本实用新型专利技术公开了一种原子层沉积装置，属于原子镀膜技术领域，腔体位于下壳体内，上壳体位于下壳体的上侧，腔体的底部设置进气主管，进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并且曝气管通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，下壳体的圆周表面固定连接有固定框，固定框与上壳体之间设置有压紧机构，压紧机构用于将上壳体压紧于下壳体上，通过设置进气主管和曝气管进行均匀曝气，使得基材能够得到均匀镀膜；同时本实用新型专利技术中的整个装置结构简单，通过手动调节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封。节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封。节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封。
【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积装置
[0001]本技术涉及原子镀膜
，更具体地说，涉及一种原子层沉积装置。
技术介绍
[0002]原子沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
[0003]目前，在采用原子层沉积的方式镀膜时，通常需要将待镀膜的产品放置于沉积装置上，沉积装置在进行镀膜时，需要使产品与装置之间保持密封状态，防止杂质的进入影响镀膜效果，现有的大部分原子沉积装置结构较为复杂，装置密封时需要使用到较多的电子设备，造价成本高。
技术实现思路
[0004]1.要解决的技术问题
[0005]针对现有技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种原子层沉积装置，旨在解决现有技术中的大部分原子沉积装置结构较为复杂，装置密封时需要使用到较多的电子设备，造价成本高的问题。
[0006]2.技术方案
[0007]为解决上述问题，本技术采用如下的技术方案：
[0008]一种原子层沉积装置，包括下壳体、腔体和上壳体，所述腔体位于下壳体内，所述上壳体位于下壳体的上侧，所述腔体的底部设置进气主管，所述进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，所述进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，所述曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并且所述曝气管通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，所述下壳体的圆周表面固定连接有固定框，所述固定框与上壳体之间设置有压紧机构，所述压紧机构用于将上壳体压紧于下壳体上。
[0009]作为本技术的一种优选方案，所述压紧机构包括两个螺杆，两个所述螺杆均转动连接于固定框内，所述上壳体的圆周表面固定连接有两个螺母，且两个螺母分别螺纹连接于两个螺杆上，两个所述螺杆的一端均固定连接有蜗轮，且两个蜗轮分别贯穿至固定框的一侧，所述固定框的一侧固定连接有两个固定块，两个所述固定块之间转动连接有蜗杆，且蜗杆与两个蜗轮之间相啮合。
[0010]作为本技术的一种优选方案，所述上壳体的远离下壳体的一端固定连接有出气管，且出气管一端活动贯穿至固定框的一侧。
[0011]作为本技术的一种优选方案，所述蜗杆的一端固定连接有直角片，所述直角片远离蜗杆的一侧固定连接有把手。
[0012]作为本技术的一种优选方案，所述下壳体靠近上壳体的一端开口处内固定连接有置物架。
[0013]作为本技术的一种优选方案，所述上壳体和下壳体相靠近的一端均固定连接有密封垫，且两个密封垫之间相对应。
[0014]作为本技术的一种优选方案，所述下壳体的底部固定连接有多个支撑脚，且多个支撑脚远离下壳体的一端固定连接有稳固盘。
[0015]3.有益效果
[0016]相比于现有技术，本技术的优点在于：
[0017](1)本方案中，通过设置进气主管和曝气管进行均匀曝气，使得基材能够得到均匀镀膜；同时本技术中的整个装置结构简单，通过手动调节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封，使下壳体内的腔体能够稳定的对产品进行原子层沉积镀膜，不需要使用较大的电气设备，降低装置的重量与体积，采用手动的方式进行控制，从而控制造价成本。
附图说明
[0018]图1为本技术提出的一种原子层沉积装置第一立体图；
[0019]图2为本技术的一种原子层沉积装置第二立体图；
[0020]图3为本技术提出的一种原子层沉积装置剖视图；
[0021]图4为图3中原子层沉积装置的进气主管与曝气管安装图。
[0022]图中标号说明：
[0023]1、下壳体；2、腔体；3、进气主管；4、曝气管；5、支撑架；6、锁紧架；7、固定框；8、上壳体；9、螺杆；901、螺母；902、蜗轮；903、固定块；904、蜗杆；10、出气管；11、直角片；12、把手；13、置物架；14、密封垫；15、支撑脚；16、稳固盘。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0027]实施例：
[0028]请参阅图1
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4，一种原子层沉积装置，腔体2位于下壳体1内，上壳体8位于下壳体1的上侧，腔体2的底部设置进气主管3，进气主管3通过垂直设置的若干锁紧架6支撑，进气主
管3的侧壁等距离连接若干曝气管4，曝气管4通过支撑架5水平设置在腔体2底部位置，并且曝气管4通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，下壳体1的圆周表面固定连接有固定框7，固定框7与上壳体8之间设置有压紧机构，压紧机构用于将上壳体8压紧于下壳体1上。
[0029]本实施例中，下壳体1与上壳体8相对应，上壳体8通过压紧机构将下壳体1进行盖住，能够使下壳体1和上壳体8内的空间进行密封，可以使得原子层沉积能够在真空环境下进行，压紧机构采用手动的方式进行上壳体8的调节，不需要较大的电气设备进行控制，有效的降低使用成本，密封后的下壳体1和上壳体8内部形成一个独立的空间，防止腔体2在对产品进行原子层沉积时被影响，密封后的下壳体1和上壳体8通过腔体2对产品进行原子层沉积镀膜，反应气体通过进气主管3进入到曝气管4内，各个曝气管4通过垂直向上的曝气喷嘴垂直向上曝气，使得反应气体能够充分与基材进行接触，提高原子层沉积效果。
[0030]具体的，压紧机构包括两个螺杆9，两个螺杆9均转动连接于固定框7内，上壳体8的圆周表面固定连接有两个螺母901，且两个螺母901分别螺纹连接于两个螺杆9上，两个螺杆9的一端均固定连接有蜗轮902，且两个蜗轮902分别贯穿至固定框7的一侧，固定框7的一侧固定连接有两个固定块903，两个固定块903之间转动连接有蜗杆904，且蜗杆904与两本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积装置，包括下壳体(1)、腔体(2)和上壳体(8)，其特征在于：所述腔体(2)位于下壳体(1)内，所述上壳体(8)位于下壳体(1)的上侧，所述腔体(2)的底部设置进气主管(3)，所述进气主管(3)通过垂直设置的若干锁紧架(6)支撑，所述进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管(4)，所述曝气管通过支撑架(5)水平设置在腔体(2)底部位置，并且所述曝气管(4)通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，所述下壳体(1)的圆周表面固定连接有固定框(7)，所述固定框(7)与上壳体(8)之间设置有压紧机构，所述压紧机构用于将上壳体(8)压紧于下壳体(1)上。2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述压紧机构包括两个螺杆(9)，两个所述螺杆(9)均转动连接于固定框(7)内，所述上壳体(8)的圆周表面固定连接有两个螺母(901)，且两个螺母(901)分别螺纹连接于两个螺杆(9)上，两个所述螺杆(9)的一端均固定连接有蜗轮(902)，且两个蜗轮(902)分别贯穿至固定框(7)的一侧，所述固定框(7)的一侧固定连接有两个...
【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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