镀膜用旋转溅射阴极装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置，包括：通过一对支承座活动支承在机架中的阴极圆管及安装在阴极圆管上的圆管状靶材；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管和磁芯元件；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管内腔通过的另一端的出水孔与空腔相通。本实用新型专利技术可应用于真空镀膜玻璃的生产设备中。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到一种镀膜溅射装置，尤其涉及到一种镀膜用旋转溅射阴 极装置。
技术介绍
目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材，其工作原理是 将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体 一-如氧气、氮气或氩气，在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的 等离子体，等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下，在磁场的控制下，按照 一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材 料，镀膜材料被气体分子碰撞出来，按照一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度 的膜层。上述平面溅射阴极靶材的缺点是由于轰击轨道和靶材均是固定的， 因此使用一段时间后，平面溅射阴极靶材表面会形成跑道状溅射凹坑，不仅会 破坏镀膜层的均匀性，而且降低了靶材的利用率，需要经常更换靶材，十分麻 烦。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是将提供一种镀膜材料溅射均匀和靶材 利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置。为解决上述问题，本技术采用的技术方案是镀膜用旋转溅射阴极装 置，包括安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个 支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座上设置有驱动轮 和电刷，电源通过电刷和支承座传导到阴极圆管上；在阴极圆管内部还绝缘支 承有中心支承管，中心支承管的底部设置有磁芯元件；另一个支承座活动支承在绝缘套内，绝缘套安装在机架上；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管 之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接 触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通 过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的 空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管的 另一端设置有出水孔，空腔通过该出水孔与中心支承管的内腔相通。 在上述的中心支承管上还设置有若干个导流叶片。所述的磁芯元件安装在磁芯安装座中，磁芯安装座通过固定扣件安装在中 心支承管上。在所述的磁芯元件与阴极圆管之间还设置有若干个支撑滚轮。 所述的磁芯元件的中间为N极，两侧布置着S极。本技术的优点是通过采用圆筒状的靶材，工作时使之转动，这样靶 材在被轰击的时候就不会形成凹坑，并且避免溅射氧化层的形成，提高靶材的 利用率，提高镀膜层的均匀性。附图说明图1是本技术所述的镀膜用旋转溅射阴极装置的结构示意图； 图2是图1中A部分的局部放大图； 图3是图1中B部分的局部放大图4是图1中磁芯元件及磁芯安装座部分的C—C剖面结构图。 图中1、阴极圆管，2、靶材，3、支承座，31、支承座，4、机架，5、 驱动轮，6、电刷，7、中心支承管，8、磁芯元件，9、绝缘套、10、空腔，11、 密封凸块，12、通孔，13、通孔，14、进水管，15、出水通孔，16、出水管， 17、出水孔，18、导流叶片，19、磁芯安装座，20、固定扣件，21、支撑滚轮， 22、绝缘件。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术所述的技术方案、及其工作原理 和优点作进一步的描述。如图l、图2、图3所示，镀膜用旋转溅射阴极装置，包括安装在阴极圆 管1上的圆管状靶材2，阴极圆管1的两端分别连接有一个支承座3和31，其 中一个支承座3通过绝缘件22及轴承绝缘地活动支承在机架4上，该支承座3 上设置有驱动轮5和电刷6，电源通过电刷6和支承座3传导到阴极圆管1上； 在阴极圆管1内部还绝缘支承有中心支承管7，中心支承管7的底部设置有磁芯 元件8，参见图4所示，所述的磁芯元件8安装在磁芯安装座19中，磁芯安装 座19通过固定扣件20安装在中心支承管上7，所述的磁芯元件8的中间为N 极，两侧布置着S极；另一个支承座31通过轴承活动支承在绝缘套9内，绝缘 套9安装在机架上4;中心支承管7与绝缘套9、支承座3和31及阴极圆管1 之间构成一个密闭的空腔10，绝缘套9内壁上设置有密封凸块11与中心支承管 7密封接触，位于密封凸块11外侧的中心支承管7的端部设置有通孔12，中心 支承管7的内腔通过该通孔12及绝缘套9上的通孔13与安装在机架4上的进 水管14相通，密封凸块11另一侧的空腔10通过绝缘套9上的出水通孔15与 安装在机架4上的出水管16相通，在中心支承管7的另一端设置有出水孔17， 空腔10通过该出水孔17与中心支承管7的内腔相通。在中心支承管7上还设 置有若干个导流叶片18，导流叶片18的作用是引导水的流向，使冷却水能快速 通过空腔10从出水管16排出。在磁芯元件8与阴极圆管1之间还设置有若干 个支撑滚轮21，支撑滚轮21的作用是防止中心支承管7和磁芯元件8等因自 重弯曲而与阴极圆管l的内壁发生摩擦，妨碍阴极圆管1的转动。本技术的工作原理是工作时由另外设置的驱动装置通过驱动轮5驱 动支承座3和31、及阴极圆管1和靶材2匀速转动，并通过电刷6将高负电压 通过支承座3传递至阴极圆管1上。将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体-一如氧气、氮气或氩气，在电磁场及游离 电子的作用下工艺气体形成带正电的等离子体，等离子体在载有高负电压的阴 极——阴极圆管l的吸引下，在磁场的控制下，按照一定的轨迹和力度轰击匀速旋转的圆管状靶材2上的镀膜用材料，镀膜材料被气体分子碰撞出来，按照 一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度的膜层，完成镀膜工作。本技术中， 由于靶材2在工作时不断匀速旋转，因而等离子体就会均匀地轰击到其整个表 面，在其表面就不会形成因某一位置被长期轰击而形成的溅射凹坑，有效避免 了溅射氧化层的形成，并且提高了靶材的利用率，提高了镀膜层的均匀性。另外，为了避免长期工作后靶材2的工作温度过高，可往阴极圆管1中通 入冷却水，其冷却方法是在进水管14中通入不导电的冷却水，冷却水从进水 管14经过设置在绝缘套9上的通孔13和设置在中心支承管7上的通孔12流入 中心支承管7的内腔，然后从出水孔17流入空腔10，最后经出水通孔15从出 水管16流出。工作时，由于阴极圆管1处于旋转状态，因而导流叶片18相对 于阴极圆管1作相对转动，从而更好地引导冷却水快速地流向出水通孔15。权利要求1、镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在于包括安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座上设置有驱动轮和电刷，电源通过电刷和该支承座传导到阴极圆管上；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管，中心支承管的底部设置有磁芯元件；另一个支承座活动支承在绝缘套内，绝缘套安装在机架上；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管的另一端设置有出水孔，空腔通过该出水孔与中心支承管的内腔相通。2、 按照权利要求l所述的镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在于在中心 支承管上还设置有若干个导流叶片。3、 按照权利要求1或2所述的镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在本文档来自技高网...

【技术保护点】
镀膜用旋转溅射阴极装置，其特征在于：包括：安装在阴极圆管上的圆管状靶材，阴极圆管的两端分别连接有一个支承座，其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上，该支承座上设置有驱动轮和电刷，电源通过电刷和该支承座传导到阴极圆管上；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管，中心支承管的底部设置有磁芯元件；另一个支承座活动支承在绝缘套内，绝缘套安装在机架上；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管的另一端设置有出水孔，空腔通过该出水孔与中心支承管的内腔相通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵子东，
申请(专利权)人：苏州新爱可镀膜设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]