本实用新型公开了一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，包括支架、固定架和真空控制组件，所述固定架内壁之间固定连接有壳体，壳体固定装配有多个电弧靶，且炉内电弧靶前面炉壁上固定安装有多个环架，环架为台阶型环状结构，环架的最外侧固定安...

本实用新型公开了一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机，包括底座、底座顶部一侧设有的机壳、机壳正面一侧铰接连接的大门，本实用新型通过第二支板、支杆、固定架、副齿轮、主齿轮、拉杆、夹持板、拉手和弹簧一配合转轴和电机，使产品能够公转同时自转，...

本发明公开了真空镀膜机多阶段膜层状态检测用遮蔽装置及操作方法，包括炉体，所述调节组件安装有二号固定板，所述二号固定板上安装有遮盖组件，所述遮盖组件上安装有一号遮挡板和二号遮挡板，本发明通过一号遮挡板下表面固定连接有滑块，滑块安装于滑轨内...

本实用新型公开了一种真空镀膜用真空炉，属于镀膜技术领域，包括罐体，罐体底壁转动连接有齿轮盘，罐体的底端固定连接有正反转电机，正反转电机与外部电源电性连接，正反转电机的输出端固定连接有转块，转块位于齿轮盘的内侧，转块的圆周表面开凿有回缩槽...

本实用新型公开了一种镀膜机的基带卷绕装置，包括安装架、基带、供所述基带送料的卷绕机构、蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块，所述卷绕机构安装于安装架的内部，所述蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块均设于安装架的内部且穿插安装在卷绕机构内，且预处...

本实用新型公开了一种镀膜产品展示用样品台，涉及镀膜产品展示技术领域，包括底座和夹持机构，若干夹持机构呈环形结构排列设置在底座的上端面，底座的上方还设置用于照明的灯座；底座包括底板和设置在底板中心位置的通孔，底板呈圆形结构；夹持机构包括导...

本实用新型公开了一种真空镀膜用基片输送装置，属于真空镀膜机技术领域，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动...

本实用新型公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述...

本实用新型公开了一种真空镀膜机的箱体结构，涉及真空镀膜机技术领域，包括箱炉和箱盖，箱盖可转动的密封在在箱炉上，箱炉呈圆柱体结构，箱炉内部设置用于镀膜加工的真空腔室，箱炉侧壁设置若干连通真空腔室的连接口和抽空管，箱炉的外侧壁上还对称设置连...

本实用新型公开了一种真空镀膜机用蒸发装置，属于真空镀膜机技术领域，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，...

本实用新型公开了一种真空镀膜机用镀膜室，属于真空镀膜机技术领域，包括真空罩和位于所述真空罩底部的底座组成的真空室以及与所述真空室之间通过材料进出口相互连通的烘干室，所述烘干室用于对蒸镀材料进行烘干，其底部设置有电热丝和吹风机组成的烘干装...

本实用新型公开了一种原子层沉积装置，属于原子镀膜技术领域，腔体位于下壳体内，上壳体位于下壳体的上侧，腔体的底部设置进气主管，进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置...

本实用新型公开了一种镀膜机用升降式基片台，属于真空镀膜机技术领域，包括内部中空且顶部开口的台体，所述台体的内部安装有通过升降气缸控制升降的基片放置架，所述台体的顶部开口左右铰接有盖板，所述盖板通过连杆结构与所述基片放置架连接，使所述基片...

本实用新型公开了一种镀膜机的多靶位真空室，属于真空镀膜机技术领域，包括真空罩和底座，所述真空罩内安装有多个磁控溅射靶，所述底座上安装有抽真空管，所述底座上安装有旋转座驱动的转盘，所述转盘上圆周分布有若干个基片台架，通过驱动所述转盘旋转使...

本发明公开了一种真空镀膜机，涉及镀膜机技术领域，包括真空炉、转架、推车和抽空机构，抽空机构连接真空炉用于将真空炉抽取真空，转架滑动连接在推车上并被推车送入至真空炉的内部，转架包括转动部和滑动部，转动部包括通过支撑杆连接的第一固定架和第二...

本实用新型公开一种新型双门式塑料真空镀膜设备，包括加工罐和固定槽，所述加工罐的顶端设置有固定槽，在加工罐的内部设置有四个置物盘，然后将需要镀膜的加工件放置在加工罐表面的置物盘的表面，然后通过置物盘表面的扶手转动置物盘，使得置物盘表面均匀...