一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备制造技术

技术编号:33226486 阅读:27 留言:0更新日期:2022-04-27 17:16
本实用新型专利技术公开了一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,包括箱体,所述箱体下端两侧均设有通槽,所述箱体下端通过通槽贯穿有传送带,所述传送带下端与通槽底侧密封且滑动连接,所述传送带上侧等距固接有隔热板,多个所述隔热板上侧均等距设有放置槽,且相邻的两个隔热板的连接处上侧均固接有连接块,相邻的两个所述连接块中心轴的距离与两个通槽中心轴距离相同,位于两个所述通槽上端的箱体的内部均密封连接有密封升降门,多个所述连接块上侧均设有与密封升降门适配的密封槽;实现产品的连续镀膜操作,且实现一次对多个产品的镀膜,同时该设备为自动化操作,节省人力,提高了设备的工作效率。了设备的工作效率。了设备的工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜领域,特别是涉及一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属产品,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等,真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
[0003]现有的真空镀膜设备在对产品进行镀膜时,通常操作流程时放入镀膜产品,然后抽真空,进行镀膜,完成后操作者产品取出,再放入新的一批镀膜产品,抽真空、镀膜,操作复杂,需要操作者不断控制设备的开关和产品的拿取,浪费人力,且大大影响了设备的工作效率,为此我们提供一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的不足,本技术提供一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本技术提供如下技术方案:一种基于多工位的连续式多轴位移真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)下端两侧均设有通槽(2),所述箱体(1)下端通过通槽(2)贯穿有传送带(3),所述传送带(3)下端与通槽(2)底侧密封且滑动连接,所述传送带(3)上侧等距固接有隔热板(5),多个所述隔热板(5)上侧均等距设有放置槽(16),且相邻的两个隔热板(5)的连接处上侧均固接有连接块(4),相邻的两个所述连接块(4)中心轴的距离与两个通槽(2)中心轴距离相同,位于两个所述通槽(2)上端的箱体(1)的内部均密封连接有密封升降门(6),多个所述连接块(4)上侧均设有与密封升降门(6)适配的密封槽(7)。2.根据权利要求1所述的一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,其特征在于:位于两个所述通槽(2)上端的箱体(1)内部均设有滑腔(20),所述密封升降门(6)位于滑腔(20)的下端,且其滑动延伸至通槽(2)的内部,所述滑腔(20)的上端固接有与密封升降门(6)上端固接的升降器(8),所述箱体(1)外部连接有与升降器(8)电连接的控制面板(15)。3.根据权利要求2所述的一种基于多工位的连续式多轴位移真空镀膜设备,其特征在于:所述滑腔(20)底侧...

【专利技术属性】
技术研发人员:钦瑞良
申请(专利权)人:苏州凯瑞纳米科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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