【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。尤其涉及从在镀铜膜层叠板上层叠预浸渍体层(prepreg)和铜箔形成的多层层叠板的铜箔侧照射二氧化碳(CO2)激光,从而在铜箔和其下面的里层(预浸渍体层)形成孔的。
技术介绍
随着近年来的电子设备的小型化、高密度化和高性能化,在印刷电路板中也要求形成高密度电路。为了满足该要求,在多层印刷电路板中形成用于层间连接的BVH(盲孔;Build Via hole)等贯通孔。作为此时的穿孔方法,从加工效率和成本方面考虑,大多使用CO2激光。以往,为了用CO2激光在镀铜膜层叠板上形成孔,通常采用保形-掩模法,在该方法中,首先,预先将要穿孔的部分的铜箔通过蚀刻除去,然后,仅对位于铜层间的树脂部分用激光进行穿孔。在该保形-掩模法中,不但需要花费蚀刻的成本,而且还存在蚀刻除去铜的可靠性、或者铜层间电路的定位精度等技术问题。最近,除了上述的保形-掩模法之外,还考虑通过从铜箔上照射CO2激光来形成孔的直接法。为此,提出了对镀铜膜层叠板照射二氧化碳(CO2)激光和YAG激光等激光来形成贯通孔的方案(参考例如特开2004-154843号公报、特开2004-154844号 ...
【技术保护点】
印刷电路板的制造方法,该方法使用多层层叠板来制造印刷电路板,其特征在于,预先在表层的铜箔表面上形成在波长为9.3μm~10.6μm的范围的吸光度为0.05以上的加工层;从所述加工层侧照射CO↓[2]激光,从而在所述表层的铜箔和其下面的里层上形成孔。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:市桥知子,中岛庆一,栗井良浩,中村幸子,池尻笃泰,
申请(专利权)人:MEC株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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