【技术实现步骤摘要】
本技术涉及到一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。
技术介绍
传统的镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃两侧抽真空时普 遍存在等离子气氛不稳定的现象，极易造成镀膜膜层的不均匀性。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是将提供一种等离子气氛稳定性较好的 镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。为解决上述问题，本技术采用的技术方案是镀膜玻璃用磁控镀膜真 空腔室，包括腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别 开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。所述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。本技术的优点是通过采用气氛隔离挡板，使得在对玻璃上、下表面 抽真空的时候，能提高等离子气氛的稳定性。附图说明图1是本技术所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室主视方向的内部结 构图。图中1、腔室，2、隔离通道，21、墙板，3、玻璃输送通道，4、气氛隔 离挡板。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术所述的技术方案和优点作进一步 的描述。如图1所示， 一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括腔室l，设置在 腔室1内的三个隔离通道2，在每个隔离通道2上分别开设有玻璃输送通道3， 在玻璃输送通道3的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板4。所述的气氛隔离挡 板4设置在构成隔离通道2的墙板21上。本技术的优点是在对腔室进行抽真空时，提高了玻璃横向表面的等 离子气氛的稳定性及玻璃的镀膜质量。权利要求1、镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，其特征在于在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板...
【技术保护点】
镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，其特征在于：在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵子东，
申请(专利权)人：苏州新爱可镀膜设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]
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