本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜用基片输送装置，属于真空镀膜机技术领域，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动的引导履带，所述引导履带倾斜向上设置且底端与所述输送带表面靠近，使所述基片从通过所述输送带输送转移到通过所述引导履带输送。通过在输送带上方设置倾斜向上的引导机构，使基片可以通过输送带水平输送到引导机构上时，再由引导履带倾斜向上输送基片，使基片到达镀膜机的基片台上完成上料，引导履带由伺服电机驱动因此可反向转动将基片从基片台上接下再送回输送带上完成下料。完成下料。完成下料。
【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜用基片输送装置
[0001]本技术涉及真空镀膜机
，特别涉及一种真空镀膜用基片输送装置。
技术介绍
[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构
‑
迷走结构
‑
层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0003]基片一般通过输送装置运送到基片台上进行镀膜，镀膜完成取下后再利用运输装置运送到到指定位置收纳，因此输送装置具有重要的作用，但是传统的输送装置一般采用机械抓取的方式转运基片，容易对基片造成磨损，有的采用输送带传输的方式，但是无法准确的将基片运送到基片台，因此传统的输送装置使用时仍存在一定的缺陷。
技术实现思路
[0004]本技术的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的基片输送装置无法准确的将基片送向基片台的问题而提供一种真空镀膜用基片输送装置，具有输送位置更精确，便于基片上下料的优点。
[0005]本技术通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜用基片输送装置，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动的引导履带，所述引导履带倾斜向上设置且底端与所述输送带表面靠近，使所述基片从通过所述输送带输送转移到通过所述引导履带输送。
[0006]优选的，所述引导履带的底部与输送带的表面设置有间隙，间隙的高度大于限位块的高度。
[0007]优选的，所述引导履带安装在摆动梁上，摆动梁固定在安装脚上，安装脚通过旋转轴与安装在传输辊的横梁转动连接，且安装脚与横梁之间通过弹簧弹性连接。
[0008]优选的，所述弹簧的一端连接安装脚，另一端连接调节丝杆，调节丝杆贯穿横梁且伸出横梁的一端套接有调节螺母。
[0009]优选的，所述引导履带的表面分布有若干个橡胶圈，橡胶圈与引导履带的表面一平。
[0010]优选的，所述传输辊安装在移动架上，移动架的底部设置有滑动座，移动架通过滑动座安装在电动滑轨上，使移动架可沿着电动滑轨长度方向移动。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]1、通过在输送带上方设置倾斜向上的引导机构，使基片可以通过输送带水平输送到引导机构上时，再由引导履带倾斜向上输送基片，使基片到达镀膜机的基片台上完成上料，引导履带由伺服电机驱动因此可反向转动将基片从基片台上接下再送回输送带上完成下料，从而利用该输送装置可实现基片的上下料。
[0013]2、通过将引导机构设置成可以摆动的结构，利用且摆动时通过弹簧保持摆动的弹性，在基片移动到引导机构顶端的时候可以下压引导机构偏移一定的角度，使引导机构的顶端触碰到基片台，保证基片可以准确的送向基片台，而且引导机构的转动角度可以调节，适合不同高度的基片台的使用。
附图说明
[0014]图1为本技术的输送装置整体结构示意图。
[0015]图2为本技术的引导机构结构示意图。
[0016]图3为本技术的橡胶圈安装在引导履带表面的结构示意图。
[0017]图4为本技术的弹簧安装结构示意图。
[0018]图中：1、载物架，2、挡板，3、均流机构，4、底座，5、电子枪，6、调节气缸，7、电子束，8、外边框，9、支撑板，10、侧边板，11、滑动槽，12、锁紧螺栓，13、第一旋转轴，14、限位板，15、支撑杆，16、第二旋转轴，17、栅格网，18、矩形框。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参考图1和图2所示，一种真空镀膜用基片输送装置，包括套接在传输辊2上的输送带3，输送带3上分布等距的若干个限位块8，使输送带3带着限位块8移动时将基片9推送，输送带3上方还安装有引导机构5，引导机构5包括伺服电机13驱动的引导履带12，引导履带12倾斜向上设置且底端与输送带3表面靠近，使基片9从通过输送带3输送转移到通过引导履带12输送，输送带3只能实现基片9的水平输送，基片9落在输送带3表面上后，输送带3移动使限位块8可以推着基片9前进，而引导机构5采用倾斜向上的引导履带12可以实现基片9的倾斜向上移动，直到送向基片台位置，而引导履带12采用伺服电机13驱动，因此可以正向输送基片9到达基片台，也可以反向输送基片9到达传输带3，引导履带12的底端靠近输送带3，当限位块8推着基片9到达引导履带12的底部的时候，限位块8继续前进，将基片9推向引导履带12，从而实现基片9的过渡。
[0021]传输辊2安装在移动架1上，移动架1的底部设置有滑动座6，移动架1通过滑动座6安装在电动滑轨7上，使移动架1可沿着电动滑轨7长度方向移动，当有多个基片台的时候，利用移动架1可以使引导机构5在不同的基片台之间以及下料机构和上料机构之间移动，在上料机构下方时，方便基片9落入输送带3表面，在下料机构下方时，方便基片9落入引导履带12
[0022]如图2所示，引导履带12的底部与输送带3的表面设置有间隙，间隙的高度大于限
位块8的高度，引导履带12的间隙可以方便限位块8通过，引导履带12安装在摆动梁11上，摆动梁11固定在安装脚10上，安装脚10通过旋转轴14与安装在传输辊2的横梁4转动连接，且安装脚10与横梁4之间通过弹簧15弹性连接，引导履带12的顶端需要高于基片台才能保证基片9落在基片台上，因此将引导履带12设计成可以摆动的结构，弹簧15可以起到摆动缓冲和复位的作用，当基片9逐渐移动到引导履带12顶端的时候，引导机构5被下压偏移一定的角度，使引导履带12的顶部可以接触到基片台，使基片9准确落在基片台，基片9消失后弹簧15再对引导机构5复位，方便下一次的输送。
[0023]如图4所示，弹簧15的一端连接安装脚10，另一端连接调节丝杆18，调节丝杆18贯穿横梁4且伸出横梁4的一端套接有调节螺母17，调节丝杆18通过调节螺母17可以调节伸出横梁4的长度，从而控制摆动梁11与横梁4间的角度，实现引导机构5的顶端高度，满足不同基片台的使用。
[0024]如图3所示，引导履带12的表面分布有若干个橡胶圈16，橡胶圈16与引导履本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜用基片输送装置，包括套接在传输辊(2)上的输送带(3)，所述输送带(3)上分布等距的若干个限位块(8)，使所述输送带(3)带着所述限位块(8)移动时将基片(9)推送，其特征在于，所述输送带(3)上方还安装有引导机构(5)，所述引导机构(5)包括伺服电机(13)驱动的引导履带(12)，所述引导履带(12)倾斜向上设置且底端与所述输送带(3)表面靠近，使所述基片(9)从通过所述输送带(3)输送转移到通过所述引导履带(12)输送。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述引导履带(12)的底部与输送带(3)的表面设置有间隙，间隙的高度大于限位块(8)的高度。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述引导履带(12)安装在摆动梁(11)上，摆动梁(11)固定在安装脚(10)上，安装脚...
【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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