本发明专利技术涉及一种柔性基材镀膜装置以及镀膜方法。该柔性基材镀膜装置包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施镀件以及收卷辊，隔板位于真空室内以用于将真空室分隔为加热室和镀膜室；隔板上设有第一通孔和第二通孔，第一通孔用于供基材自加热室传输至镀膜室，第二通孔用于供基材自镀膜室传输至加热室。放卷辊、加热件以及收卷辊位于加热室，放卷辊用于对基材放卷，加热件用于加热加热室内的基材，收卷辊用于对基材收卷。镀膜辊和施镀件位于镀膜室，施镀件靠近镀膜辊以用于对镀膜辊表面的基材施镀，进而在基材表面形成薄膜镀层。使用该装置可以提高基材表面薄膜镀层附着力、致密性、厚度的均匀性。厚度的均匀性。厚度的均匀性。
【技术实现步骤摘要】
柔性基材镀膜装置以及镀膜方法
[0001]本专利技术涉及镀膜
，尤其是涉及一种柔性基材镀膜装置以及镀膜方法。
技术介绍
[0002]随着材料加工技术的不断提高，在柔性基材表面镀制薄膜赋予柔性基材相应的性能已经得到了广泛的应用。在柔性基材表面镀制薄膜的过程中，由于柔性基材和薄膜往往是不同的材料，因此在柔性基材表面镀制薄膜时容易出现薄膜镀层厚度均匀性差、附着力、致密性差等问题。
技术实现思路
[0003]基于此，有必要提供一种能够提高柔性基材表面薄膜镀层附着力、致密性、厚度均匀性的镀膜装置以及镀膜方法。
[0004]为解决以上技术问题，本专利技术的技术方案为：
[0005]一种柔性基材镀膜装置，包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施镀件以及收卷辊，所述隔板位于所述真空室内以用于将所述真空室分隔为加热室和镀膜室；所述隔板上设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔用于供基材自所述加热室传输至所述镀膜室，所述第二通孔用于供基材自所述镀膜室传输至所述加热室；
[0006]所述放卷辊、所述加热件以及所述收卷辊位于所述加热室，所述放卷辊用于对基材放卷，所述加热件用于加热所述加热室内的基材，所述收卷辊用于对基材收卷；
[0007]所述镀膜辊和所述施镀件位于所述镀膜室，所述施镀件靠近所述镀膜辊以用于对所述镀膜辊表面的基材施镀，进而在基材表面形成薄膜镀层。
[0008]在其中一个实施例中，柔性基材镀膜装置还包括冷却件，所述冷却件位于所述镀膜室，所述冷却件用于冷却所述镀膜室内的水蒸气。
[0009]在其中一个实施例中，柔性基材镀膜装置还包括镀膜挡板，所述镀膜挡板位于所述镀膜室的内部且设于所述镀膜辊和所述施镀件之间，所述镀膜挡板上设有镀膜开口，所述镀膜辊位于所述镀膜开口处，所述施镀件形成的镀层材料自所述镀膜开口处逸出至所述镀膜辊上的基材表面。
[0010]在其中一个实施例中，在从所述镀膜辊到所述施镀件的方向上，所述镀膜开口的口径逐渐增大。
[0011]在其中一个实施例中，所述镀膜挡板将所述镀膜室分隔为冷却室和施镀室，所述冷却件位于所述冷却室内，所述施镀件位于所述施镀室内。
[0012]在其中一个实施例中，所述加热件为中空加热管，所述中空加热管内装有加热介质。
[0013]在其中一个实施例中，柔性基材镀膜装置还包括加热辊，所述加热辊位于所述加热室，所述加热辊位于所述镀膜辊和所述收卷辊之间以用于加热镀膜之后、收料之前的基材。
[0014]一种柔性基材镀膜方法，采用上述任一实施例中所述的柔性基材镀膜装置，所述柔性基材镀膜方法包括如下步骤：
[0015]通过所述放卷辊对基材放卷，使基材依次穿过所述第一通孔、所述镀膜辊、所述第二通孔，然后通过所述收卷辊对基材收卷。
[0016]在其中一个实施例中，通过所述加热件控制所述加热室内的基材的温度为20℃℃～100℃。
[0017]在其中一个实施例中，控制所述镀膜辊表面的基材的温度为
‑
30℃～30℃；和/或，
[0018]所述柔性基材镀膜装置还包括加热辊，所述加热辊位于所述加热室，所述加热辊位于所述镀膜辊和所述收卷辊之间，控制所述加热辊表面的基材的温度为30℃～120℃。
[0019]上述柔性基材镀膜装置包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施镀件以及收卷辊，隔板位于真空室内以用于将真空室分隔为加热室和镀膜室；隔板上设有第一通孔和第二通孔，第一通孔用于供基材自加热室传输至镀膜室，第二通孔用于供基材自镀膜室传输至加热室。放卷辊、加热件以及收卷辊位于加热室，放卷辊用于对基材放卷，加热件用于加热加热室内的基材，收卷辊用于对基材收卷。镀膜辊和施镀件位于镀膜室，施镀件靠近镀膜辊以用于对镀膜辊表面的基材施镀，进而在基材表面形成薄膜镀层。在该柔性基材镀膜装置中，当基材由放卷辊放料出来之后，通过镀膜辊，然后在收卷辊上收卷。在此过程中，基材先在加热室内被加热，此时加热过程中能够对基材起到良好的除气效果，这样有利于提高镀膜过程中薄膜镀层与基材表面之间的结合力和致密程度，进而提高基材表面薄膜镀层厚度的均匀性。然后随着基材的进一步传输，基材传输到镀膜辊的表面，此时通过施镀件的作用将形成的镀层材料传递到基材表面，进而在基材表面沉积成膜，形成薄膜镀层。当镀膜完成之后，表面形成有薄膜镀层的基材通过隔板上的第二通孔再次进入加热室内，在加热室内再次加热，此时能够有效保持薄膜镀层的持续晶化，提升薄膜的致密性，薄膜镀层的应力也能够得到充分释放，使薄膜镀层的内应力与基材的内应力更好地相匹配，有利于提高薄膜镀层的品质，进一步改善基材表面薄膜镀层厚度的均匀性。当表面形成有薄膜镀层的基材在加热室内被再次加热之后，基材在收卷辊上收卷，完成柔性基材的镀膜和收料。采用上述柔性基材镀膜装置，一方面能够有效提高基材表面薄膜镀层厚度的均匀性，另一方面还能够对镀膜过程中各阶段的温度进行控制，有效保持和提高薄膜镀层在基材表面的结合力，使基材表面的薄膜镀层不易脱落。同时，采用上述柔性基材镀膜装置对柔性基材进行镀膜时，可以使薄膜镀层保持持续晶化，提高薄膜镀层的致密性及品质，在镀制过程中持续晶化，避免了另行晶化流程和流转时间从而提高镀膜加工的效率。
[0020]进一步地，柔性基材镀膜装置还包括冷却件，冷却件位于镀膜室，冷却件用于冷却镀膜室内的水蒸气。当基材在加热室加热除气之后，基材通过隔板上的第一通孔进入镀膜室，此时在镀膜室内通过冷却件的冷却作用可以使镀膜室内的水蒸气冷凝，比如可以将水蒸气冷凝成固态的冰，进而除去镀膜室内的水蒸气。避免水蒸气在镀膜室的运动给镀膜室的真空效果带来不利影响，进而可以使基材在镀膜室内稳定镀膜，进一步提高镀膜过程中薄膜镀层与基材表面之间的结合力和致密程度。
[0021]上述柔性基材镀膜方法，采用上述柔性基材镀膜装置，该柔性基材镀膜方法包括如下步骤：通过放卷辊对基材放卷，使基材依次穿过第一通孔、镀膜辊、第二通孔，然后通过收卷辊对基材收卷。上述柔性基材镀膜方法能够有效提高柔性基材表面薄膜镀层厚度的均
匀性，提高薄膜镀层与基材表面的结合力，同时还能够改善薄膜镀层的品质，提高柔性基材镀膜的加工效率。
附图说明
[0022]图1为本专利技术一实施例这种柔性基材镀膜装置的结构示意图。
[0023]图中标记说明：
[0024]100、柔性基材镀膜装置；101、隔板；102、放卷辊；103、加热件；104、冷却件；105、镀膜辊；106、施镀件；107、收卷辊；108、加热室；109、冷却室；110、施镀室；111、镀膜挡板；112、镀膜开口；113、镀层材料；114、加热辊；115、温度传感器；116、导料辊；200、基材。
具体实施方式
[0025]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种柔性基材镀膜装置，其特征在于，包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施镀件以及收卷辊，所述隔板位于所述真空室内以用于将所述真空室分隔为加热室和镀膜室；所述隔板上设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔用于供基材自所述加热室传输至所述镀膜室，所述第二通孔用于供基材自所述镀膜室传输至所述加热室；所述放卷辊、所述加热件以及所述收卷辊位于所述加热室，所述放卷辊用于对基材放卷，所述加热件用于加热所述加热室内的基材，所述收卷辊用于对基材收卷；所述镀膜辊和所述施镀件位于所述镀膜室，所述施镀件靠近所述镀膜辊以用于对所述镀膜辊表面的基材施镀，进而在基材表面形成薄膜镀层。2.如权利要求1所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括冷却件，所述冷却件位于所述镀膜室，所述冷却件用于冷却所述镀膜室内的水蒸气。3.如权利要求2所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括镀膜挡板，所述镀膜挡板位于所述镀膜室的内部且设于所述镀膜辊和所述施镀件之间，所述镀膜挡板上设有镀膜开口，所述镀膜辊位于所述镀膜开口处，所述施镀件形成的镀层材料自所述镀膜开口处逸出至所述镀膜辊上的基材表面。4.如权利要求3所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，在从所述镀膜辊到所述施镀件的方向上，所述镀膜开口的口径逐渐增大。5.如权利要求3所述的柔性基材镀膜装...
【专利技术属性】
技术研发人员：程毅，周高阳，李学法，张国平，
申请(专利权)人：江阴纳力新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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