一种真空镀膜用真空炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜用真空炉，属于镀膜技术领域，包括罐体，罐体底壁转动连接有齿轮盘，罐体的底端固定连接有正反转电机，正反转电机与外部电源电性连接，正反转电机的输出端固定连接有转块，转块位于齿轮盘的内侧，转块的圆周表面开凿有回缩槽，回缩槽内滑动连接有插接块，插接块卡接于齿轮盘的内侧，回缩槽的槽底端与插接块之间固定连接有弹簧，转块远离正反转电机的一端固定连接有转盘，转盘远离转块的一端转动连接有多个工件转架；旨在解决现有技术中的大部分真空炉内的工件转架只能够应用于相同规格的基片，当需要对不同规格的基片进行镀膜时，需要拆卸个更换转架，劳动消耗量大，容易影响工作效率的问题。容易影响工作效率的问题。容易影响工作效率的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜用真空炉


[0001]本技术涉及镀膜
，更具体地说，涉及一种真空镀膜用真空炉。

技术介绍

[0002]真空炉即在炉腔这一特定空间内利用真空系统(由真空泵、真空测量装置、真空阀门等元件经过精心组装而成)将炉腔内部分物质排出，使炉腔内压强小于一个标准大气压，炉腔内空间从而实现真空状态，这就是真空炉。
[0003]目前，真空炉经常应用于镀膜方面，真空炉内一般设置有工件转架，通过工件转架使基片进行均匀的镀膜，大部分真空炉内的工件转架只能够应用于相同规格的基片，当需要对不同规格的基片进行镀膜时，需要拆卸个更换转架，劳动消耗量大，容易影响工作效率。

技术实现思路

[0004]1.要解决的技术问题
[0005]针对现有技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种真空镀膜用真空炉，旨在解决现有技术中的大部分真空炉内的工件转架只能够应用于相同规格的基片，当需要对不同规格的基片进行镀膜时，需要拆卸个更换转架，劳动消耗量大，容易影响工作效率的问题。
[0006]2.技术方案
[0007]为解决上述问题，本技术采用如下的技术方案：
[0008]一种真空镀膜用真空炉，包括罐体，所述罐体底壁转动连接有齿轮盘，所述罐体的底端固定连接有正反转电机，所述正反转电机与外部电源电性连接，所述正反转电机的输出端固定连接有转块，所述转块位于齿轮盘的内侧，所述转块的圆周表面开凿有回缩槽，所述回缩槽内滑动连接有插接块，所述插接块卡接于齿轮盘的内侧，所述回缩槽的槽底端与插接块之间固定连接有弹簧，所述转块远离正反转电机的一端固定连接有转盘，所述转盘远离转块的一端转动连接有多个工件转架，多个所述工件转架的一端均固定连接有自转齿轮，多个所述自转齿轮均贯穿至转盘的一侧，多个所述自转齿轮均与齿轮盘的外表面相啮合。
[0009]作为本技术的一种优选方案，多个所述工件转架的靠近转盘中心轴的表面均固定连接有一组工件挂架，多组所述工件转架靠近罐体圆周内壁的表面均固定连接有一组工件固定架。
[0010]作为本技术的一种优选方案，多个所述工件转架远离转盘的一端转动连接有转环。
[0011]作为本技术的一种优选方案，所述正反转电机与罐体的连接处设置有密封圈。
[0012]作为本技术的一种优选方案，所述罐体的圆周表面设置有密封舱门，所述密
封舱门的外表面设置有观察窗。
[0013]作为本技术的一种优选方案，所述罐体的表面固定连接有多个法兰连接口，多个所述法兰连接口均与罐体相贯通。
[0014]作为本技术的一种优选方案，所述罐体的底端固定连接有支撑架。
[0015]3.有益效果
[0016]相比于现有技术，本技术的优点在于：
[0017](1)本方案中，通过外部电源使正反转电机进行启动，正反转电机使转块带动转盘进行不同方向的转动，当正反转电机使转盘顺时针转动时，转块会使插接块向回缩槽内回缩，齿轮盘不进行转动，多个自转齿轮围绕齿轮盘公转并进行自转，从而使多个工件转架围绕转盘的中心轴进行公转并自转，此时多个工件转架通过多个工件挂架能够放置规格较小的基片，多个工件转架自转加公转使较小规格的基片均匀的在罐体内进行镀膜，当正反转电机使转盘进行逆时针转动时，转块通过弹簧使插接块卡接至齿轮盘的内侧，齿轮盘和多个自转齿轮同时进行转动，多个自转齿轮不会进行自转，多个工件转架通过多个工件固定架带动规格较大的基片在罐体内进行转动，多个工件固定架使较大规格的基片能够固定在多个工件转架上，使较大规格的基片在罐体内能够进行稳定的镀膜。
[0018](2)本方案中，通过正反转电机使转盘进行不同的转动方向，从而使多个工件转架转动时出现自转与不自转两种情况，工件转架自转时能够使较小规格的基片在罐体内进行均匀的镀膜，工件转架不自转时能够对较大规格的基片进行稳定的镀膜，多个工件转架在罐体内不需要频繁的进行拆卸，能够有效的提高工作效率，并且适用于多种不同规格的基片，适用范围较广。
附图说明
[0019]图1为本技术的立体图；
[0020]图2为本技术的爆炸图；
[0021]图3为本技术内部结构的立体图；
[0022]图4为本技术的主剖图；
[0023]图5为本技术的仰剖图。
[0024]图中标号说明：
[0025]1、罐体；2、齿轮盘；3、正反转电机；4、转块；5、回缩槽；6、弹簧；7、插接块；8、转盘；9、工件转架；10、自转齿轮；11、工件挂架；12、工件固定架；13、转环；14、密封圈；15、密封舱门；16、观察窗；17、法兰连接口；18、支撑架。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术
和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0028]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0029]实施例：
[0030]请参阅图1
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5，一种真空镀膜用真空炉，包括罐体1，罐体1底壁转动连接有齿轮盘2，罐体1的底端固定连接有正反转电机3，正反转电机3与外部电源电性连接，正反转电机3的输出端固定连接有转块4，转块4位于齿轮盘2的内侧，转块4的圆周表面开凿有回缩槽5，回缩槽5内滑动连接有插接块7，插接块7卡接于齿轮盘2的内侧，回缩槽5的槽底端与插接块7之间固定连接有弹簧6，转块4远离正反转电机3的一端固定连接有转盘8，转盘8远离转块4的一端转动连接有多个工件转架9，多个工件转架9的一端均固定连接有自转齿轮10，多个自转齿轮10均贯穿至转盘8的一侧，多个自转齿轮10均与齿轮盘2的外表面相啮合。
[0031]本实施例中，当需要对较小规格的基片进行镀膜时，首先将较小规格的基片放置于多个工件转架9上，然后通过外部电源启动正反转电机3，正反转电机3使转块4和转盘8进行顺时针转动，转盘8带动多个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜用真空炉，包括罐体(1)，其特征在于：所述罐体(1)底壁转动连接有齿轮盘(2)，所述罐体(1)的底端固定连接有正反转电机(3)，所述正反转电机(3)与外部电源电性连接，所述正反转电机(3)的输出端固定连接有转块(4)，所述转块(4)位于齿轮盘(2)的内侧，所述转块(4)的圆周表面开凿有回缩槽(5)，所述回缩槽(5)内滑动连接有插接块(7)，所述插接块(7)卡接于齿轮盘(2)的内侧，所述回缩槽(5)的槽底端与插接块(7)之间固定连接有弹簧(6)，所述转块(4)远离正反转电机(3)的一端固定连接有转盘(8)，所述转盘(8)远离转块(4)的一端转动连接有多个工件转架(9)，多个所述工件转架(9)的一端均固定连接有自转齿轮(10)，多个所述自转齿轮(10)均贯穿至转盘(8)的一侧，多个所述自转齿轮(10)均与齿轮盘(2)的外表面相啮合。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用真空炉，其特征在于：多个所述工件转架(...

【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：