【技术实现步骤摘要】
一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备
[0001]本技术涉及真空镀膜领域,特别是涉及一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备。
技术介绍
[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属产品,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等,真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
[0003]现有的真空镀膜设备在对产品进行镀膜时,通常操作流程时放入镀膜产品,然后抽真空,进行镀膜,完成后操作者产品取出,再放入新的一批镀膜产品,抽真空、镀膜,操作复杂,需要操作者不断控制设备的开关和产品的拿取,浪费人力,且大大影响了设备的工作效率,为此我们提供一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术的不足,本技术提供一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本技术提供如下技术方案:一种基于多工位 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)下端两侧均设有通槽(2),所述箱体(1)下端通过通槽(2)贯穿有传送带(3),所述传送带(3)下端与通槽(2)底侧密封且滑动连接,所述传送带(3)上侧等距固接有隔热板(5),多个所述隔热板(5)上侧均等距设有放置槽(16),且相邻的两个隔热板(5)的连接处上侧均固接有连接块(4),相邻的两个所述连接块(4)中心轴的距离与两个通槽(2)中心轴距离相同,位于两个所述通槽(2)上端的箱体(1)的内部均密封连接有密封升降门(6),多个所述连接块(4)上侧均设有与密封升降门(6)适配的密封槽(7)。2.根据权利要求1所述的一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,其特征在于:位于两个所述通槽(2)上端的箱体(1)内部均设有滑腔(20),所述密封升降门(6)位于滑腔(20)的下端,且其滑动延伸至通槽(2)的内部,所述滑腔(20)的上端固接有与密封升降门(6)上端固接的升降器(8),所述箱体(1)外部连接有与升降器(8)电连接的控制面板(15)。3.根据权利要求2所述的一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,其特征在于:所述滑腔(20)底侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:钦瑞良,
申请(专利权)人:苏州凯瑞纳米科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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