【技术实现步骤摘要】
本公开涉及用于清洗基板处理装置的部件的装置及方法。
技术介绍
1、在制造半导体器件或液晶显示器时，对基板执行诸如光刻、蚀刻、离子注入或薄膜沉积的各种工艺。在工艺之前或之后，执行清洗基板的工艺，以去除在每个工艺中产生的污染物和微粒。
2、在这种清洗工艺中，向基板供应液体以去除薄膜或异物，并且使在对基板的液体处理期间产生的微粒最小化。
3、然而，在清洗工艺中使用的部件中的一些可能与清洗溶液反应从而产生微粒，并且根据部件的耐久性，在部件的操作期间产生微粒。随着部件使用时期的增加，积聚在部件上的异物的量也增加，并且积聚的异物可能转移并污染基板。
4、因此，作为清洗部件的方法，已经提出了将部件浸入如图1中所示的容器2的清洗溶液4中。然而，清洗溶液难以渗透到部件内的微空间中，并且当部件在被清洗之后操作时，再次产生微粒。
技术实现思路
1、本公开提供了提高基板处理期间的清洗能力的部件清洗装置及部件清洗方法。
2、本公开提供了防止基板处理装置的部件被污染的部件清洗装置及部件清洗方法。
3、另外的方面将部分地在随后的描述中被阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过本公开所呈现的实施方式的实践来获知。
4、根据本公开的一方面，用于清洗基板处理装置的部件的装置包括：化学溶液储存罐，用于储存化学溶液；过滤器，配置成过滤从化学溶液储存罐供应的化学溶液；加热器，配置成加热经过滤的化学溶液；以及振动器，与过滤器相邻布置，并且配置成向
5、此外，振动器包括第一振动器和第二振动器，并且第一振动器和第二振动器中的每个与过滤器的侧壁接触。
6、此外，该装置还包括与过滤器相邻布置的夹具，并且夹具将振动器固定到过滤器的侧壁。
7、此外，夹具的水平宽度小于振动器的水平宽度。
8、此外，夹具包括第一夹具和第二夹具，并且第一夹具和第二夹具中的每个与过滤器间隔开布置，而振动器介于第一夹具与第二夹具之间。
9、此外，该装置还包括化学溶液排出管，化学溶液排出管布置在化学溶液储存罐与加热器之间，并且配置成排出已经穿过加热器的化学溶液。
10、此外，化学溶液排出管排出已经穿过过滤器和加热器的化学溶液的全部，以防止由化学溶液引起的再污染。
11、此外，振动器的竖直长度小于过滤器的竖直长度。
12、此外，振动器防止杂质粘附到过滤器的内壁。
13、此外，振动器向过滤器提供周期性脉冲形式的超声波。
14、此外，化学溶液是异丙醇。
15、根据本公开的另一方面，用于清洗基板处理装置的部件的装置包括：化学溶液储存罐，用于储存化学溶液；过滤器，配置成过滤从化学溶液储存罐供应的化学溶液；加热器，配置成加热经过滤的化学溶液；振动器，与过滤器相邻布置，并且配置成向过滤器的内部提供超声波振动；以及第一夹具和第二夹具，与过滤器相邻布置，并且配置成将振动器固定到过滤器，其中，振动器包括第一振动器和第二振动器，并且第一振动器和第二振动器彼此面对，而过滤器介于第一振动器与第二振动器之间。
16、此外，该装置还包括循环线，从化学溶液储存罐供应的化学溶液通过循环线循环，其中，在循环线上布置有配置成排出化学溶液的化学溶液排出管，且过滤器、加热器和化学溶液排出管依次布置在循环线上。
17、此外，在化学溶液储存罐与过滤器之间布置有阀，阀配置成调节从化学溶液储存罐供应的化学溶液的流量。
18、此外，第一振动器和第二振动器去除形成在过滤器内部的粉末。
19、此外，第一夹具将第一振动器固定到过滤器的侧壁，且第二夹具将第二振动器固定到过滤器的侧壁。
20、此外，过滤器包括下部分、中央部分和上部分，下部分和上部分分别具有半球形形状，中央部分具有圆柱形形状，且振动器附接到中央部分。
21、此外，第一振动器和第二振动器配置成在过滤器的内壁上产生微气泡。
22、根据本公开的另一方面，用于清洗基板处理装置的部件的装置包括：化学溶液储存罐，用于储存和供应化学溶液；过滤器，布置在从化学溶液储存罐分支的循环线上，并且配置成过滤从化学溶液储存罐供应的化学溶液；加热器，布置在过滤器之后，并且配置成加热经过滤的化学溶液；振动器，与过滤器相邻布置，并且配置成向过滤器的内部提供周期性脉冲形式的超声波振动；第一夹具和第二夹具，与过滤器相邻布置，并且将振动器固定到过滤器；以及化学溶液排出管，布置在循环线上，并且配置成排出已经穿过加热器的化学溶液，其中，振动器包括第一振动器和第二振动器，并且第一振动器和第二振动器彼此面对，而过滤器介于第一振动器与第二振动器之间。
23、此外，第一振动器和第二振动器降低过滤器内壁的摩擦系数，且化学溶液排出管排出从化学溶液储存罐供应并沿着循环线循环的化学溶液的全部。
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1.一种用于清洗基板处理装置的部件的装置，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器包括第一振动器和第二振动器，以及
3.根据权利要求1所述的装置，还包括与所述过滤器相邻布置的夹具，
4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述夹具的水平宽度小于所述振动器的水平宽度。
5.根据权利要求3所述的装置，其中，所述夹具包括第一夹具和第二夹具，以及
6.根据权利要求1所述的装置，还包括化学溶液排出管，所述化学溶液排出管布置在所述化学溶液储存罐与所述加热器之间，并且配置成排出已经穿过所述加热器的所述化学溶液。
7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述化学溶液排出管排出已经穿过所述过滤器和所述加热器的所述化学溶液的全部，以防止由所述化学溶液引起的再污染。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器的竖直长度小于所述过滤器的竖直长度。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器防止杂质粘附到所述过滤器的内壁。
10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器向所述过滤器提
11.根据权利要求1所述的装置，其中，所述化学溶液是异丙醇。
12.一种用于清洗基板处理装置的部件的装置，包括：
13.根据权利要求12所述的装置，还包括循环线，从所述化学溶液储存罐供应的所述化学溶液通过所述循环线循环，
14.根据权利要求12所述的装置，其中，在所述化学溶液储存罐与所述过滤器之间布置有阀，以及
15.根据权利要求12所述的装置，其中，所述第一振动器和所述第二振动器配置成去除形成在所述过滤器内部的粉末。
16.根据权利要求12所述的装置，其中，所述第一夹具将所述第一振动器固定到所述过滤器的侧壁，以及
17.根据权利要求12所述的装置，其中，所述过滤器包括下部分、中央部分和上部分，
18.根据权利要求12所述的装置，其中，所述第一振动器和所述第二振动器配置成振动以在所述过滤器的内壁上产生微气泡。
19.一种用于清洗基板处理装置的部件的装置，包括：
20.根据权利要求19所述的装置，其中，所述第一振动器和所述第二振动器降低所述过滤器的内壁的摩擦系数，以及
...【技术特征摘要】
1.一种用于清洗基板处理装置的部件的装置，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器包括第一振动器和第二振动器，以及
3.根据权利要求1所述的装置，还包括与所述过滤器相邻布置的夹具，
4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述夹具的水平宽度小于所述振动器的水平宽度。
5.根据权利要求3所述的装置，其中，所述夹具包括第一夹具和第二夹具，以及
6.根据权利要求1所述的装置，还包括化学溶液排出管，所述化学溶液排出管布置在所述化学溶液储存罐与所述加热器之间，并且配置成排出已经穿过所述加热器的所述化学溶液。
7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述化学溶液排出管排出已经穿过所述过滤器和所述加热器的所述化学溶液的全部，以防止由所述化学溶液引起的再污染。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器的竖直长度小于所述过滤器的竖直长度。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器防止杂质粘附到所述过滤器的内壁。
10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述振动器向所述过滤器提供周期性脉冲形式...
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