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本发明公开了一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置，包括：通过一对支承座活动支承在机架中的阴极圆管及安装在阴极圆管上的圆管状靶材；在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管和磁芯元件；中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构...
该专利属于苏州新爱可镀膜设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州新爱可镀膜设备有限公司授权不得商用。

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