镀膜用旋转溅射阴极装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置，包括：通过一对支承座活动支承在机架中的阴极圆管及安装在阴极圆管上的圆管状靶材；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管和磁芯元件；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管内腔通过的另一端的出水孔与空腔相通。本发明专利技术可应用于真空镀膜玻璃的生产设备中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到一种镀膜溅射装置，尤其涉及到一种镀膜用旋转溅射阴极装置。
技术介绍
目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材，其工作原理是：将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体---如氧气、氮气或氩气，在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的等离子体，等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下，在磁场的控制下，按照一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材料，镀膜材料被气体分子碰撞出来，按照一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度的膜层。上述平面溅射阴极靶材的缺点是：由于轰击轨道和靶材均是固定的，因此使用一段时间后，平面溅射阴极靶材表面会形成跑道状溅射凹坑，不仅会破坏镀膜层的均匀性，而且降低了靶材的利用率，需要经常更换靶材，十分麻烦。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：将提供一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置。为解决上述问题，本专利技术采用的技术方案是：镀膜用旋转溅射阴极装置，包括：安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座本文档来自技高网...

【技术保护点】
镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在于：包括：安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座上设置有驱动轮和电刷，电源通过电刷和该支承座传导到阴极圆管上；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管，中心支承管的底部设置有磁芯元件；另一个支承座活动支承在绝缘套内，绝缘套安装在机架上；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水...

【技术特征摘要】
1.镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在于：包括：安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座上设置有驱动轮和电刷，电源通过电刷和该支承座传导到阴极圆管上；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管，中心支承管的底部设置有磁芯元件；另一个支承座活动支承在绝缘套内，绝缘套安装在机架上；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵子东，
申请(专利权)人：苏州新爱可镀膜设备有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]