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基板处理设备包括：支撑基板的支撑板和设置在基板上用来保护基板的防护单元。所述防护单元临近用于生成冲击波的光聚焦的焦点的一部分被转换。因此，所述基板清洗设备阻止了与冲击波一起生成的气化物质／残留光束在所述防护单元特定部分的集中，并且进一步的防...
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