清洗基板的设备和方法技术

基板处理设备包括：支撑基板的支撑板和设置在基板上用来保护基板的防护单元。所述防护单元临近用于生成冲击波的光聚焦的焦点的一部分被转换。因此，所述基板清洗设备阻止了与冲击波一起生成的气化物质／残留光束在所述防护单元特定部分的集中，并且进一步的防止了由防护单元的损坏而引起的基板再污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术所描述的涉及一种半导体制造仪器，尤其涉及一种用激光冲击波清 洗基板的设备和方法。
技术介绍
通常，半导体基板通过薄膜沉积过程、蚀刻过程和清洗过程制造。特别地， 清洗过程移除在半导体基板制造过程中产生的残留物质或微粒。所述清洗过程可以分为湿清洗和干清洗。湿清洗利用化学试剂清洗基板。 在湿清洗中使用的大量化学试剂引起了环境污染。另外，湿清洗具有作业速度 低和设备体积大的局限。同时，干清洗用等离子或激光清洗基板而不损坏基板。利用等离子的干清 洗是通过使得自由基(radical )与基板表面的污染物相作用而清洗基板。利用更详细的，利用激光的干清洗聚焦激光束以在基板上面产生冲击波，并且 外来物质被冲击波移除。然而，当产生冲击波的时候，气化物质(pl腿es)或 残留光束也随着沖击波一起产生。气化物质或者残留光束造成了对基板的损害。为了避免上述限制，将防护罩部署在基板上面以防止气化物质或残留光束 入射到基板上。然而，在清洗基板时，仅是基板随着激光的焦点旋转而防护罩是固定的，因此，这样气化物质和残留光束不断的入射到防护罩上的特定部分。 这就导致了防护罩的损坏并且防护罩的碎片落到基板上而污染基板。
技术实现思路
本专利技术提供了 一种基板清洗设备，该基板清洗设备能够防止基板清洗过程 中的基板再污染。本专利技术还提供了 一种利用基板清洗设备的基板清洗方法。本专利技术的实施例提供的基板清洗设备，包括支撑板，光束发生器，透镜和 防护单元。所述支撑板支撑基板并且能够旋转。所述光束发生器发射光，该光用于生 成清洗基板用的冲击波。所述透镜将从光束发生器发射的光聚焦到基板上面。 所述防护单元在透镜的焦点和基板之间保护基板。所述防护单元邻近焦点的一 部分被切换。在一些实施例中，所述防护单元可以包括防护罩和移动单元。所述防护罩 可以相对地部署在基板上面，并且当从顶面观察时，覆盖了基板的一部分。所 述移动单元可以与防护罩啮合并且移动该防护罩。在本专利技术的其他实施例中，基板清洗设备包括支撑单元和清洗单元。 所述支撑单元支撑基板。所述清洗单元产生用于清洗基板的冲击波并将所 述冲击波集中到基板。这样，所述清洗单元可以包括冲击波发生器和防护罩。 所述冲击波发生器利用激光束在基板上面产生冲击波。所述防护罩在激光束集 中的焦点和基板之间面向基板。在本专利技术的其他实施例中，基板清洗方法包括在支撑板上部署基板；在 基板上面部署防护罩；在邻近所述防护罩的点上聚焦光来在基板上面产生冲击 波；利用所述冲击波清洗基板，同时切换防护罩临近光聚焦的聚焦点的部分。附图说明在此包括相关附图用以提供对本专利技术的进一步理解，并且所述附图结合到本专利技术中，组成本il明书的一部分。所述附图显示了本专利技术示范性的实施例，并且结合说明书，用来解释本专利技术的原理。在这些图中 图l是依照本专利技术实施例的基板清洗设备的示意图； 图2是图1中所描述的防护部件的顶部平面视图； 图3是显示图1的基板清洗设备清洗基板的过程的示意图； 图4和图5是显示切换图3中所述防护罩的防护位置的过程的顶部平面视图6依照本专利技术另 一实施例的基板清洗设备的示意图7是图6中所描述的防护单元的顶部平面^^图8是显示图6的基板清洗设备清洗基板的过程的示意图；以及图9是图8中所描述的防护单元的顶部平面视图。 优选实施例的详细描述本专利技术的优选实施例将在下面参照相应附图进行更详细地描述。图1是依照本专利技术实施例的基板清洗设备的示意图，图2是图1中所描述 的防护部件的顶部平面一见图。参照图1，依照本专利技术实施例的基板清洗设备301包括用于支撑基板的支撑 单元100和利用冲击波清洗基板的清洗单元201。更详细的，所述支撑单元100可以包括支撑板110,转轴120和固定轴130。 所述支撑板11G形成于圓盘状，并且基板部署在所述支撑板11G的顶部表面。 这样，基板的背面面对支撑板110。此外，支撑板110可以包括多个卡盘销111 和多个支撑销113。所述卡盘销111设置在支撑板110的顶面来固定地支撑基板的外部周边。所述支撑销113放置在相对于所述卡盘销111的内侧来支撑基板 的底面边缘。所述转轴120和固定轴130安装在支撑板11G的下面。转轴120与支撑板 110啮合并且连接到外部驱动单元(未示出)来旋转。转轴120的转矩(旋转力) 传送给支撑板，并且所述支撑板110与转轴12 0 —起旋转。所述转轴12 0与固 定轴130啮合。所述固定轴130的第一末端部分与转轴120啮合并且支撑所述 转轴120。然而，固定轴130不与转轴120 —起旋转。同时，所述清洗单元201在支撑板110上产生冲击波(SW)清洗基板。参照图1和图2，所述清洗单元201包括光束产生单元210，透镜220,和 防护单元230。所述光束产生单元210产生激光束并且将所述激光束集中到透镜 220。所述透镜220把激光束LB聚焦到支撑板11Q上。从而，在支撑板110上 面产生冲击波。所述沖击波在参照激光束聚焦的焦点FP的各个方向传播，并且 与基板10的表面相碰撞来从基板移除外部物质。在一实施例中，所述透镜220的焦点FP定位于支撑板110的中心部位并且 在基板清洗的过程中固定。同时，所述防护单元230设置在支撑板11Q的上面。所述防护单元230保 护基板免受与冲击波SW —起产生的气化物质/残留光束P/RB的污染。更详细的，所述防护单元230可以包括防护罩231，旋转驱动单元233,和 连接单元235。所述防护罩231安装在支撑板110的上面并且空间上远离所述支 撑板IIO。这样，所述防护罩231的背面面对支撑板110的顶面。所述防护罩 231设置在支撑板11G和焦点FP之间来保护基板免受来自气化物质/残留光束 P/RB的污染。在一实施例中，所述防护罩231可以可位于焦点FP的一侧并且成形于圆盘状。此外，所述防护罩231可以由硅制成。在此实施例中，所述防护罩231成形于圆状。然而，本专利技术并不受此结构 的限制。例如，所述防护罩231可以成形于椭圆形。所述旋转驱动单元233和连接单元235安装在防护罩231上面。所述旋转 驱动单元233是提供转矩给防护罩231的步进电机。所述连接单元235与防护 罩231的顶面啮合，并且将防护罩231连接到旋转驱动单元233。所述旋转驱动单元233的转矩经过连接单元2 35传送给防护罩231。所述防 护罩231在所述旋转驱动单元233的转矩的作用下反向旋转。在一实施例中， 所述防护罩231的旋转角度小于180° 。更详细的，所述防护罩231包括第一到第四防护区域231a, 231b， 231c和 231d。所述第一到第四防护区域231a， 231b， 231c和231d通过^黄越所述防护 罩231的中心点的线定义。例如，所述防护区域231a， 231b, 231c和231d成 形于弧状。在这个实施例中，第一到第四防护区域231a， 231b， 231c和231d具有相 同的中心角e,该中心角6与防护罩231的旋转角是相同的。因此，第一到第 四防护区域231a, 231b， 231c和231d的数量会#4居防护罩231的旋转角6而 变化。所述防护罩231的旋转角6由旋转驱动单元233的旋转运动所决定。也 就是说，如图2中所示，当防护罩231本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，包括：　支撑板，用于支撑基板，所述支撑板可以旋转；　光束发生器，用于发射光，所述光用来生成清洗基板的冲击波；　透镜，用于将由所述光束发生器发送的光聚焦到所述基板上；　用于保护基板的防护单元，位于透镜 的焦点和基板之间，所述防护单元临近焦点的一部分可以切换。

【技术特征摘要】
KR 2008-5-6 10-2008-00418761、一种基板清洗设备，包括支撑板，用于支撑基板，所述支撑板可以旋转；光束发生器，用于发射光，所述光用来生成清洗基板的冲击波；透镜，用于将由所述光束发生器发送的光聚焦到所述基板上；用于保护基板的防护单元，位于透镜的焦点和基板之间，所述防护单元临近焦点的一部分可以切换。2、 根据权利要求1所述的基板清洗设备，其中所述防护单元包括 相对的设置在所述基板上的防护罩，当从顶部观察时，所述防护罩覆盖了基板的一部分；以及与所述防护罩啮合并移动所述防护罩的移动单元。3、 根据权利要求2所述的基板清洗设备，其中所述防护罩成形于圆形或椭 圆形。4、 根据权利要求3所述的基板清洗设备，其中所述防护罩被横越所述防护 罩的中心点的至少一条线分成多个防护区域，所述防护区域的中心角彼此相 同，并且所述中心角与所述防护罩的旋转角度相同。5、 根据权利要求4所述基板清洗设备，其中，所述移动单元包括 与所述防护罩的顶部表面啮合和的连接单元；以及 与所述连接单元啮合并旋转所述防护罩的旋转驱动单元。6、 根据权利要求3所述基板清洗设备，其中，所述移动单元包括 与所述防护罩的顶部表面啮合并旋转所述防护罩的旋转单元；以及 与所述旋转单元啮合的固定单元。7、 根据权利要求2所述基板清洗设备，其中，当从顶部观察时，所述防护 罩位于通过横跨基板的中心点对分所述基板的线的一侧。8、 根据权利要求2所述基板清洗设备，进一步包括在所述基板上临近所 述防护单元并用于吸收粒子的吸收单元。9、 一种基板清洗设备，包括 支撑基板的支撑单元；以及生成用...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵重根，李世原，郑载正，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]