本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜机用蒸发装置，属于真空镀膜机技术领域，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，在所述蒸发平台下降时带动所述置物架向着所述蒸发平台倾斜，使所述蒸发舟根据自身重力移动到所述蒸发平台上进行内部基材的蒸发。通过蒸发平台铰接多个置物架可同时摆放多种基材，增加镀膜多样性，在需要对基材蒸发时，只需控制相应蒸发舟移动到蒸发平台上进行蒸发即可满足对应基材的镀膜，而位于置物架上的其他蒸发舟不蒸发，不会干扰镀膜。不会干扰镀膜。不会干扰镀膜。
【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机用蒸发装置
[0001]本技术涉及真空镀膜机
，特别涉及一种真空镀膜机用蒸发装置。
技术介绍
[0002]近年来，随着光学薄膜技术以及半导体科技的发展，真空镀膜技术在生产中的应用也越来越广泛与重要。真空蒸镀是最普遍、应用最广的真空镀膜工艺，真空蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子
→
气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送
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气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜
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薄膜原子重构或产生化学键合。蒸发源是真空镀膜设备最为关键的部件，根据加热方式的不同，蒸发源可以分为电子束加热蒸发源和电阻加热式蒸发源。
[0003]传统的蒸发装置虽然也存在带有多个蒸发舟的转台，但是需要通过电机驱动转动来选择蒸发舟，该方式的结构复杂，成本较高，并且蒸发舟大多偏离转台中心，因此蒸发出来的基材气态粒子不能完全接触到待镀膜基片，因此容易造成基材浪费。
技术实现思路
[0004]本技术的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的蒸发装置容易造成基材浪费，切换蒸发舟所需要的结构比较复杂的问题而提供一种真空镀膜机用蒸发装置，具有结构简单，适合多种类基材的镀膜，蒸发平台位于正中心减少基材浪费的优点。
[0005]本技术通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜机用蒸发装置，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，在所述蒸发平台下降时带动所述置物架向着所述蒸发平台倾斜，使所述蒸发舟根据自身重力移动到所述蒸发平台上进行内部基材的蒸发。
[0006]优选的，所述蒸发平台为圆盘结构，置物架圆周分布在蒸发平台侧边。
[0007]优选的，所述置物架的顶部安装有用于遮盖蒸发舟的盖板，置物架顶部设置滑轨，盖板通过滑轨滑动连接置物架。
[0008]优选的，所述蒸发舟包括舟体，舟体的内部安装有电阻板，电阻板的正负极通过导电柱伸出舟体底部，蒸发平台的表面设置有电极触点，电极触点与蒸发平台底部安装的电源模块电性连接。
[0009]优选的，所述蒸发平台的表面设置有定位磁片，蒸发舟的底部安装有磁铁环，定位磁片与磁铁环磁性吸附。
[0010]优选的，所述置物架的端部通过弹簧连接蒸发舟，利用弹簧弹力可将蒸发平台上的蒸发舟拉回置物架，置物架上还设置有定位电磁铁，定位电磁铁通电时与磁铁环磁性吸附。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]1、通过蒸发平台铰接多个置物架可同时摆放多种基材，增加镀膜多样性，在需要
对基材蒸发时，只需控制相应蒸发舟移动到蒸发平台上进行蒸发即可满足对应基材的镀膜，而位于置物架上的其他蒸发舟不蒸发，不会干扰镀膜。
[0013]2、通过在蒸发舟底部设置磁铁环，利用定位电磁铁吸附蒸发舟滞留在置物架上，当需要某一基材镀膜时，只需关闭相应置物架上的定位电磁铁，该置物架上的蒸发舟便可移动到蒸发平台进行基材蒸发，选择更加方便，不易出错。
附图说明
[0014]图1为本技术的放置架分布结构示意图。
[0015]图2为本技术的蒸发舟移动到蒸发平台上的状态示意图。
[0016]图3为本技术的蒸发舟结构示意图。
[0017]图中：1、支撑台，2、置物架，3、蒸发平台，4、定位磁片，5、电极触点，6、蒸发舟，7、盖板，8、弹簧，9、支撑杆，10、定位电磁铁，11、铰链，12、升降气缸，13、电源模块，14、舟体，15、电阻板，16、磁铁环，17、导电柱。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]请参考图1和图2所示，一种真空镀膜机用蒸发装置，包括安装在支撑台1上的蒸发平台3，蒸发平台3侧边通过铰链11铰接有多个用于放置蒸发舟6的置物架2，且置物架2的底部通过支撑杆9与支撑台1连接，蒸发平台3由升降气缸12控制上下移动，在蒸发平台3下降时带动置物架2向着蒸发平台3倾斜，使蒸发舟6根据自身重力移动到蒸发平台3上进行内部基材的蒸发，蒸发平台3用于对蒸发舟6进行加热蒸发，使舟内的基材蒸发成气态粒子附着到待镀膜基片形成膜，蒸发舟6放置在置物架2上，蒸发平台3为圆盘结构，置物架2圆周分布在蒸发平台3侧边，置物架2圆周分布在蒸发平台3周围，每个蒸发舟6内可以放置不同的基材，或者相同的基材，根据具体需求选择镀膜材料，当蒸发平台3下降时，置物架2由于与蒸发平台3铰接，因此置物架2朝着蒸发平台3倾斜，倾斜的置物架2方便蒸发舟6滑向蒸发平台3，置物架2的端部通过弹簧8连接蒸发舟6，利用弹簧8弹力可将蒸发平台3上的蒸发舟6拉回置物架2，置物架2上还设置有定位电磁铁10，定位电磁铁10通电时与磁铁环16磁性吸附，蒸发舟6在置物架2朝向蒸发平台3倾斜时，通过通电的定位电磁铁10吸附磁铁环16的方式固定在置物架2上，若是需要其中一个置物架2上的蒸发舟6工作，只需断开其中一个置物架2上的定位电磁铁10，此时该蒸发舟6由于自身重力滑向蒸发平台3，此时的弹簧8处于拉伸状态，等待蒸发完毕后，蒸发平台3升起，置物架2倾斜方向相反，利用弹簧8的拉力可将蒸发舟6从蒸发平台3上拉到置物架2上，随着倾斜的置物架2重新滑回原位，利用定位电磁铁10进行固定，完成一个蒸发舟6的镀膜，通过选择不同的蒸发舟6实现不同基材的镀膜，满足用户的使用需求。
[0020]如图1所示，置物架3的顶部安装有用于遮盖蒸发舟6的盖板7，置物架3顶部设置滑轨，盖板7通过滑轨滑动连接置物架3，盖板7覆盖在蒸发舟6上方，只有移动到蒸发平台3上
的蒸发舟6可以裸露在镀膜室中，其他的蒸发舟6被盖板7保护，避免基材不同污染到未使用的蒸发舟6。
[0021]如图1和图3所示，蒸发平台3的表面设置有定位磁片4，蒸发舟6的底部安装有磁铁环16，定位磁片4与磁铁环16磁性吸附，蒸发平台3通过定位磁片4吸附磁铁环16使蒸发舟6固定在蒸发平台3的指定位置，避免位置便宜，蒸发舟6包括舟体14，舟体14的内部安装有电阻板15，电阻板15的正负极通过导电柱17伸出舟体14底部，蒸发平台3的表面设置有电极触点5，电极触点5与蒸发平台3底部安装的电源模块13电性连接，蒸发舟6通过定位磁片4移动到指定位置时，其底部的导电柱17正好与电极触点5接触，利用电源模块13供电，使导电柱17的电流流过电阻板15进行加热，放置在电阻板15上的基材因高温蒸发成气体颗粒，实现基片的镀膜。
[0022]对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机用蒸发装置，包括安装在支撑台(1)上的蒸发平台(3)，其特征在于，所述蒸发平台(3)侧边通过铰链(11)铰接有多个用于放置蒸发舟(6)的置物架(2)，且所述置物架(2)的底部通过支撑杆(9)与所述支撑台(1)连接，所述蒸发平台(3)由升降气缸(12)控制上下移动，在所述蒸发平台(3)下降时带动所述置物架(2)向着所述蒸发平台(3)倾斜，使所述蒸发舟(6)根据自身重力移动到所述蒸发平台(3)上进行内部基材的蒸发。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用蒸发装置，其特征在于，所述蒸发平台(3)为圆盘结构，置物架(2)圆周分布在蒸发平台(3)侧边。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用蒸发装置，其特征在于，所述置物架(2)的顶部安装有用于遮盖蒸发舟(6)的盖板(7)，置物架(2)顶部设置滑轨，盖板(7)通过滑轨滑动连接置物架(2)。4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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