一种真空镀膜用溅射靶座制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。保证了基片固定架的稳定性。保证了基片固定架的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜用溅射靶座


[0001]本技术涉及真空镀膜机
，特别涉及一种真空镀膜用溅射靶座。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构
‑
迷走结构
‑
层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0003]真空镀膜机中所用的溅射靶座是用来固定靶材和基片的装置，但是传统的溅射靶座只能允许基片单面镀膜，对于有双面镀膜需求的基片使用起来不方便，而且传统的溅射靶座为了保证靶材的冷却效率，通常靶材与降温用的水冷管直接接触，若是水冷管破裂很容易漏水滴落到靶材上，影响镀膜的正常进行。

技术实现思路

[0004]本技术的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的溅射靶座不方便双面镀膜以及采用水冷降温存在安全隐患的问题而提供一种真空镀膜用溅射靶座，具有方便双面镀膜，提高镀膜效率，使用更安全的优点。
[0005]本技术通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜用溅射靶座，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。
[0006]优选的，所述基片固定架的两侧设置有通过拉伸栓连接的夹持贴片，夹持贴片位于基片固定架内部，拉伸栓位于基片固定架的外侧，且夹持贴片与基片固定架内壁之间套接有弹簧。
[0007]优选的，所述轴承座的外壁套接齿轮盘，齿轮盘与连接在翻转电机电机轴上的主动齿轮啮合。
[0008]优选的，所述靶材固定架的一侧开设用于通过靶材的插口，且靶材固定架的内壁一圈设置限位框。
[0009]优选的，所述正极座靠近靶材固定架的一面铺设金属导热片，金属导热片覆盖在弯曲成S型的水冷管表面，水冷管伸出正极座的进出口均连接有冷却管接口。
[0010]优选的，所述靶材座和基片座上均设置有外延板，外延边之间通过调节丝杆连接，
且调节丝杆穿过其中一个外延边，伸出端套接有调节螺母。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]1、通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。
[0013]2、靶材通过插口可插入靶材固定架的内部，限位框可防止靶材脱落，从而方便了靶材的进料，而且通过金属导热片覆盖用来对靶材进行降温的水冷管，使靶材与水冷管间接接触的同时，保证了冷热传递的效率，也能防止水冷管破裂导致漏水影响靶材的镀膜，提高了使用的安全性。
附图说明
[0014]图1为本技术的溅射靶座整体结构示意图。
[0015]图2为本技术的基片固定架结构示意图。
[0016]图3为本技术的靶材座结构示意图。
[0017]图4为本技术的水冷管分布结构示意图。
[0018]图中：1、靶材座，2、基片座，3、正极座，4、靶材固定架，5、负极座，6、基片固定架，7、调节螺母，8、外延板，9、调节丝杆，10、推杆，11、升降气缸，12、拉伸栓，13、弹簧，14、夹持贴片，15、轴承座，16、连接座，17、齿轮盘，18、主动齿轮，19、翻转电机，20、插口，21、金属导热片，22、磁性柱，23、限位框，24、冷却管接口，25、水冷管。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参考图1和图2所示，一种真空镀膜用溅射靶座，包括正极座3和靶材固定架4组成的靶材座1以及负极座5和基片固定架6组成的基片座2，正极座3和负极座5内均镶嵌不同磁极的磁性柱22，靶材座1和基片座2上均设置有外延板8，外延边8之间通过调节丝杆9连接，且调节丝杆9穿过其中一个外延边8，伸出端套接有调节螺母7，靶材座1和基片座2通过调节丝杆9的连接可以调节二者之间的间距，调节完毕后，再拧紧调节螺母7将间距固定，通过调整基片和靶材的间距，满足不同的镀膜需求。
[0021]基片固定架6和负极座5之间通过推杆10推动可分离，推杆10通过连接座16与基片固定架6连接，连接座16通过轴承座15与基片固定架6转动连接，轴承座15由翻转电机19驱动进行转动，使基片固定架6可沿着长度方向的中轴线翻转，基片固定架6与负极座5之间可分离，当推杆10顶推动基片固定架6离开负极座5时，基片固定架6有足够的翻转空间，此时翻转电机19可以带动基片固定架6翻转180
°
，使固定在基片固定架6上的基片翻面，使基片的一面镀膜完毕后另一面继续镀膜，提高了基片的镀膜效率。
[0022]如图2所示，基片固定架6的两侧设置有通过拉伸栓12连接的夹持贴片14，夹持贴片14位于基片固定架6内部，拉伸栓12位于基片固定架6的外侧，且夹持贴片14与基片固定
架6内壁之间套接有弹簧13，基片固定架6采用夹持贴片14夹持基片的两侧对基片进行固定，夹持贴片14由于弹簧13的弹力紧紧的贴在基片两侧，当基片需要从基片固定架6取下时，只需拉动拉伸栓12，使夹持贴片14离开基片即可取下基片，轴承座15的外壁套接齿轮盘17，齿轮盘17与连接在翻转电机19电机轴上的主动齿轮18啮合，轴承座15与翻转电机19之间采用齿轮传动，转动时更加的稳定可靠。
[0023]如图3所示，靶材固定架4的一侧开设用于通过靶材的插口20，且靶材固定架4的内壁一圈设置限位框23，靶材采用插装的方式安装在靶材固定架4上，限位框23可以防止靶材掉落，如图4所示，正极座1靠近靶材固定架4的一面铺设金属导热片21，金属导热片21覆盖在弯曲成S型的水冷管25表面，水冷管25伸出正极座1的进出口均连接有冷却管接口24，金属导热片21具有传递温度的功能，且隔绝了靶材和水冷管25，避免水冷管25破裂导致漏水，水冷管25弯曲成S型可以增大与金属导热片21的面积，增强降温效果。
[0024]对于本领域技术人员而言本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜用溅射靶座，包括正极座(3)和靶材固定架(4)组成的靶材座(1)以及负极座(5)和基片固定架(6)组成的基片座(2)，所述正极座(3)和所述负极座(5)内均镶嵌不同磁极的磁性柱(22)，其特征在于，所述基片固定架(6)和所述负极座(5)之间通过推杆(10)推动可分离，所述推杆(10)通过连接座(16)与所述基片固定架(6)连接，所述连接座(16)通过轴承座(15)与所述基片固定架(6)转动连接，所述轴承座(15)由翻转电机(19)驱动进行转动，使所述基片固定架(6)可沿着长度方向的中轴线翻转。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用溅射靶座，其特征在于，所述基片固定架(6)的两侧设置有通过拉伸栓(12)连接的夹持贴片(14)，夹持贴片(14)位于基片固定架(6)内部，拉伸栓(12)位于基片固定架(6)的外侧，且夹持贴片(14)与基片固定架(6)内壁之间套接有弹簧(13)。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：