称为EL)是利用通过施加电场,由阳 极注入的空穴与由阴极注入的电子的再结合能量而使荧光性物质发光的原理的自发光元 件。报告低电压驱动的层压型有机EL元件以来,对以有机材料作为构成材料的有机EL元 件的研究日益盛行。该层压型元件中,发光层使用三(8-羟基喹啉)铝,空穴输送层使用三 苯基二胺衍生物。作为层压结构的优点,可以举出空穴对发光层的注入效率提高,阻挡由阴 极注入的电子、提高通过再结合生成的激子的生成效率,关闭在发光层内生成的激子等。如 该例所示,作为有机EL元件的元件结构,熟知空穴输送(注入)层、电子输送发光层的双层 型,或空穴输送(注入)层、发光层、电子输送(注入层)的三层型等。这种层压型结构元 件中,为了提高注入的空穴与电子的再结合效率,对元件结构、形成方法进行了研究。作为有机EL元件的发光材料,已知三(8-羟基喹啉)铝络合物等螯合物、香豆素 衍生物、四苯基本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式(1)或(2)表示的多环系化合物,  [化1]  ***  [式(1)和式(2)中,Ar↓[1]、Ar↓[2]和Ar↓[3]各自独立地表示取代或未取代的成环碳原子数为6的芳香族烃基、或者取代或未取代的成环原子数为6的芳香族杂环基,其中,Ar↓[1]、Ar↓[2]和Ar↓[3]可以具有一个或多个取代基Y,多个的情况下可以分别不同,Y表示碳原子数为1~20的烷基、取代或未取代的成环碳原子数为3~20的环烷基、碳原子数为1~20的烷氧基、碳原子数为7~24的芳烷基、甲硅烷基或碳原子数为3~20的取代甲硅烷基、取代或未取代的成环碳原子数为6~24的芳香族烃基、或成环原子数为3~24的与Ar↓[1]...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-6-5 2008-148514;JP 2009-4-16 2009-100319;U1.下式(1)或(2)表示的多环系化合物, [化1]2.如权利要求1所述的多环系化合物,其特征在于,A1和或A2为具有选自苯基、联苯 嗪基或芴基。或A2为具有选自苯基、联苯基、三联苯基或四联苯基中的至少一个以上取代基的嘧啶基、Ξ3.如权利要求1所述的多环系化合物,其特征在于,A1和 基、三联苯基或四联苯基中的至少一个以上取代基的咔唑基。4.如权利要求1所述的多环系化合物,其特征在于,A1和/或^为具有选自苯基、联苯 基、三联苯基或四联苯基中的至少一个以上取代基的二苯并呋喃基。5.如权利要求1所述的多环系化合物,其特征在于,A1和/或A2为具有2个以上苯环 相互以间位键合的结构的芳香族烃基。6.下式( 或(6)中的任意一式表示的权利要求1所述的多环系化合物, [化4]7.上式(5)、(6)分别以下式(5a)、(5b)、(6a)、(6b)中的任意一式表示的权利要求6 所述的多环系化合物, [化5]8.下式(7) (1 中的任意一式表示的权利要求1所述的多环系化合物, [化6]9.上式(7) (12)分别以下式(7a) (12a)、(7b) (12b)中的任意一式表示的权 利要求8所述的多环系化合物, [化7]10.下式(13)或(14)表示的权利要求1所述的多环系化合物, [化9]11.上式(13)、(14)分别以下式(13a)、(13b)、(14a)、(14b)中的任意一式表示的权利 要求10所述的多环系化合物, [化 10]12.如权利要求1所述的多环系化合物,其中,式O)中,η为2。13.如权利要求6、8或10所述的多环系化合物,其中,式(6)、式(10) (12)或式(14) 中的任意一式中,η为2。14.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)中,Y1J2和Y3表示的取代基的总 数为3以下,式(6)中的相对于一个[]η内结构的Y” Y2和Y3表示的取代基的总数为3以 下。15.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(7) (9)中,U和Y3表示的取代 基的总数为3以下,式(10) (12)中的相对于一个[]n内结构的Yp 1和Y3表示的取代 基的总数为3以下。16.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)中,Y1J2和Y3表示的取代基的 总数为3以下,式(14)中的相对于一个[]n内结构的Y” 1和Y3表示的取代基的总数为3 以下。17.如权利要求1所述的多环系化合物,其中,式(1)或O)中,&和)(2或)(3和)(4都 以N-队表示。18.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)或(6)中,)(5和)(6都以N-R1表示。19.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(7) (12)中,X7和)(8、X9和)(1(1或 X11和X12都以N-R1表示。20.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)或(14)中,X1JPX14都以N-R1 表不。21.如权利要求1所述的多环系化合物,其中,式(1)或O)中,&和)(2或)(3和)(4都 以N-队表示,R1中的至少一个为二苯并呋喃残基或咔唑残基。22.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)或(6)中,)(5和)(6都以N-队表示, R1中的至少一个为二苯并呋喃残基或咔唑残基。23.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(7) (12)中,X7和)(8、X9和)(1(1或 X11和X12都以N-Ii1表示,R1中的至少一个为二苯并呋喃残基或咔唑残基。24.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)或(14)中,X1JPX14都以N-R1 表示,R1中的至少一个为二苯并呋喃残基或咔唑残基。25.如权利要求1所述的多环系化合物,其中,式(1)或O)中,&和)(2或)(3和)(4分 别以N-队表示,\的N-队和\的N-R1、或&的N-队和&的N-队不同。26.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)或(6)中,)(5和)(6分别以N-队表 示,&的N-R1和X6的N-R1不同。27.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(7) (12)中,X7和)(8、X9和)(1(1或 X11 和 X12 分别以 N-R1 表示,\ 的 N-R1 和 \ 的 N-R1、X9 的 N-R1 和 Xltl 的 N-R1、或 X11 的 N-R1 和X12的N-队不同。28.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)或(14)中,XjPX14分别以N-R1 表示,X13的N-队和X14的N-队不同。29.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)或(6)中,)(5和)(6都为CR2R3。30.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(9)或(12)中,X11和X12都为CR2R3。31.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)或(14)中,知和&4都为CR2R3。32.如权利要求1所述的多环系化合物,其中,式(1)或O)中,&和)(2或)(3和)(4中 的至少一个为氧原子。33.如权利要求6所述的多环系化合物,其中,式(5)或㈩)中,)(5和)(6中的至少一个 为氧原子。34.如权利要求8所述的多环系化合物,其中,式(7) (12)中,X7和)(8、X9和)(1(1或 X11和X12中的至少一个为氧原子。35.如权利要求10所述的多环系化合物,其中,式(13)或(14)中,X1JPX14中的至少 一个为氧原子。36.如权利要求1所述的多环系化合物,为式(1)或O)中,&和&或&和&都为氧 原子的苯并呋喃并二苯并呋喃衍生物。37.如权利要求6所述的多环系化合物,为式(5)或(6)中,)(5和)(6都为氧原子的苯并 呋喃并二苯并呋喃衍生物。38.如权利要求8所述的多环系化合物,为式(7) (12)中,Χ7*Χ8、)(9和Xltl或、和 X12都为氧原子的苯并呋喃并二苯并呋喃衍生物。39.如权利要求10所述的多环系化合物,为式(13)或(14)中,Χ13*Χ14都为氧原子 的苯并呋喃并二苯并呋喃衍生物。40.如权利要求6所述的多环系化合物,为下式(15)或(16)中的任意一式表示的苯并 呋喃并二苯并呋喃衍生物,[化 11][式(16)中,η表示2、3或4,分别为以L3作为连接基团的二聚体、三聚体、四聚体, 式(1 和(16)中,L1表示单键、碳原子...

【专利技术属性】
技术研发人员:加藤朋希沼田真树吉田圭西村和树岩隈俊裕细川地潮
申请(专利权)人:出光兴产株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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