【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及到一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置。
技术介绍
传统的磁控镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃进行镀膜时，阴极溅射下的杂质到处飞溅，当溅到镀膜玻璃上时，影响了镀膜的质量，导致整块玻璃不合格，既浪费了材料又浪费了人工。当腔室长期处于镀膜状态下时，腔室温度变得过高，影响了镀膜的质量，降低了腔室的使用寿命。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：将提供一种能够有效阻挡阴极溅射下的杂质、保证镀膜质量的真空磁控镀膜室中的遮挡装置。为解决上述问题，本专利技术采用的技术方案是：真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。在玻璃输送辊道的两侧还分别设置有冷却挡板。本专利技术的优点是：通过采用冷却挡板后，能够有效阻挡阴极溅射的杂质，减少杂质飞溅，提高了腔室的使用寿命。附图说明图1是本专利技术所述的真空磁控镀膜室中的遮挡装置的结构示意图；图2是图1中A-A剖视图。图中：1、玻璃输送辊道，2、阴极靶材装置，3、冷却挡板，31，折边，4、腔室。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术所述的技术方案和优点作进一步的描述。如图1所示，一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室4，设置在腔室4内的阴极靶材装置2和玻璃输送辊道1，在阴极靶材装置2的四周设置有冷却挡板3，并且冷却挡板3的底部设有向内弯折的折边31。在玻璃输送辊道1的两侧还分别设置有冷却挡板3。本专利技术的优点是：在阴极靶材装置2的四周和玻璃输送辊道的两侧设置了冷却挡板3后，有效防...
【技术保护点】
真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，其特征在于：在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。
【技术特征摘要】
1.真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，其特征在于：在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵子东，
申请(专利权)人：苏州新爱可镀膜设备有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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