光学薄膜用粘合片、其制造方法、粘合型光学薄膜及图像显示装置制造方法及图纸

一种脱膜片上具有粘合剂层的光学薄膜用粘合片，脱膜片上的粘合剂层表面的表面粗糙度（Ｒａ）为２～１５０ｎｍ。该光学薄膜用粘合片可以通过实施包括下述工序的制造方法来得到：在脱膜片上涂敷粘合剂涂敷液的工序；通过进行对所述粘合剂涂敷液实施温度３０～８０℃、风速０．５～１５ｍ／秒的第１干燥工序及温度９０～１６０℃、风速０．１～２５ｍ／秒的第２干燥工序来形成粘合剂层的工序。该光学薄膜用粘合片适用于液晶显示装置等图像显示装置时，可以减少粘合剂层的视觉辨认度问题。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学薄膜用粘合片及其制造方法。进一步涉及使用该光学薄膜用粘合片的粘合型光学薄膜。还涉及使用该粘合型光学薄膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置。作为所述光学薄膜，例如可以举出偏振板、相位差板、光学补偿薄膜、亮度提高薄膜以及层叠上述光学薄膜得到的光学薄膜等。
技术介绍
液晶面板在时钟、手机、PDA、笔记本、电脑用监控器、DVD显示器、TV等中用于液晶显示装置。近年，以液晶面板为代表的光学面板对于提高亮度、高精细化、低反射化等显示特性的要求越来越高。另外用于光学面板的光学薄膜对外观的要求也越来越高。将所述光学薄膜贴合于液晶单元时，通常使用粘合剂。另外，光学薄膜与液晶单元或光学薄膜间的粘接通常由于减少光损耗，所以各种材料使用粘合剂来密合。在上述情况下，由于具有在使光学薄膜粘固时无需干燥工序等优点，所以粘合剂通常使用预先在光学薄膜的单侧作为粘合剂层设置的粘合型光学薄膜。使用粘合剂贴合所述光学薄膜的液晶显示装置，特别是笔记本电脑、电脑用监控器中，进行提高亮度、面板最表面的低反射化，所以从倾斜方向辨认液晶显示装置时，有浮现出粘合剂层涂敷不均的问题，该问题有时给视觉辨认度带来严重影响。关于粘合剂层，提出了控制涂敷厚度、表面粗糙度的方案。例如，关于设置于偏振板等的粘合剂层的厚度不均，提出了通过减小标准偏差来提高在高温、高温多湿环境下的耐久性的方案(专利文献1)。另外，通过于将脱模面的表面粗糙度控制为较小的脱模基材形成粘合剂层，将该粘合剂-->层转印于保护薄膜，由此在保护薄膜上形成将表面粗糙度控制为较小的粘合剂层(专利文献2)。但是，即使根据上述专利文献，也无法改善粘合剂层不均对视觉辨认度带来的影响。【专利文献1】日本特开平9-90125号公报【专利文献2】日本特开2005-306996号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供适用于液晶显示装置等图像显示装置时可以减少粘合剂层的视觉辨认度问题的光学薄膜用粘合片及其制造方法。另外，本专利技术的目的在于提供使用所述光学薄膜用粘合片的粘合型光学薄膜。另外，本专利技术的目的在于提供使用所述粘合型光学薄膜的图像显示装置。本专利技术人为了解决上述课题进行了潜心研究，发现利用下述光学薄膜用粘合片及其制造方法可以实现上述目的，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及一种光学薄膜用粘合片，其特征在于，其是在脱膜片上具有粘合剂层的光学薄膜用粘合片，脱膜片上的粘合剂层表面的表面粗糙度(Ra)为2～150nm。另外，本专利技术涉及一种光学薄膜用粘合片的制造方法，其特征在于，包括下述工序：在脱膜片上涂敷粘合剂涂敷液的工序；对所述粘合剂涂敷液实施温度30～80℃、风速0.5～15m/秒的第1干燥工序及温度90～160℃、风速0.1～25m/秒的第2干燥工序来形成粘合剂层的工序。另外，本专利技术涉及一种粘合型光学薄膜，其特征在于，其是在脱膜片上具有粘合剂层的光学薄膜用粘合片的粘合剂层表面贴合光学薄膜的粘合型光学薄膜，光学薄膜用粘合片是权利要求1所述的光学薄膜用粘合片，在表面粗糙度(Ra)为2～150nm的粘合剂层表面贴合有光学薄膜。另外，本专利技术涉及一种图像显示装置，其至少使用1张从所述粘合型光学薄膜中剥离脱模片后的粘合型光学薄膜的图像显示装置。-->本专利技术人发现与光学薄膜贴合的粘合剂的表面粗糙度Ra、特别是相对于长度方向的垂直方向(正交方向)的表面粗糙度Ra严重影响视觉辨认度。本专利技术的光学薄膜用粘合片中，设置于脱膜片上的粘合剂层表面的表面粗糙度(Ra)被控制于2～150nm，没有涂敷不均地形成有粘合剂层。在将本专利技术的光学薄膜用粘合片贴合于光学薄膜而制作的粘合型光学薄膜中，具有所述表面粗糙度的粘合剂层表面贴合于光学薄膜。如上所述，由于没有不均地形成有光学薄膜用粘合片的粘合剂层表面，所以可以抑制粘合剂层导致的视觉辨认度降低，可以提高液晶显示装置的视觉辨认度、特别是倾斜方向的视觉辨认度。附图说明【图1】是本专利技术光学薄膜用粘合片的一例的截面图。【图2】是本专利技术粘合型光学薄膜的一例的截面图。符号说明1  脱膜片2  粘合剂层2a 表面粗糙度(Ra)为2～150nm的粘合剂层表面3  光学薄膜具体实施方式以下参见附图说明本专利技术。图1是本专利技术的光学薄膜用粘合片A的截面图，脱膜片1上具有粘合剂层2。粘合剂层表面2a的表面粗糙度(Ra)为2～150nm。图2是本专利技术的粘合型光学薄膜，光学薄膜用粘合片A的粘合剂层2的粘合剂层表面2a与光学薄膜3贴合。将该粘合型光学薄膜应用于液晶显示装置等图像显示装置时，剥离脱膜片1，粘合剂层2的粘合剂层表面2b(与粘合剂层表面2a相反的面)贴合于各种材料。本专利技术的光学薄膜用粘合片A中，粘合剂层表面2a的表面粗糙度(Ra)为2～150nm。所述表面粗糙度(Ra)优选为10～140nm，更优选为20～120nm，进一步优选为30～100nm。所述表面粗糙度(Ra)超过180nm时，-->粘合剂层的不均变显著，给视觉辨认度带来不良影响。另一方面，所述表面粗糙度(Ra)小于2nm时，与光学薄膜的密合性降低，或给生产率带来显著的不良影响。脱膜片至少具有薄膜基材。作为薄膜基材的构成材料，可以举出纸、聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂等的合成树脂薄膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网、发泡片或金属箔、它们的层合体等适当的薄物等。上述材料中，所述薄膜基材优选聚乙烯系树脂、聚烯烃系树脂、纸。薄膜基材的厚度通常为10～125μm，优选为20～100μm，较优选为30～80μm。脱膜片的薄膜基材可以在设置于粘合剂层的一侧设置剥离层和/或寡聚物的防移动层。作为所述脱模层，可以利用硅酮系、长链烷基系、氟系、硫化钼等适当的剥离剂来形成。从脱模效果的观点出发，脱模层的厚度可以适当设定。通常，从柔软性等操作性的观点出发，该厚度优选为20μm以下，较优选在0.01～10μm的范围内，特别优选在0.1～5μm的范围内。作为脱模层的形成方法，没有特别限定，例如可以使用涂敷法、喷雾法、旋涂法、在线涂布法等。另外，也可以使用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、喷雾热分解法、化学镀法、电镀法等。所述防移动层与脱模层一同设置时，优选设置在脱模层与脱膜片的薄膜基材之间。作为所述防移动层，可以利用用于防止脱膜片的基材薄膜(例如，聚酯膜)中的移动成分、特别是聚酯的低分子量寡聚物成分移动的适当材料来形成。作为防移动层的形成材料，可以使用无机物或有机物或者它们的复合材料。防移动层的厚度可以在0.01～20μm的范围适当设定。作为防移动层的形成方法，没有特别限定，可以采用与脱模层的形成方法相同的方法。所述涂敷法、喷雾法、旋涂法、在线涂布法中，可以使用丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、蜜胺系树脂、环氧系树脂等电离放射线固化型树脂或在所述树脂中混合氧化铝、二氧化硅、云母等得到的材料。另外，使用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、喷雾热分解法、化学镀法或电镀法时，可以使用包括金、银、铂、钯、铜、铝、镍、铬、钛、铁、钴或锡或它们的合金等的金属氧化物、包括碘化钢等的其他金属化合物。-->形成粘合剂层的粘合剂没有特别限定，可以使用橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、硅酮系粘合剂等各种粘合剂，但本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜用粘合片，其特征在于，　其是在脱膜片上具有粘合剂层的光学薄膜用粘合片，　其中，脱膜片上的粘合剂层表面的表面粗糙度Ｒａ为２～１５０ｎｍ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-6-7 151611/20071、一种光学薄膜用粘合片，其特征在于，其是在脱膜片上具有粘合剂层的光学薄膜用粘合片，其中，脱膜片上的粘合剂层表面的表面粗糙度Ra为2～150nm。2、光学薄膜用粘合片的制造方法，其特征在于，其是权利要求1所述的光学薄膜用粘合片的制造方法，包括下述工序：在脱膜片上涂敷粘合剂涂敷液的工序；对所述粘合剂涂敷液进行温度30～80℃、风速0.5～15m/秒的...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上真一，佐竹正之，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]